【課題】洗浄水中に微細気泡が長時間浮遊することによって微細気泡洗浄と超音波洗浄の切り替え時間が長くなることを防止する。
【解決手段】洗浄水として洗浄槽気泡の合一を抑制する添加剤を加えた液を使用し、洗浄槽に微細気泡を噴射する微細気泡発生装置と、洗浄水に超音波を照射する超音波振動子とを備えた洗浄装置において、洗浄槽に洗浄水中の微細気泡を除去する機構を設けた。 （もっと読む）

【課題】ワークの形状が複雑であっても、ワークの十分な水切りが可能な水切り装置を提供すること。
【解決手段】水が付着したワーク２の水切りを行う水切り装置１は、ワーク２が浸漬される水切り槽３を備えている。水切り槽３には、ワーク２の水切りを行うための水切り用溶剤が満たされている。また、水切り槽３の底面側には、水切り槽３に水切り用溶剤を供給するための供給口３ｂが形成され、水切り用溶剤は、供給口３ｂから水切り槽３の上端側に向かって供給されている。 （もっと読む）

【課題】基板表面に対するダメージの発生及び処理力の低下を防止することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１において、被処理面を有する基板Ｗを保持して回転させる回転機構５と、回転機構５により回転する基板Ｗの被処理面に対して処理液を供給する供給ノズル６と、供給ノズル６を基板Ｗの周縁に向かって並ぶ複数の供給位置に順次移動させる移動機構７と、被処理面上の処理液の液膜厚を測定する測定部８と、測定部８により測定された液膜厚に応じて、複数の供給位置毎に基板Ｗの回転数を変更し、被処理面上に形成された液膜厚が一定になるように基板Ｗの回転数を制御する手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】被洗浄物に付着した水分等を除去するにあたり、乾燥速度が速いとともに、被洗浄物に対する濡れ性に優れ、かつ安全性が高い速乾性液体組成物、そのような速乾性液体組成物を用いた水分等の洗浄方法、および洗浄装置を提供する。
【解決手段】エチレングリコールモノノルマルブチルエーテル等と、水と、を含むとともに、全体量に対して、エチレングリコールモノノルマルブチルエーテル等の含有量を５〜６０重量％の範囲内の値とし、かつ、水の含有量を４０〜９５重量％の範囲内の値とする速乾性液体組成物、そのような速乾性液体組成物を用いた水分等の洗浄方法および洗浄装置である。 （もっと読む）

【課題】微小気泡を含む液体中に存在する微小気泡の数を管理するにより、基板処理を均一に行うことができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置１は、基板Ｗに対して微小気泡を含む液体４０を供給して基板Ｗを処理し、気体と液体から微小気泡を含む液体を生成する微小気泡生成装置３０と、微小気泡を含む液体内の微小気泡の数を測定するための測定部５０と、測定部から微小気泡の数の測定値が与えられる制御部２０と、制御部２０の指令により微小気泡を含む液体を基板Ｗに供給する供給部１５とを備える。 （もっと読む）

エンクロージャの壁の内側の面に流体を噴霧するための装置。この装置は、流体用のリザーバと、流体がエンクロージャの壁の内側の面に噴霧されるノズルアセンブリと、リザーバおよびノズルと流体が連通した状態の流体導管と、ポンプアセンブリが作動したとき、リザーバから流体導管を通ってノズルへ流体を供給するためのポンプと、ポンプと電気的に繋がり、ポンプを作動および停止させるために、格納されたプログラムを実行するコントローラと、を含む。ノズルアセンブリは流路内の流体の向きを定めるノズルを含み、ノズルアセンブリは流路内の流体と接触し、その向きを変えるような大きさの一つまたは複数の偏向シールドをさらに含み、ノズルアセンブリはノズルをエンクロージャの壁の内側の面付近に取り付けるための取付け構造体をさらに含む。偏向シールドから出てくる流れは層流である。
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実質的に鉛直平面で設置された実質的に平面のガラスシート（３０）を処理する装置（１０）である。一態様において、このガラスシートはＬＣＤディスプレイ用のものである。ガラス処理装置は、洗浄区域（２００）、すすぎ区域（３００）、乾燥区域（４００）、およびガラスシートを搬送路（１００）に沿ってその中で移動させるための下部ローラ（５１０）を含む。洗浄区域は、ガラスシートを損傷させずに支持および駆動するよう構成された駆動ローラ（５３０、５４０）を含む。すすぎ区域は、ガラスシートを過剰に振動させずにすすぐよう配置されたノズル（３１０、３２０）および液体軸受（３３０、３４０）を含む。さらに、乾燥区域は、ガラスシートを過剰に振動させずに乾燥するよう配置されたエアナイフ（４１０、４２０）および流体軸受（４４０、４５０）を含む。
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【課題】水を主体とする洗浄水と微細気泡によって洗浄し、洗浄後のすすぎ工程を省略することによって、環境負荷を抑制する。重量物となる被洗浄物容器の着脱を容易にし、作業者の肉体的負担を軽減し作業効率を向上させる。
【解決手段】被洗浄物を収納する被洗浄物容器２０と、容器を摺動させて装置内外に搬入出する摺動保持機構部９０と、容器を洗浄水に浸漬する洗浄槽３０と、容器を洗浄槽に浸漬及びその引き揚げを行う昇降機構部４０と、昇降機構部に設けられ、容器を回転させる回転機構部５０と、洗浄槽の洗浄水から油脂分を分離する油水分離部８０と、浸漬洗浄中の被洗浄物容器２０に対して、気泡を含む洗浄水流を噴射する気泡発生部６３及びノズル６４と、洗浄槽から引き揚げられ、回転された洗浄後の容器に対して、水切り用の空気流を噴射する水切り機構部７０とを備える。 （もっと読む）

【課題】 この発明はカップ体内に設けられた仕切体を上昇させた状態及び下降させた状態のいずれであってもカップ体内を確実に排気できる処理装置を提供することにある。
【解決手段】 カップ体２内に設けられた回転テーブル３と、カップ体内の雰囲気を排出する第１の排気ブロア２１と、回転テーブルの外周とカップ体の内周との間に周方向全長にわたって設けられる固定仕切体１１及び上下駆動手段１３によって上下方向に駆動される可動仕切体１２を有し、上昇方向に駆動されたときに基板から飛散する処理液を内周面に衝突させる仕切体と、仕切体の内周面に衝突してカップ体の内底部に落下した処理液を回収する気液分離器２２と、仕切体の周壁に設けられ仕切体を上昇させて処理液を回収するときに第１の排気ブロアによる排気経路が仕切体によって遮断されるのを阻止する気体を通過して液体の通過を阻止する材料によって形成された通気性部材１２ａを具備する。 （もっと読む）

【課題】彫刻欠陥、特にキャップの効果的な除去方法であって、彫刻エッジを損傷しない方法を提案する。
【解決手段】本発明は、フレキシブルキャリア上に堆積された金属膜からマスク投影レーザーアブレーション彫刻欠陥を除去する方法に関する。本発明によると、前記方法は、約１５００ＰＳＩから約３０００ＰＳＩの間で加圧された液体を前記欠陥上に噴霧することを含む。 （もっと読む）

【目的】 灯油の入れ替え作業を軽減する灯油洗浄台を提供する。
【構成】 灯油を受け入れるための洗浄槽と、洗浄槽の底部に接続され、第１開閉弁が介在されたドレン管と、洗浄槽の下方に配置され、前記ドレン管と接続された圧力容器と、圧力容器の上部に接続され、第２開閉弁が介在された空気抜き管と、圧力容器に接続され、第３開閉弁が介在された圧縮空気供給管と、圧力容器の底部に接続され、前記第１開閉弁及び第２開閉弁を閉じた状態で前記圧縮空気供給管を介して圧縮空気を前記圧力容器内に圧入することにより該圧力容器内の灯油を押し出すための排油管と、を有する。 （もっと読む）

本発明は、多様な用途として使用されうる噴射ノズルに係り、さらに詳細には、洗浄またはデバリングのために気体または液体を高圧で対象物の表面に噴射させるが、直線運動だけでも効率的に洗浄などを行うことができる噴射ノズルのための技術に関する。噴射ノズルには主な構成として、内部に空洞部が設けられて、供給される物質を複数の噴射孔を介して排出させる噴射ノズルにおいて、前記噴射孔は、噴射ノズルの先端部または外周面に形成されるが、曲率を有して空洞部から外部に向かって次第に断面積が広くなり、かつ曲がりつつ形成される。 （もっと読む）

【課題】 雌ねじ部が形成された加工穴をきれいに洗浄することができる技術を提供する。
【解決手段】 ワーク１２をロボット８によって支持し、ワーク１２に形成される加工穴１４と洗浄ノズル２２を対向させて、洗浄ノズル２２から洗浄流体を噴射する。このとき、洗浄ノズル２２は、加工穴１４の内壁に形成されたねじ溝３６に向けて洗浄流体を斜めに噴射し、加工穴１４の内部にねじ溝３６に沿って旋回する洗浄流体の旋回流を発生させる。 （もっと読む）

【課題】簡単な構造で、流速又は衝突力を低下させることなく、微細気泡を含む水流を広い角度範囲で生成できるノズル及びそれを備えた装置を提供する。
【解決手段】気泡発生ノズルは、ベンチュリ管を形成する液体流路（ノズル本体１の上流側から先端部の噴出口６に向かって、流路幅が絞られた最小流路部４と、この最小流路部の下流域で流路幅が拡がる拡大流路部５とで構成された液体流路）と、前記最小流路部と合流する気体流路７，８と、前記ノズル本体１の前方方向に延び、噴出口の中心軸線に向かって放物線状に湾曲して形成され、かつ噴出口からの流体を広角に案内するためのガイド壁９とを備えている。ガイド壁のガイド面１０は幅方向に断面Ｕ字状に湾曲している。 （もっと読む）

【課題】処理液の消費量を減らすことができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】処理液を用いて基板に対して液処理を施す複数の処理部２２−１乃至２２−６と、複数の処理部２２−１乃至２２−６に処理液を供給する複数の処理部２２−１乃至２２−６で共通の処理液供給管２１０と、複数の処理部２２−１乃至２２−６のうち、稼働する処理部の数に応じて、処理液供給管２１０中の処理液の流量を増加又は減少させるように制御する流量制御部２２０と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】ミストの漏洩防止および排気が十分になされ、加工装置が備える他の機器や部品へのミストによる悪影響を防止する。
【解決手段】ケーシング２０内の洗浄室２１に設けたスピンナテーブル３０にウェーハ（ワーク）Ｗを保持し、ケーシング２０上方の開口をフラップ２５で閉じ、洗浄室２１内を密閉した状態で、スピンナテーブル３０を回転させ、洗浄水供給ノズル５０から、回転するウェーハＷの上面に洗浄水を供給して洗浄するスピンナ洗浄装置１において、洗浄室２１内の、スピンナテーブル３０の保持面３０Ａよりも上方に配したエアブロワ７０から下向き、かつスピンナテーブル３０の回転方向に沿った方向に空気を噴出させて、発生するミストを下方におさえ込み、ケーシング２０の下部に接続した排気管６０からミストを外部に排出する。 （もっと読む）

【課題】基板の上面に対向し近接して押付部材を配置し基板の処理を行う場合に、高温の処理液を使用するときでも、基板の面内温度の均一性を高め、押付部材の下面と基板上面とで挟まれる空間における温度の上昇を抑えることができる装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗの上面に対向し近接して配置される雰囲気遮断板のプレート部６０の内部に、その中央領域から周辺領域の気体噴出口８０に向かって気体を流通させる気体通路８４を形成し、気体通路の途中を部分的に狭隘にし、その狭隘通路部分１２６とプレート部の下面側とを連通させる吸引細孔１２８を形成して、気体通路にエジェクタ部１１６を設け、吸引細孔の、プレート部の下面に開口する吸い込み口１３０を、気体噴出口よりプレート部下面の中心寄りに配置する。 （もっと読む）

【課題】多結晶シリコン反応炉の内壁面の付着物を容易かつ確実に除去することができる反応炉洗浄装置を提供する。
【解決手段】多結晶シリコンを生成する反応炉７０の二重構造の炉壁の内壁面７２を洗浄する反応炉洗浄装置１において、水平状態に設置された略円盤形状の受け皿１０に排液口１２を形成するとともに、受け皿１０の外周部に反応炉７０の開口縁部が設置されるフランジ部１３を形成し、受け皿１０の中央部に形成した貫通孔１１に、回転自在かつ鉛直方向に移動自在にシャフト２０を設け、シャフト２０の上端部に、三次元方向に洗浄水を高圧噴射するノズル装置５０を設け、シャフト２０の受け皿１０よりも下方部分に、該シャフト２０を回転させるとともに鉛直方向に移動させる駆動機構３０を設け、反応炉７０の炉壁７０に、その外壁７０Ａと内壁７０Ｂの間にスチームを供給するためのスチーム配管６２を設ける。 （もっと読む）

【課題】基板の主面に対して均一なエッチング処理を施すことができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１は、スピンチャック４に保持されたウエハＷの上面にフッ硝酸を供給するためのフッ硝酸ノズル５と、スピンチャック４に保持されたウエハＷ上面の周縁部に向けてＤＩＷを供給するためのＤＩＷノズル７とを備えている。エッチング処理時には、フッ硝酸ノズル５からフッ硝酸が吐出されつつ、フッ硝酸ノズル５が往復移動される。フッ硝酸ノズル５からのフッ硝酸の吐出と同時に、ウエハＷ上面の周縁部に、フッ硝酸を希釈するためのＤＩＷが吐出される。 （もっと読む）

本発明は、アルカリ過酸化物洗浄において低温洗浄を向上させるための活性化複合体の利用を提供する。活性化複合体、活性酸素源、およびアルカリ源を含む組成物が、約５℃〜約５０℃の温度で被洗浄面に塗布される。本発明の方法は、エネルギー、水および化学物質の消費量低減と共に、汚れ除去の強化を実現する。 （もっと読む）