【課題】塩素系の洗浄液を使用できる簡易な構成の洗浄システムを提供する。
【解決手段】断面がほぼＵ字形の金属製の第１の洗浄槽１１を含む超音波洗浄装置１０と、第１の洗浄槽１１の内側に着脱可能な金属製の第２の洗浄槽２０と、第２の洗浄槽２０の上部開口を覆うことができる蓋４０とを含む洗浄システム１を提供する。第１の洗浄槽１１の底壁には超音波振動子が取り付けられ、第１の洗浄槽１１の上部開口１１ａの周囲は平坦な受け面１９になっている。第２の洗浄槽２０の上部開口２１ａの周囲は鍔状に外側に広がるように形成され、鍔状の部分２２の一部が受け面１９とシリコンゴム製の緩衝材５１を挟んで重なり、蓋４０の内面４１ｂは全体が樹脂層５３により覆われている。このため、第２の洗浄槽２０に塩素系の洗浄液を入れて洗浄したときの塩素臭の広がりを防止できる。 （もっと読む）

【課題】有機物の分解作用、微生物の殺菌作用及び膜状物の剥離作用に優れた風呂釜洗浄剤を用いて、安全かつ簡易に、そして効果的に風呂釜内の洗浄を行う風呂釜洗浄方法を提供すること。
【解決手段】少なくとも風呂水出入穴が水没する水位まで風呂水を浴槽内に張った状態で、風呂水出入穴の浴槽内部側の周囲を所定の容積に区画するように風呂釜洗浄用具を浴槽の壁面に当接する洗浄用具設置工程と、風呂釜洗浄用具で区画された風呂水に、発泡性過炭酸ナトリウムを含有する風呂釜洗浄剤Ａを投入して風呂釜を洗浄する洗浄工程Ａとを含む風呂釜洗浄方法である。 （もっと読む）

【課題】パターン形成された基板に対し、基板上のパターンを損傷することなく、基板上のパーティクルを除去できる基板処理方法を提供する。
【解決手段】加圧された気体と薬液を混合し、ミストを形成する２流体ノズルを用いて、パターン形成された基板にミストを吐出する処理を行うことで、基板上のパーティクルを除去することができる。その基板処理において、基板上のパターンのアスペクト比に対応して、気体流量を変更して処理を行う。好適な処理条件の１つとして、Ａｌ配線パターンが形成された基板上において、アスペクト比２．２未満のパターンが形成された基板に対して、気体流量８０Ｌ／ｍｉｎで処理を行う。アスペクト２．２以上のパターンが形成された基板に対して、気体流量６０Ｌ／ｍｉｎで処理を行う。 （もっと読む）

【課題】フレキシブルな基材に付着した異物を効率よく除去し、また除去した異物が再付着しにくい基材洗浄装置、及び当該基材洗浄装置を用いた基材洗浄方法を提供すること。
【解決手段】本発明の基材洗浄装置は、搬送されてくるフレキシブルな基材１を洗浄する洗浄部２０と、洗浄部２０の下流側に配置され、洗浄された前記基材１を乾燥させる乾燥部４０とを備えている。前記基材１は、少なくとも洗浄部２０に搬送される際に、幅方向が垂直方向に向いた状態で搬送される。 （もっと読む）

【課題】例え気孔径が小さく、高密度で体積の大きな多孔質体であっても、この内部まで効率よく洗浄できるようにする。
【解決手段】密閉空間内に多孔質体１１０を配し、多孔質体１１０の内部を通過する加圧した洗浄液１２４で該多孔質体１１０の内部を洗浄し、その後、前記／又は別の密閉空間内に多孔質体１１０を配し、多孔質体１１０の内部を通過する加圧した純水を多孔質体１１０の内部に供給する。 （もっと読む）

【課題】 従来技術の欠点を解消し、紡糸孔の直径が０．０５ｍｍ以下といった孔径の小さい紡糸口金に対しても、十分な洗浄状態を得ることができる紡糸口金の洗浄装置を提供する。
【解決手段】 紡糸口金の洗浄装置であって、
洗浄流体を加圧する流体加圧装置（１）と、
流体加圧装置（１）で加圧された流体を噴射する流体噴射装置（２）と、
洗浄すべき紡糸口金（３）を固定する固定装置（４）と、
流体噴射装置（２）を洗浄すべき紡糸口金（３）に対して相対的に定置または紡糸口金の口金面に平行な方向に往復運動させる機構を有する駆動位置決め装置（５）とからなる紡糸口金の洗浄装置であって、
固定装置（４）が、紡糸口金に加圧された流体が噴射されることにより、紡糸口金の口金面が振動できるように、洗浄すべき紡糸口金（３）を固定する固定装置であることを特徴とする、紡糸口金の洗浄装置である。 （もっと読む）

【課題】粗洗浄で洗浄水よりも比重の重い異物も軽い異物も除去でき、更には洗浄水の使用量を低減可能なゴム栓洗浄装置を提供する。
【解決手段】ゴム栓を粗洗浄槽(11)で粗洗浄した後、同ゴム栓を前記粗洗浄槽(11)から輸送管(4)を介して本洗浄槽(54)に輸送し、同本洗浄槽(54)内で洗浄、滅菌、乾燥等で処理するゴム栓洗浄装置(1)であって、前記輸送管(4)に配された少なくとも１つの切換バルブ及び／又は開閉バルブ(4a)と、前記洗浄水と同洗浄水よりも比重の軽い異物とを粗洗浄槽(11)からオーバーフローさせて排出する第１排出口(12)と、前記輸送管(4)から前記切換バルブ及び／又は開閉バルブ(4a)を介して分岐され、前記洗浄水と同洗浄水よりも比重の重い異物とを排出する第２排出口(14)と、前記粗洗浄槽(11)内に配され、前記洗浄水と前記比重の重い異物とが通過し、前記ゴム栓を塞き止め可能な下部塞き止め部(15)と、前記粗洗浄槽(11)の下部に配された前記洗浄水の取水口(36)と、を備えてなるゴム栓洗浄装置。
（もっと読む）

【課題】
変形、収縮或いは他の損傷の危機がそれぞれの容器に生じることなしに、感熱性容器、特に合成樹脂製の容器がエネギー投与の下で少なくとも一つの処理媒体の活性化により処理できる方法を提供すること。
【解決手段】
エネギー投与によりそれぞれの容器内の処理媒体を活性化させることによって、瓶、筒状容器或いは同様な容器を処理する、特に殺菌する方法は、電磁放射線を処理媒体に作用させることによる活性化が行われることを特徴とする。
（もっと読む）

【課題】処理液を基板に供給して処理する基板処理装置において、処理による基板の帯電を抑制しつつ基板上の電位分布の均一性を向上する。
【解決手段】基板処理装置１は、基板９に向けて洗浄液の液滴を吐出する吐出部３、吐出部３の吐出口３１近傍に配置される円環状の誘導電極６、吐出部３を基板９に対して相対移動する吐出部移動機構５を備える。基板処理装置１では、誘導電極６と吐出部３の洗浄液管との間に電位差が付与されて洗浄液にプラスの電荷が誘導され、当該洗浄液の液滴により基板９を洗浄することにより、洗浄中における基板９のマイナスの帯電を抑制することができる。そして、吐出部３の移動および洗浄液の吐出と並行して、基板９の帯電特性および吐出部３の基板９に対する相対位置に基づいて、誘導電極６と洗浄液管との間の電位差が電位差制御部１０１により制御されることにより、基板９上の電位分布の均一性を向上することができる。 （もっと読む）

【課題】 超音波洗浄器において、洗浄槽中の洗浄液にほぼ均一で超音波振動を発生させ、洗浄対象物の汚れをムラなく短時間で除去することを提供すること。
【解決手段】 洗浄槽２の底面を構成する底板４は、２３６ｍｍ角で厚さが２ｍｍのステンレス（ＳＵＳ３１６）板である。そして１０８個の圧電セラミック９を、ステンレス（ＳＵＳ３１６）板にエポキシ樹脂を用いて接合している。１個の圧電セラミック９の形状は、長さ５８ｍｍ、幅２．０ｍｍそして厚さ３．０ｍｍである。また、分極方向は厚さ方向である。なお、１個の圧電セラミック９だけの所望の振動モードの共振周波数は約４６０ＫＨｚであるが、底板４と１０８個の圧電セラミック９を接合した構成の超音波振動子の共振周波数は、約４４０ＫＨｚである。次に図示しない超音波駆動回路より約４１５ＫＨｚの周波数の交流電圧を、リード線を通して圧電セラミックに印加する。 （もっと読む）

【課題】パネルを搬送する無端ベルトに滞留した異物を洗浄除去し、洗浄機外部へ排出する機構を備えたパネル洗浄機及び洗浄方法を提供する。
【解決手段】無端ベルト６によりパネル２を定盤１２上に搬送し、洗浄ノズル１から洗浄液を噴出すると共に、洗浄ヘッド３によりパネル２の表面から異物を洗浄除去するパネル洗浄装置において、パネル表面から除去された異物のうち、無端ベルト６の内面に滞留した異物を洗浄除去するために、パネル２の搬送方向における定盤１２の後端部側に洗浄ノズル１３及び排水路１４を設置した。 （もっと読む）

物品を汚染除去する方法であって次のステップが含まれる。すなわち、（ａ）既知温度の複数の物品を第１の通路に沿って移動させ、（ｂ）細長いプレナムを含む第２の通路に沿ってキャリヤガスを搬送し、第２の通路はプレナムより下流で第１の通路に交差し、（ｃ）キャリヤガスをプレナムの上流位置で少なくとも約１０５℃に加熱し、（ｄ）プレナムにおいてキャリヤガスに既知濃度の液体過酸化水素の噴霧ミストを注入し、（ｅ）（１）第２の通路に沿うキャリヤガスの容積流量と、（２）キャリヤガスに注入される過酸化水素の容積と、（３）第１の通路が第２の通路と交差する箇所のキャリヤガス中の蒸気過酸化水素の濃度が物品の既知温度より低い露点温度をもつようにプレナム内に注入されるキャリヤガスの温度とを制御するステップが含まれる。 （もっと読む）

【課題】従来の洗浄装置では、洗浄液が貯留される貯留から洗浄槽へ洗浄液を常に送り、洗浄槽でオーバーフローした洗浄液を、フィルタを介して貯留槽へ戻していた。このような構成では、洗浄槽内の洗浄液中には常にある程度の汚れ等が漂うことになり、洗浄が完了したワークを洗浄液から引き上げる際に、洗浄液中の汚れがワークに再付着するおそれがあった。
【解決手段】貯留槽２の上方に洗浄槽３を配置し、１回の洗浄サイクル毎に洗浄槽３内の洗浄液を排出口３２からすべて貯留槽２へ排出し、洗浄サイクル毎に清浄な洗浄液を洗浄槽３に充填して洗浄を行うことにした。 （もっと読む）

【課題】基板処理装置の大型化を防止しつつ、基板の周囲に多量のマイクロバブルを供給できる基板処理装置を提供する。
【解決手段】この基板処理装置１は、純水供給部４０の経路途中にバッファ槽６３を設け、バッファ槽６３内にマイクロバブル発生器６４ａ，６４ｂを設けている。そして、基板Ｗの処理を行うときには、バッファ槽６３内に多量のマイクロバブルを生成しておき、そのマイクロバブルをバッファ槽６３から処理槽１０へ供給する。このため、小型のマイクロバブル発生器６４ａ，６４ｂを使用して基板処理装置１の大型化を防止しつつ、基板Ｗの周囲に多量のマイクロバブルを供給できる。 （もっと読む）

【課題】充分な洗浄効果が得られ、効率的な洗浄作業を行うことの可能な蒸気洗浄具を提供する。
【解決手段】ノズル２と被洗浄面７との間の間隔を規制するための間隔規制部材をノズルの近傍に設ける。スプレーガン１の先端にノズル２を装着し、間隔規制部材としてのガイドロッド８をノズルの前方に突出させて装着し、その先端に形成した球状部８ａを被洗浄面に当接させて滑動させていきつつ洗浄作業を行う。ガイドロッドを前後方向に位置変更可能とする。あるいはデッキブラシや円形ブラシ等のブラシ本体に蒸気噴射機構を組み込み、ブラシとしてのフィラメント群を間隔規制部材として機能させ、かつノズル周囲に蒸気溜まりの漏れ防止機構を形成する。蒸気管をブラシの柄として機能させる。 （もっと読む）

【課題】 処理槽から基板収納容器を引き上げる際に、基板収納容器に収納された基板同士が吸着することを防止することができる基板処理装置及び基板処理方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 少なくとも、対向する側部の内側に夫々複数の保持溝を有し、底部に開口部を有する基板収納容器と、内部に処理液を保持する処理槽とを具備し、前記保持溝に複数の基板を各々縦向きで並列に保持した基板収納容器を前記処理槽に保持された前記処理液に浸漬して前記複数の基板を同時に処理する基板処理装置であって、前記処理槽は、その底部に、上に凸形状であり、上端部で前記基板の下端部を支持する支持具を１つ以上具備するものであり、前記基板収納容器の底部の開口部を、前記支持具に挿入することによって、前記基板収納容器に保持された複数の基板を同時に持ち上げて保持することができるものである基板処理装置及びこれを用いた基板処理方法。 （もっと読む）

【課題】共振周波数が振動板の全部位で一定に保たれるようにして、被洗浄物に対して常に均一な精密洗浄が行える超音波洗浄装置を提供する。
【解決手段】超音波洗浄装置は、洗浄液が溜められた洗浄槽と、洗浄槽内の洗浄液に５００ｋＨｚ以上の超音波振動を伝搬させるための超音波振動体とを備えた超音波洗浄装置であって、 超音波振動体は、複数枚の平板状超音波振動素子が振動板上に並べて接着された複合素子配置構造体を有し、複数枚の平板状の超音波振動素子のおのおのは、所定の対象洗浄領域に対して平坦状の超音波放射特性を持つ形状を有し、超音波振動の周波数ばらつきを抑えて超音波振動体の全面において実質上均一な超音波放射特性が得られるように研磨加工および研削加工の機械加工により前記振動板の振動部位の板厚差が±３％の範囲内のものとする振動板としたものである。 （もっと読む）

【課題】
高品位の画像表示が可能な液晶カラーフィルターを容易に生産することが可能となる基板洗浄装置の提供が求められていた。
【解決手段】
洗浄液供給手段と超音波印加手段と基板駆動部を備え、洗浄液供給手段はフロントリップとリアリップ及びこのフロントリップ又はリアリップのいずれか一方に形成されたマニホルド部と洗浄液を吐出するスリット部を含み、スリット部がフロントリップ及びリアリップが平行に向かい合うことで基板駆動部の駆動方向と垂直方向に形成されており、スリット部がマニホルド部に接続され、マニホルド部は洗浄液の導入口が接続され、マニホルド部の幅は前記フロントリップ又はリアリップの少なくともいずれかと略同一の幅である事を特徴とする基板洗浄装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】 汚染有機物の除去性能を高めることができる超音波洗浄方法を提供する。
【解決手段】洗浄ヘッド１１のスリット１９を介して基板Ａに、マイクロバブルを含んだ洗浄液を供給するとともに、スリット１９に向けて集束するように超音波を照射させて基板Ａの洗浄を行なう。 （もっと読む）

【課題】流量の瞬時値が短時間で変動することの影響を回避することにより、流量の適否を正確に判断することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】供給配管１７を流れる処理液の流量を瞬時値で捉えるのではなく、移動平均値算出部４５により平均流量値ＡＶを求め、この平均流量値ＡＶにより判断部５１が処理液の供給の適否について判断する。したがって、処理液の流量が短時間で変動しても均されるので、流量の適否を正確に判断することができる。 （もっと読む）