【課題】１台の設備で簡単に銅とプラスチックを有用な形で回収することが可能な一括処理式高周波誘導溶融設備の提供。
【解決手段】銅やプラスチックが混在した電線廃棄物をそのまま誘導溶融炉へ投入し、まずプラスチックが油化する温度でプラスチックを油化流出させ、その後、銅の融点に温度設定し、銅を溶融させ成形して回収する。 （もっと読む）

【課題】溝型の流路を有する溝型誘導加熱装置を用いて溶銑を加熱するに当たり、溶銑中に巻き込まれた炉内スラグや炉内で生成した酸化物などの異物が流路に付着しても、付着した異物を効果的に除去することが可能であり、異物の付着による流路の縮小及び閉塞を防止することのできる流路閉塞防止方法を提供すること。
【解決手段】溝型の流路１０を有する誘導加熱装置６を用いて貯銑炉に貯えられた溶銑を誘導加熱するに際し、流路１０内に固体物質を溶銑とともに通過させることにより、流路１０に付着した異物を除去し、誘導加熱中に流路１０を流れる溶銑の流れの方向を逆転させて流路を洗浄することを特徴とする、溝型誘導加熱装置の流路閉塞防止方法を用いる。流路１０に沿って、移動磁場を発生させる移動磁場発生磁極を配置し、移動磁場発生磁極で発生する移動磁場の移動方向を変更することによって溶銑の流れの方向を逆転させることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】本発明は、金属または合金などの金属材料を、黒鉛坩堝などの黒鉛溶解容器中で、溶解した金属または合金がこの坩堝と接触および／または反応することで汚染されるのを低減した状態で、誘導溶解することを目的としている。
【解決手段】このため、金属または合金を、誘導コイルを直立側壁の周囲に配置した坩堝またはその他の溶解容器内に配置するステップを含む、金属または合金などの金属材料を溶解する方法が提供される。この側壁は黒鉛でできており、その厚みは約０．５０インチを超えない。この誘導コイルは励磁され、金属または合金を坩堝内で加熱溶解するのに有効で、この側壁が誘導コイルの電磁場に対して実質的に透過性となる（影響を受けない）程度の十分に低い周波数の電磁場を発生させ、固形スカルをこの側壁上に形成しこの溶解金属または合金をこの坩堝の側壁から分離する。 （もっと読む）

【課題】設備費を安価に抑えた誘導溶解装置を提供すること。
【解決手段】誘導溶解装置１は、加熱溶解した金属材料６から金属材料６の凝固物２３を形成する炉本体７を収容する溶解室２と、溶解室２の下部に設置され、炉本体７内から引き抜かれた凝固物２３を収容する引抜チャンバー３と、引抜チャンバー３の下部に設置された引抜装置４と、溶解室２と引抜チャンバー３のそれぞれの空間を真空に保持するための真空ポンプ５とを備えている。 （もっと読む）

【課題】グラファイト製坩堝、Ｐｔ、Ｉｒ等の高融点金属製坩堝を用いた場合に特有の諸問題を解消した誘導加熱炉を提供する。
【解決手段】グラファイト製坩堝を取り巻く誘導コイルにより該坩堝内の材料を加熱溶解し融体として保持する誘導加熱炉において、
高融点および高電気伝導度を有し、強磁性体でも反強磁性体でもない金属または金属化合物の（１）薄膜、（２）厚膜、（３）リング状、または（４）メッシュを、該グラファイト製坩堝の外表面に付着させまたは外表面に近接設置したことを特徴とする誘導加熱炉。 （もっと読む）

【課題】簡単で安価な構成により、コンデンサ容量の可変範囲を広げて、誘導加熱装置ならびに被加熱物を含めた系全体のインダクタンスの一時的な急変に対しても、高電圧過電流トリップを回避出来るようにする。
【解決手段】容量固定コンデンサ群１３０Ｆと容量可変コンデンサ群１３０Ｖを備えた誘導加熱装置の電源装置１００において、手動スイッチ（例えば高圧ディスコン１４２）により、前記容量固定コンデンサ群１３０Ｆの一部を、一括して回路から切り離し可能とする。 （もっと読む）

【課題】コイルの寿命が長く、浸漬ノズルの劣化が少なく、多様な内径、外径を持つ浸漬ノズルを均一な温度で加熱できる連続鋳造用浸漬ノズルの予熱方法及び予熱装置を提供する。
【解決手段】連続鋳造設備１１のタンディッシュ１２から溶鋼を鋳型に注湯する浸漬ノズル１３を、浸漬ノズル１３の外周面に沿わせて配置した誘導コイル２０、２１によって、注湯前に予め加熱する際に、誘導コイル２０、２１の巻き心方向が浸漬ノズル１３に対して交差するように、誘導コイル２０、２１を配置し、誘導コイル２０、２１で浸漬ノズル１３を誘導加熱する。 （もっと読む）

【課題】被加熱材の状態に対応した誘導加熱コイルの位置調整を容易にする。
【解決手段】第１，第２の導体１７，１９間を上下方向移動可能に接続するとともに、第１，第２の導体１７，１９の冷却水通路１８，２１間をＯリング２２を介して上下方向移動可能にかつ水漏れしないように接続し、第２，第３の導体１９，２３の端部間を左右方向移動可能に接続するとともに、第２，第３の導体１９、２３の冷却水通路２１，２５の端部２１ｂ，２５ａ間をＯリング２６を介して左右方向移動可能にかつ水漏れしないように接続し、第３の導体２３と誘導加熱コイル２７の端部間を前後方向移動可能に接続するとともに、第３の導体２３及び誘導加熱コイル２７の冷却水通路２５，２９の端部２５ｂ，２９ａ間をＯリング３０を介して前後方向移動可能にかつ水漏れしないように接続する。 （もっと読む）

溶解炉のインダクタは、また、平行であるが傾斜した導体からなる坩堝を具備し、かつ、前記坩堝の周りに、少なくとも一つの下降部分９及び上昇部分１０を備えた波を形成する。この配置による利点は、前記導体の平均高さが同一であって、すべてが、それぞれの過熱高さに配置された部分を具備すると、これによって、前記坩堝の装填物が積み重なった領域を有し、このため、電気抵抗が異なるとしても、前記導体内を流れる前記電流の密度の均一性が保障されることである。
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【課題】 溝型の流路を有する溝型誘導加熱装置を用いて溶銑を加熱するに当たり、溶銑中に巻き込まれた炉内スラグや炉内で生成した酸化物などの異物が流路に付着しても、付着した異物を効果的に除去することが可能であり、異物の付着による流路の縮小及び閉塞を防止することのできる流路閉塞防止方法を提供する。
【解決手段】 溝型の流路１０を有する誘導加熱装置６を用いて該誘導加熱装置を備えた貯銑炉に貯えられた溶銑を誘導加熱するに際し、前記流路の内径よりも小さい径の鋼球１２を溶銑の流れに乗せて流路を通過させ、鋼球の通過によって流路の内壁に付着した異物を除去する。 （もっと読む）

【課題】 溝型の流路を有する溝型誘導加熱装置を用いて溶銑を加熱するに当たり、溶銑中に巻き込まれた炉内スラグや炉内で生成した酸化物などの異物が流路に付着しても、付着した異物を効果的に除去することのできる流路閉塞防止方法を提供する。
【解決手段】 溝型の流路１０を有する誘導加熱装置６を用いて該誘導加熱装置を備えた貯銑炉に貯えられた溶銑を誘導加熱するに際し、誘導加熱中に前記流路を流れる溶銑の流れの方向を逆転させて流路を洗浄する。その際に、前記流路に沿って、移動磁場を発生させる移動磁場発生磁極１１，１３を配置し、該移動磁場発生磁極で発生する移動磁場の移動方向を変更することによって溶銑の流れの方向を逆転させることが好ましい。 （もっと読む）

金属の誘導加熱及び／又は誘導溶融のための真空槽は、真空誘導加熱及び／又は溶解プロセスで生じた磁界のかなりの部分が、真空槽の壁を誘導加熱によって過熱させることなく、該槽壁と接触することを許容にする。
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【課題】純水を冷却水として使用する誘導加熱装置の冷却システムにおいて、二次冷却水系統の設備が過大とならず、また冷却に環水を使用しても雰囲気からの粉塵や異物の混入が問題とならない誘導加熱装置の冷却システムを提供する。
【解決手段】溶銑保持炉１には二基のコイル２が設置されており、給排水するためのヘッダー３，４が設けられている。ヘッダーには純水が冷却水として供給され、排水用のヘッダー４から排水されて密閉型冷却塔８に導かれ冷却される。 （もっと読む）

【課題】 容器の破損が防がれ、容器およびこの容器を含む装置全体の小形化および軽量化を図ることができ、融液の温度の立ち上がり特性を向上させることができ、湯面中央部での融液の凝固を防止することができる溶融装置および半導体製造設備を提供する。
【解決手段】 坩堝３には、貯留空間５が形成され、この貯留空間５にシリコンの融液２が貯留される。電磁コイル４は、坩堝３およびこの坩堝３の貯留空間５を通過する磁束を変化させる。この電磁コイル４は、坩堝３の貯留空間５内で磁束密度が最大となる磁束を発生させる。しかもこの電磁コイル４は、坩堝３の貯留空間５を上下に通過し、かつ坩堝３の底面２８よりも予め定める距離Ｌ１だけ上方で磁束密度が最大となる磁束を発生させる。 （もっと読む）

【課題】 被溶融物の効率的な加熱及び放熱の低減を可能とすることで、効率的な溶融を実現し、各種有害物質の減容化、無害化を可能とする。
【解決手段】 被溶融物を投入する投入口３と、投入口３から投入された被溶融物２を溶融させる溶融部４と、溶融部４内部に設けられ、所定の距離を有して相対向して配置され、溶融部４内部の被溶融物２を加熱する第１及び第２の加熱板５，６と、溶融部４で溶融された被溶融物２の溶融スラグを排出する排出口８と、溶融部４並びに第１及び第２の加熱板５，６を誘導加熱する電磁誘導コイル９とを備える。 （もっと読む）

【課題】溶湯の汚染を招くことなく、金属の溶解出湯を繰り返して円滑に行なうことができる金属の溶解出湯装置及びこれを用いた金属の鋳造装置を提供する。
【解決手段】レビテーション溶解炉１１と、該レビテーション溶解炉と同様に構成され且つ該レビテーション溶解炉の炉床部に接続された出湯ノズル２１とを備えており、該出湯ノズルは逆円錐部とこれに連なるノズル部２６とを有する全体として略漏斗形に形成されたノズル本体と該ノズル本体の外周回りに配置されたコイル２４とを備えていて、金属を該レビテーション溶解炉で浮揚溶解し、次にその溶湯を該出湯ノズルから出湯するようにした金属の溶解出湯装置において、ノズル本体の外周回りのコイルを該ノズル本体のノズル部の下端よりも下方へ突出して配置した金属の溶解出湯装置とした。 （もっと読む）

【課題】誘導加熱で焼却灰（金属を含んでいる）を加熱溶融させる場合において、発生する磁束の中心軸を焼却灰に向けて加熱効率を高めることができ、かつ連続的に焼却灰を加熱して加熱効率を高めることができる焼却灰の溶融装置を提供する。
【解決手段】コイル１の長手中心軸を溶融管１１の長手中心軸に対して、ブロック状焼却灰３ａの投入側が溶融管１１内の下面側を向くように傾斜させたことにより、コイル１の長手中心軸に対して下半分側で発生している磁束Ｂはもちろん、コイル１の長手中心軸に対して上半分側で発生している磁束Ｂも効果的に溶融管１１内の下面上を移動するブロック状焼却灰３ａ中の金属に対して貫通させることによって、ブロック状焼却灰３ａに対する加熱効率を高めることができる。 （もっと読む）

【課題】 容器中の鋳造用金属を鋳込みに適した状態に融解する。
【解決手段】 容器（坩堝）４中の金属８を高周波誘導加熱手段１０、１３、１６によって融解し、金属の融解状況を表わす信号ｄと予め設定された基準信号ｆとを比較器４０で比較し、前記出力信号が基準信号を超過したときに低周波振幅変調高周波誘導加熱を開始させる。前記融解状況を表わす信号ｄが基準信号ｆを超過している期間が所定期間継続すると、高周波誘導加熱を停止させると共に金属を鋳込むための指令信号ｈを発生し、信号ｄが基準信号ｆを超過している期間が前記所定期間より短いときは、低周波振幅変調高周波誘導加熱を所定の期間延長する。ある制限時間内に信号ｄが基準信号ｆを前記所定期間継続して超過することがない場合は、高周波誘導加熱を停止する。 （もっと読む）

【課題】 比重差の大きい金属同士や金属とセラミックスの合金で起こりやすいそれらの比重差による分離を複雑なプロセスなしに均一合金とするあるいは均一分散体とするための加熱処理装置を提供することを課題とした。
【解決手段】 誘導加熱装置にかける交番磁場に対応してその水平面内の直角方向に交番磁場に同調して方向が変化するように被処理物質に交番電流を流して、重力の反対方向への力場を与えることによって実質的に該被処理物質を実質的に無重力下で加熱処理ができる誘導加熱装置による。 （もっと読む）

【課題】攪拌時に上下のコイルに位相差と電圧を調整した電源を接続して、炉全体を均一の温度で効率よく攪拌できる誘導溶解炉を提供するものである。
【解決手段】溶解室１の上下に巻回した２個のコイル２Ａ、２Ｂを直列に接続し、この両端を、直列に接続した２組のコンデンサ１２Ａ、１２Ｂの両端にそれぞれ接続し、その一方の接続点１５はインバータ電源１０の第１の端子１１Ａに接続し、他方の接続点１６は第１のスイッチＳＷ_１ を介してインバータ電源１０の第２の端子１１Ｂに接続し、前記２個のコイル２Ａ、２Ｂの中間点１３と、前記２組のコンデンサ１２Ａ、１２Ｂの中間点１４との間に第２のスイッチＳＷ_２ を設けると共に、インバータ電源１０の第２の端子１１Ｂと、前記２組のコンデンサ１２Ａ、１２Ｂの中間点１４との間に第３のスイッチＳＷ_３ を接続したものである。 （もっと読む）