離間した突き当て型コンポーネント構造体であって、このものは、第１のプレートと、第１の間隙によって第１のプレートから離間させられた第２のプレートと、これらプレート同士を相互接続すると共に第１の間隙を形成している複数のハンダバンプとを具備してなり、上記プレートの少なくとも一方は、上記第１の間隙とは異なるサイズを有する第２の間隙を形成するために、隆起したプラットホームおよび凹部のうちの一方を含む特異セクションを有している。
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選択性が高い光誘導性のエッチングを達成するために、電解質に対する半導体構造の局部的電気化学的ポテンシャルを戦略的に改変することを含む、ＩＩＩ−窒化物半導体構造を製造するための方法。上記方法は、電気的抵抗層または半導体構造の中の電子のフローを妨げる層の適切な配置によって、および／またはＰＥＣエッチングの間に、半導体構造の特定の層と接触するカソードを配置することによって、半導体構造または半導体デバイスの電気的ポテンシャルを局部的に制御し、水平方向および／または垂直方向の光電気化学（ＰＥＣ）的エッチング速度を局部的に制御する。
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シリコン基板をエッチングする方法が記載される。本方法は、第１シリコン基板（２００）を犠牲シリコン基板（２４０、２４１）へ接合するステップを含む。第１シリコン基板（２００）がエッチングされる。第１シリコン基板（２００）が犠牲シリコン基板（２４０、２４１）から分離することを引き起こすために、第１シリコン基板（２００）と犠牲シリコン基板（２４０、２４１）との界面に圧力が加えられる。金属刃（６２０）を有する装置を使用すると、これらの基板を分離することができる。
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本発明は、表面層（２）、少なくとも一つの埋め込み層（４）、及び支持体から構成される半導体構造体の形成方法に関する。本方法は、第一の支持体上に第一の材料からなる第一の層（４４）を形成し、更に第一の層の内部に、第一の材料よりエッチング速度の大きい第二の材料からなる少なくとも一つの領域（２６、２８）を形成する第一のステップと、第二の支持体の上に構造体を組み立てることにより表面層（２）を形成し、二つの支持体の少なくとも一方を薄膜化する第二のステップとを含む。
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本発明は、少なくとも第１と第２のガスを含むプラズマを基板（202）に導くことを含む技術に関する。基板（202）は、少なくとも第１の層（206）と第２の層（204）によって少なくとも部分的に覆われている。第１のガスのイオンは、基板（202）に向かって静電的に引きつけられる。第２のガスは、第１の層（206）を第２の層（204）に対して選択的にエッチングする。 （もっと読む）

【課題】少なくとも一の基板の表面を微細構造化するための装置を提供する。
【解決手段】本装置は少なくとも、基板が一の部材から他の部材に搬送されるときに支持体が変化しないように各部材内又は各部材に対して基板を維持するように構成された基板支持手段(15)を好ましくは含む基板(S)保持用手段(6)と、感光性樹脂層を基板に塗布する部材と、樹脂層を硬化及び／又は乾燥させる手段と、レーザ光を用いて既定のプログラムに基づいて基板上の樹脂層を自動的に露光する部材(20)と、露光済みの樹脂層部分又は未露光の樹脂層部分を除去する現像用部材と、基板を化学エッチングする部材と、基板を洗浄する部材と、制御部(7)と、を備えた支持枠体(2)を有することを特徴とする表面微細構造化装置に関する。 （もっと読む）

【課題】 ＭＥＭＳと受動素子が集積化されたモジュールを提供する。
【解決手段】 第１基板、第１基板に接合された１以上のＭＥＭＳ、第１基板に接合された第２基板、第２基板に接合された１以上の受動素子を備える装置を提供するとしてもよい。１以上のＭＥＭＳが接合された第１基板と、１以上の受動素子が接合された第２基板を位置合わせすることと、位置合わせされた第１基板と第２基板を接合することとを含む方法を提供するとしてもよい。 （もっと読む）

【課題】マイクロマシン技術（ＭＥＭＳ）スイッチ用のビームを提供する。
【解決手段】カンチレバービームを有するＲＦマイクロマシン技術（ＭＥＭＳ）スイッチは、応力勾配が小さいポリシリコンと金属コンタクトから形成されるとしてもよい。本発明の幾つかの実施形態によれば、ビームと基板の間の領域には誘電体が存在しない構成としてもよい。また、酸化物層が窒化物保護層によって保護されるとしてもよい。 （もっと読む）

流体輸送／封じ込め装置は、流体保持モジュールおよび操作モジュールを有する。この流体保持モジュールは、サブストレートと、このサブストレートに分散させた流体輸送／封じ込め素子とを有し、この流体輸送／封じ込め素子のうちの１個またはそれ以上の流体輸送／封じ込め素子は、マイクロ流体寸法を有する。操作モジュールは、操作素子が流体輸送／封じ込め素子と接触して作用インタフェース（境界面）を生ずるように、流体保持モジュールに着脱可能に固定する。 （もっと読む）

簡単には、本発明の複数の実施形態は、電気機械デバイス、例えば、微小電気機械システム（ＭＥＭＳ）デバイス、例えば、低損失の圧電薄膜共振器（ＦＢＡＲ）フィルタ、およびこれを生産するプロセスを提供する。
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空間光変調器（２００）を使用する表示装置などの表示装置（９００）を含む様々な装置に使用する、復帰電極（４１８、５１８、６１８、７１８、８１８）を有する微小電気機械装置であって、光透過基板（２１４、３２０、４１４、５１４、６１４、７１４、８１４）、半導体基板（２１２、３１８、４１２、５１２、６１２、７１２、８１２）、および基板（２１４、３２０、４１４、５１４、６１４、７１４、８１４、２１２、３１８、４１２、５１２、６１２、７１２、８１２）のうちの１つによって支持され、静止位置と動作位置の間で撓むことができる部材（２１０、４１０、５１０、６１０、７１０、８１０）を含む。可撓部材（２１０、４１０、５１０、６１０、７１０、８１０）は、復帰電極（４１８、５１８、６１８、７１８、８１８）の動作によって非撓み位置に戻る。
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