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Fターム[3C081BA72]の内容

マイクロマシン (28,028) | 形状、構成 (11,743) | 配置状態 (433) | アレイ、マトリックス状 (402)

Fターム[3C081BA72]に分類される特許

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【課題】静電気動作と解放を備えたアナログ光干渉変調器デバイスを提供する。
【解決手段】微小電気機械システム(MEMS)デバイスは、第一の電極と、第一の電極から電気的に絶縁された第二の電極と、第一の電極と第二の電極とから電気的に絶縁された第三の電極とを有している。MEMSデバイスはまた、第一の電極を第二の電極から分離する支持構造と、第一の位置と第二の位置との間に配置され移動可能な反射素子とを有している。反射素子は、第一の位置にあるときにはデバイスの一部に接触しており、第二の位置にあるときにはデバイスの一部に接触していない。反射素子が第一の位置にあるとき、反射素子と一部との間に接着力が生成される。第一の電極と第二の電極と第三の電極とに印加された電圧が接着力を少なくとも部分的に低減または相殺する。 (もっと読む)



【課題】電界シールド基板と板ばねとの衝突を防止し、素子の歩留りを向上させる。
【解決手段】MEMS素子は、ミラー基板100と、ミラー基板100と対向して配置される電極基板200と、ミラー基板100に接合される電界シールド基板300aと、ミラー基板100に対して変位可能に形成された可動電極である板ばね105aと、電極基板200上に形成された固定電極である板ばね駆動電極201aと、電界シールド基板300aのミラー基板100と対向する側の面上に形成され、ミラー基板100の開口部101に嵌挿されるシールド電極302とを備える。電界シールド基板300aの水平方向の大きさは、開口部101の水平方向の大きさよりも大きく、シールド電極302の厚さは、開口部101の深さと同じかあるいは開口部101の深さよりも薄い。 (もっと読む)



【課題】可動部の設計変位を生じ易くしながら、意図しない変形は生じ難くすることが可能なマイクロ構造体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】マイクロ構造体は、基板9と、基板9に固定された固定支持部4と、第1の可動部6と、第2の可動部3と、第1の可動部6と固定支持部4とを弾性的に連結する弾性支持部5を有する。第2の可動部3は第1の可動部6に固定され、第1の可動部6と第2の可動部3は、弾性支持部4により、固定支持部4に対して一体的に変位可能に弾性支持される。 (もっと読む)


【課題】基板の伸びとマイクロ構造体の伸びの差などによる応力の弾性支持部への伝達が低減されたマイクロ構造体を提供する。
【解決手段】マイクロ構造体18は、電極基板などの基板9と、基板9に支持部1を固定する1つのポスト10と、支持部1の外周に枠状に配置される可動部5と、可動部5と支持部1とを弾性的に連結する弾性支持部2、3、4を有する。弾性支持部2、3、4は、支持部1に対して枠状の可動部5を可動に支持する。弾性支持部は、ねじりバネ2、4、弾性変形可能な連結部3などにより構成される。 (もっと読む)


【課題】サスペンション・プレートと少なくとも1枚の固定された容量性プレートとを有する平面型サスペンション構造を用いた加速度計ないし地震計を提供する。
【解決手段】サスペンション・プレート2はワンピース部品として形成されており、外側枠体と、一対の可撓性エレメント集合体と、それら可撓性エレメント集合体の間に設けられた一体型のプルーフマス8とを備えている。可撓性エレメント6はプルーフマス8をサスペンションの平面内の感度軸方向に可動にすると共に、全ての軸外方向への移動を規制している。プルーフマス8の軸外方向の移動は可撓性エレメント6の間に配設された複数の中間枠体を用いる。 (もっと読む)


【課題】製造プロセスの簡素化が可能で、低電圧駆動による高ストローク出力が可能なアクチュエータを用いた乱流制御装置を提供する。
【解決手段】流体との境界面を形成する壁に設置される乱流制御装置であって、振動板(30)の面上に第1電極(40)、圧電体膜(44)及び第2電極(46)が積層されて成るダイアフラム型圧電アクチュエータ(20)群を備える。第1電極(40)及び第2電極(46)間への電圧印加により可動部(32)を変位せて流体との境界面を変形させることで、壁乱流を制御する。 (もっと読む)



【課題】干渉変調器の製造を改善するための方法及びシステムを提供する。
【解決手段】干渉変調器の動作光学範囲内の光の波長に対する閾値未満の吸光係数(k)を有する物質を組み込むことによって、MEMディスプレイ装置において、広帯域白色光を得ることができる。一実施形態は、この物質(23)を透明基板(20)の少なくとも一部の上に堆積させる段階と、この物質の層の上に誘電体層(24)を堆積させる段階と、この誘電体の上に犠牲層を形成する段階と、この犠牲層の上に導電性層(14)を堆積させる段階と、犠牲層の少なくとも一部を除去することによってキャビティ(19)を形成する段階とを備えたMEMSディスプレイ装置の製造方法を提供する。適切な物質は、ゲルマニウム、多様な組成のゲルマニウム合金、ドーピングしたゲルマニウム、ドーピングしたゲルマニウム含有合金を含み得て、透明基板上に堆積されるか、透明基板または誘電体層内に組み込まれ得る。 (もっと読む)



【課題】マイクロミラーに対するミラー基板の歪みの影響を防ぐことができるマイクロミラーアレイを提供する。
【解決手段】ミラー基板13には、応力緩和部16が設けられている。これにより、マイクロミラー15a〜15nに対するミラー基板13の歪みの影響が緩和される。結果として、マイクロミラー15a〜15nに対するミラー基板13の歪みの影響を防ぐことができる。 (もっと読む)


【課題】MEMSデバイスの製造方法において、陽極接合の際の空気の逃げ道を確保しつつ、陽極接合に必要な電圧を小さく抑える。
【解決手段】MEMSデバイスの製造方法は、SOI基板を用意する工程S1と、第1シリコン層を、複数の基本パターンに分割されつつ全てがブリッジ部によって接続されて全体が一体物となった形状にパターニングする工程S2と、中間絶縁層をエッチング除去することによって上記ブリッジ部の各両側の空間を連通させる工程S3と、基材と上記SOI基板とを貼り合わせる工程S4と、電圧を印加することによって陽極接合させる工程S5と、第2シリコン層をパターニングして高架シリコン層を形成するとともに上記ブリッジ部を露出させる工程S6と、上記高架シリコン層をマスクとして上記第1シリコン層から基礎シリコン層を形成しつつ上記ブリッジ部を除去する工程S7とを含む。 (もっと読む)


【課題】空間光変調器の特性を長期にわたって安定させる。
【解決手段】電極、静電力により電極に引き付けられて揺動する可動部、および、可動部に支持されて可動部と共に揺動する反射鏡をそれぞれが有する単位素子を複数実装された基板と、反射鏡の間から基板に向かって差し込む光を遮断する遮光層とを備える。上記空間光変調器において、遮光層は、反射鏡および基板の間に配されてもよい。また、上記空間光変調器において、遮光層は、反射鏡および可動部の間に配されてもよい。 (もっと読む)


【課題】所望する光反射面を有するマイクロミラーアレイを製造すること。
【解決手段】基板3に支持部4を介して傾動可能に支持される可動板5の上面側に、光反射面2が設けられる金属柱20を形成する際、可動板5の上面側を露出させる開口40aを有する保護膜40を形成し、その開口40a内に銀メッキを施して銀製の金属柱20を形成した後、その金属柱20の上端面20aに鏡面加工を施して光反射面2を形成することとした。 (もっと読む)


【課題】点光源のX線源を用いても、X線吸収の効率を低下させることのない湾曲したマイクロ構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】表側に微細構造とメッキ層を有し、裏側に弯曲した面を有するモールドからなるマイクロ構造体の製造方法であって、異方性エッチングにて深さ方向にエッチングされて形成された微細構造を有し、前記微細構造の連続した隙間の底部に導電性が付与されたモールドを用意する工程と、前記微細構造の底部からメッキして前記微細構造の連続した隙間に第1のメッキ層を形成する工程と、前記第1のメッキ層の上に、応力を発生する第2のメッキ層を形成し、前記第2のメッキ層の応力によりモールドを湾曲させる工程とを少なくとも有するマイクロ構造体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】所望の周波数帯域で良好な感度を有する二次元容量型電気機械変換装置などの電気機械変換装置を無欠陥ないし歩留まり良く作製することを可能とする技術を提供する。
【解決手段】電気機械変換装置は少なくとも1つのセルを含むエレメント1、2、3を複数個有する。複数のエレメントト1、2、3は、複数の処理回路が形成された集積回路基板5上のそれぞれ対応する処理回路に対して、互いに分離して独立的に配置され、各エレメント毎に信号の入出力ができる様に、対応する複数の処理回路とそれぞれ機械的及び電気的に結合されている。 (もっと読む)


【課題】光の反射効率が高く、製造プロセスが簡便な空間光変調素子を提供する。
【解決手段】空間光変調素子の製造方法であって、電極が形成された電極側基板を準備するステップと、電極との間の静電力により可動する可動部、可動部の動きに連れて傾斜する反射鏡および可動部を支持する支持部を有する可動側基板を準備するステップと、可動側基板の支持部を電極側基板に貼り合わせるステップとを備える製造方法が提供される。可動側基板を準備するステップは、基板本体を準備するステップと、基板本体の一面をエッチングすることにより可動部を形成するステップと、可動部上に反射鏡を成膜するステップと、基板本体に他面をエッチングすることにより支持部を形成するステップとを有する。 (もっと読む)


【課題】より容易にマイクロミラーアレイ基板を製造すること。
【解決手段】基板3上に配列させた金属柱22を封止膜23で被覆し、封止膜23と金属柱22の表面が略面一となるように研削して、封止膜23の表面から金属柱22の上端面22aを露出させる際、その上端面22aを研磨して鏡面加工を施し、光反射面2として形成することにより、マイクロミラーアレイ基板1Aのミラー面に複数の光反射面2を一括して形成することを可能にした。 (もっと読む)


【課題】長期間に亘って圧電特性の低下を抑制することができる圧電素子の製造方法、圧電素子、液体噴射ヘッド及び液体噴射装置を提供する。
【解決手段】第1電極60と、圧電体層70と、第2電極80と、を具備する圧電素子300の製造方法であって、第1電極60上に圧電体層70となる圧電体前駆体膜を形成する工程と、圧電体前駆体膜を加熱処理して結晶化させて圧電体膜からなる圧電体層70を形成する工程と、圧電体層70上にランタンニッケル酸化物を主成分とする金属酸化膜200を形成する工程と、金属酸化膜200が設けられた圧電体層70を加熱処理するポストアニール工程と、を具備する。 (もっと読む)


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