【課題】本発明の目的は、ハードディスクなどの精密研磨用途において、ナノファイバーレベルの超極細繊維を表面に有することにより、スクラッチおよび微小な突起の除去を達成することが可能な、高性能研磨布を提供することである。
【解決手段】静電紡糸法により製造された、平均繊維径が１．０ｎｍ〜１．０μｍの極細繊維構造体と、平均繊維径が０．５０〜１０μｍの細繊維構造体が積層した複合繊維構造体とからなることを特徴とする研磨布である。 （もっと読む）

【課題】ドレッシング処理によって十分な毛羽立ちを可能とし、かつ研磨パッドに対する研削能力を長期間に渡って保持することが可能なＣＭＰ加工用加工用のドレッサを提供する。
【解決手段】ＣＭＰ加工装置に備えられた研磨パッドをドレッシング処理するために用いられるドレッサ４であって、研磨パッドに対向する略円形の支持面４ｂと、支持面４ｂの中央部４ｃからほぼ放射状に延びる３以上の帯状の砥粒保持部４１Ａ〜４１Ｈと、隣り合う砥粒保持部４１Ａ〜４１Ｈ同士によって挟まれたほぼ扇形の領域Ｍにあって、いずれか一方の砥粒保持部４１Ａ〜４１Ｈと平行に並んで配置される複数の砥粒保持平行部４２と、扇形の領域Ｍにあって、一方の砥粒保持部４１Ａ〜４１Ｈ及び前記複数の砥粒保持平行部４２の間にそれぞれ設けられた帯状の砥粒非保持部４３と、を具備してなることを特徴とするＣＭＰ加工用のドレッサ４を採用する。 （もっと読む）

研磨面を表面と接触させて回転往復運動させることによって表面を研磨する方法、回転往復運動する工具で使用するための研磨体、及び、表面の欠陥を除去する方法であって、回転往復運動する研磨面を用いたサンディングの後で１回以上のポリッシュ操作を行う方法を開示する。
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【課題】研磨面の発熱を抑制してバフ目の発生を抑制するという塗装仕上げ研磨用や粗仕上研磨用のバフ体を用いるバフ研磨方法を提供する。
【解決手段】
円盤体を回転させることにより、円盤体の研磨面を被研磨体面に接触させることにより被研磨体面を研磨できる研磨用バフ体において、研磨面の形状が円盤の外周から中心部に向けて半径の2〜40%の領域の一部を切り取った形状の円盤体であり、円盤体の研磨面を構成する素材を、起毛布、羊毛、綿、フェルト、ネル布、不織布、タオル地、スポンジから選ばれる素材で構成したことを特徴とする研磨用バフ体を用いるバフ研磨方法。 （もっと読む）

【課題】低密度で、引張強さ、伸び等の機械的物性に優れたポリエステル系ポリウレタン発泡体を提供する。
【解決手段】ポリエステル系ポリウレタン発泡体は、ポリオール類、ポリイソシアネート類、発泡剤及び触媒を含有するポリウレタン発泡体の原料を反応させ、発泡及び硬化させて得られる。その場合、ポリオール類は水酸基の官能基数が２〜３で、数平均分子量が５００〜１３００、好ましくは５００〜８００のポリエステルポリオールを含有する。発泡剤として水をポリオール類１００質量部当たり１．５〜３質量部用い、ポリイソシアネート類は２,４−トリレンジイソシアネートを６５〜７５質量％含有するトリレンジイソシアネートを用いる。さらに、イソシアネート指数が８５〜１３０に設定される。発泡体の見掛け密度は３５〜６５ｋｇ／ｍ^３、引張強さは１４０〜４００ｋＰａ及び伸びは１００〜２５０％である。 （もっと読む）

【課題】低密度で、特に引張強さ、伸び等の機械的物性に優れたポリエステル系ポリウレタン発泡体を提供する。
【解決手段】ポリエステル系ポリウレタン発泡体は、ポリオール類、ポリイソシアネート類、発泡剤及び触媒を含有する発泡体原料を反応させ、発泡及び硬化させてなるものである。この場合、ポリオール類は水酸基の官能基数が１．５〜２．５である少なくとも２種のポリエステルポリオール、そのうち少なくとも１種は数平均分子量が３００〜５５０のフタル酸エステル系ポリオールである。発泡剤として水をポリオール類１００質量部当たり１．５〜３質量部、ポリイソシアネート類は２,４−トリレンジイソシアネートを６５〜７５質量％含有し、イソシアネート指数が８５〜１３０に設定される。係るポリエステル系ポリウレタン発泡体は、見掛け密度が３５〜５５ｋｇ／ｍ^３、引張強さが２４０〜４００ｋＰａ及び伸びが３００〜４５０％である。 （もっと読む）

【課題】高精度の研磨作業を安定して効率良く行うことのできる研磨ブラシ、円盤状基板の研磨装置および円盤状基板の製造方法を提供する。
【解決手段】研磨ブラシ１５０は、軸芯１５１の周囲にブラシ列１５２を螺旋状に巻き付け固定して形成される。ブラシ列１５２は、ブラシ毛材１５４を、芯金１５５を巻くようにその中央部分で二つ折りにし、その芯金１５５を巻回する屈曲部分を外側からブラシ基材としての基部金具１５６でカシメ、芯金１５５に一体に固定して成る。ブラシ毛材１５４の両側の毛先は、先端が互いに当接して寄りかかり、両側の多数のブラシ毛材１５４の毛先が芯金１５５の周方向にまとまっている。 （もっと読む）

【課題】 安定的に研削液を供給でき、ドレッシング時における成形が精度良く行われ、加工面精度（真直度）が高い研削加工が可能とされた軸付き砥石を提供する。
【解決手段】 外周に向けて研削液を噴射する噴射孔７ｂが形成された軸体５と、軸体５の先端に固定された砥石３とを備え、軸体５の先端の反対側に位置する基端部には、回転軸に接続されるネジ部５ｂが設けられていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】斜面取り部のチッピングを除去したガラス基板を低コストで製造できるガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】所定の厚さを有する薄板ガラスを複数枚積層して固着、一体化し、ガラスブロックを形成するガラスブロック形成工程と、前記形成したガラスブロックをコアリングしてドーナツ状ガラスブロックを形成する内外径コアリング工程と、前記形成したドーナツ状ガラスブロックの内周および外周の端面を研削する内外周端面研削工程と、前記内周および外周の端面を研削したドーナツ状ガラスブロックを個々のドーナツ状ガラス基板に分離して該分離したドーナツ状ガラス基板を洗浄する分離洗浄工程と、前記洗浄したドーナツ状ガラス基板の内周および外周のエッジ部を斜面取りする内外周斜面取り工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】スラリー中への金属元素の溶出を防止したＣＭＰコンディショナを提供する。
【解決手段】セラミックスや耐食樹脂や圧延材等からなるシート１２に多数のテーパ孔１４を形成してダイヤモンド粒１６を収容する。各ダイヤモンド粒１６の一部分がテーパ孔１４の開口から突出した状態で、シート１２とダイヤモンド粒１６とを接着剤２６で接着して固定した。ダイヤモンド粒１６がシート１２の多数のテーパ孔１４に機械的に位置決めされるので脱落がなく、接着剤も金属を含まないものが使用できる。従って、ＣＭＰ装置によって研磨される半導体ウェハ等の被研磨面にスクラッチが発生するのを防止できる。さらに、高品位のディバイスを形成するための研磨パッドを、長時間安定にコンディショニングできる。 （もっと読む）

【課題】製造効率の良い情報記録媒体用ガラス基板を加工する情報記録媒体用ガラス基板加工用ドリルを提供する。
【解決手段】円板の中央に円形の孔を有するガラス基板を前記ガラス基板より大きな板状のガラスから加工する情報記録媒体用ガラス基板加工用ドリルにおいて、前記円板の外径と前記円形の孔とを同時に加工し、且つ、前記円形の孔を加工する内径カッターと前記内径カッターを内包し前記円板の外径を加工する外径カッターとが分離可能である。 （もっと読む）

【課題】研削作業は砥石車の振動が制御された状態で、高い効率で行うことができ、こうして、研削されたミルロール上には最適な表面品質が形成される。
【解決手段】比較的低い弾性率値と比較的高い破裂速度値とを有する耐チャター性砥石車を用いて、ミルロールの研削が行われる。 （もっと読む）

【課題】面粗さが同等の溝底径が異なる複列の軌道溝を同時研削することができるようにした車輪軸受装置における軌道溝の研削方法を提供することである。
【解決手段】外輪１０内周に対して小径の軌道溝１１ａを研削する溝研削部３を第１回転砥石Ｔ_１の外周に設け、外輪１０内周に対して大径の軌道溝１１ｂを研削する溝研削部４を第２回転砥石Ｔ_２に設け、その第１回転砥石Ｔ_１と第２回転砥石Ｔ_２を外輪１０の内側に位置させ、外輪１０の軌道溝形成部位に溝研削部３、４押付けた状態で第１回転砥石Ｔ_１と第２回転砥石Ｔ_２のそれぞれを一体的に回転させると共に外輪１０も回転させて、溝研削部３、４で外輪１０の内周に軌道溝１１ａ、１１ｂを研削する。このとき、第１回転砥石Ｔ_１の砥石仕様をその砥粒の粒度が第２回転砥石Ｔ_２の砥粒の粒度より小さい砥石仕様として、小径軌道溝１１ａの面粗さを高めるようにする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、大型ワーク表面を洗浄または研磨するカップ状工業ブラシ毛素材およびカップ状工業ブラシ毛素材の製造方法に関するものである。
【解決手段】本発明のチャネルは、重量を軽減するために、合成樹脂製とし、この間に並べられたブラシ毛が植設される。前記合成樹脂製チャネルの側部は、巻き芯に沿い、互いに側部を付けて巻回される。前記合成樹脂製チャネルは、前記巻き芯に巻回される際に、前記合成樹脂製チャネルの側部どうしが互いに溶着されて溶着部となる。本発明のカップ状工業ブラシ毛素材は、チャネルが合成樹脂製であるため、軽量化が達成できると同時に、チャネルの側部をそれぞれ溶着することができ、巻き芯を除去した際に、カップ状ブラシ毛素材として容易に完成させることができる。 （もっと読む）

【課題】円盤状基板の中心の開孔を極めて精度よく研磨することのできる内周研磨方法を提供する。
【解決手段】中心に開孔を有する円盤状基板の開孔にブラシを挿入するステップ（Ｓ１０３）と、ブラシの一端と他端とを互いに離間する位置に設けられた一対の回転軸に固着するステップ（Ｓ１０５）と、ブラシまたは円盤状基板の少なくとも一方を回転させて研磨するステップ（Ｓ１０８）とを備えた。 （もっと読む）

【課題】使い始めから使い終わりまでほぼ一定の穿孔性能を保持することができ、軽い力でも所定の穿孔性能を出す。
【解決手段】工具本体２の前方側に突出して設けられたビット駆動軸３と、該ビット駆動軸３の先端に取り付けられたダイヤモンドビット４を回転させることによりコンクリート等を穿孔するドリル工具であって、工具本体２は、大きさが脈動して上記ビット駆動軸３に沿って変化する加振力を上記工具本体２に発生させる加振装置を備え、上記ダイヤモンドビット４は、上記ビット駆動軸３の先端に取り付けられたベース２４と、該ベースに固定されて一側に開口する凹欠部３１を有する略環状又は円柱状の第１のダイヤモンド砥石体２５と、上記凹欠部３１内に設けられた第２のダイヤモンド砥石体２６とを有し、第２のダイヤモンド砥石２６体は、第１のダイヤモンド砥石体２５よりも低く形成されている。 （もっと読む）

【課題】光コネクタ端面を高精度に研磨でき且つ高い耐久性をもつ研磨材の提供。
【解決手段】エポキシ化合物及び硬化剤を反応させて形成された熱硬化性樹脂組成物から構成されたバインダー材をもつ研磨層を有することを特徴とする。つまり、バインダー材にいわゆるエポキシ樹脂を採用することで研磨材の耐久性を高くすることができた。種々の材料について検討した結果、バインダー材にエポキシ樹脂を採用することで研磨材の耐久性を向上することができた。特に、前記硬化剤としてフェノール性水酸基を２つ以上もつ芳香族化合物を採用することが耐久性向上の観点から望ましい。エポキシ化合物及び硬化剤を反応させて形成された熱硬化性樹脂組成物から構成することで、分散している研磨材用砥粒を確実に保持することができるので、得られた研磨材の耐久性を高いものにすることができる。 （もっと読む）

【課題】光コネクタ端面を高精度に研磨できる研磨材の提供。
【解決手段】球状シリカ微粒子と、その球状シリカ微粒子を１００質量部とした場合に１質量部以上１０質量部以下の破砕シリカ微粒子とを有し、５μｍ以上の粒径をもつ粒子を実質的に含有しない研磨材用砥粒をもつ研磨材。５μｍ以上の粒径をもつ粒子を含まないことでアンダーカットやスクラッチの発生が低減できる。そして、球状シリカ微粒子の存在により砥粒の脱離が抑制された状態でアンダーカットの発生が少ない研磨を行うことができると共に、所定量の破砕シリカ微粒子を含有させることで研削能力が向上できる。また、粒径を上述の範囲に制御したことでアンダーカットの発生を抑制できる。 （もっと読む）

【課題】板状体の破損を防止して安定的な研削加工を行うことができる板状体の製造方法を提供する。
【解決手段】研削加工面の高低差が０．２ｍｍ以下であるように管理された研削加工定盤を用いて板状体を研削加工する。 （もっと読む）

【課題】被クリーニング物の表面にスクラッチを形成させずに、不要な突起やパーティクルを被クリーニング物の表面から除去し、被クリーニング物の表面を清浄化できるクリーニングテープ及び方法を提供することである。
【解決手段】本発明のクリーニングテープ１０は、合成樹脂からなる基材テープ１１、及びこの基材テープ１１の表面に形成した研磨層１４から構成され、研磨層１４は、水酸化アルミニウム粒子１２、及び水酸化アルミニウム粒子１２を固定する樹脂１３を含む。磁気ハードディスクの表面のクリーニングは、磁気ハードディスク３０を矢印Ｒの方向に回転させ、この磁気ハードディスク３０の潤滑膜の表面に、コンタクトローラ２１を介してクリーニングテープ１０の研磨層１４の表面を押し付け、このクリーニングテープ１０を磁気ハードディスク３０の回転方向Ｒと反対の方向Ｔに送ることによって行われる。 （もっと読む）