【課題】ＩＴＯなどの導電性基材と、その表面に形成された微細配線とが、任意の箇所で簡易に電気的にコンタクトしてなる導電性パターン部材、及び、導電性基材との密着性に優れた微細な導電性パターンを形成することができ、且つ、該導電性パターンと導電性基材とを任意の箇所で簡易に電気できにコンタクトさせうる導電性パターンの形成方法を提供する。
【解決手段】導電性基材１４上に、導電粒子２８を含有する樹脂層１６と、該樹脂層と結合し且つ無電解めっき触媒又はその前駆体と相互作用する官能基を有するポリマーを含有するパターン状のポリマー層１８の表面及び側面が導電層２０で被覆されてなる導電性パターンとを有し、該導電性パターンのポリマー層１８側面の導電層２０と導電性基材１４とが、樹脂層中に含有される導電粒子２８を介して電気的にコンタクトしている導通部２６を有することを特徴とする導電性パターン部材。 （もっと読む）

【課題】画素回路におけるトランジスタの数を低減しつつ電気光学素子の発光期間を調整する。
【解決手段】電気光学装置１０は、駆動電流に応じた輝度で発光する電気光学素子１１と、駆動電流を制御する駆動トランジスタＴｄｒと、を各々が含む複数の画素回路Ｐと、高位側電源線１０８と、複数の画素回路Ｐのうち少なくとも２つの画素回路Ｐに接続された電位供給ライン１２０との間に設けられたトランジスタＴｒと、を備え、少なくとも２つの画素回路Ｐの各々においては、高位側電源線１０８からトランジスタＴｒおよび電位供給ライン１２０を介して駆動電流が電気光学素子１１へ供給される。 （もっと読む）

【課題】駆動部のスキャナの数を削減した表示装置を提供する。
【解決手段】サンプリング用トランジスタＴ１は、その制御端が走査線ＷＳに接続し、その一対の電流端が信号線ＳＬと駆動用トランジスタＴ２のゲートＧとの間に接続している。駆動用トランジスタＴ２は、ドレインが電源に接続し、ソースＳが発光素子ＥＬに接続している。スイッチングトランジスタＴ３は、その一対の電流端の一方が駆動用トランジスタのソースＳに接続し、他方が固定電位Ｖｓｓに接続し、その制御端が前の行に配された走査線ＷＳに接続している。ドライバ３は、列状の信号線ＳＬに映像信号を供給し、スキャナ４は、行状の走査線ＷＳに順次制御信号を供給して各画素２に含まれるサンプリング用トランジスタＴ１及びスイッチングトランジスタＴ３を駆動し、これにより駆動用トランジスタＴ２から発光素子ＥＬに映像信号に応じた駆動電流を供給する。 （もっと読む）

【課題】多重マトリクス構造において、開口率を上げ、また、高い表示品位を保つことが可能な有機ＥＬパネルを提供する。
【解決手段】基板上に互いに交差するように対向配置される信号電極１と走査電極２との間に少なくとも発光層を有する有機層を積層形成してなる有機ＥＬ素子を備えた有機ＥＬパネル。信号電極１は、マトリクス状に複数配置される画素電極１ａと画素電極１ａに接続される配線電極１ｂとを有し、それぞれ異なる配線電極１ｂと接続される画素電極１ａが走査電極２との交差方向に複数個隣り合って１ユニットを構成するように形成される。走査電極２は、画素電極１ａの１ユニットと対向するように形成される。配線電極１ｂは、画素電極１ａの各列間に形成され、他の配線電極１ｂと接続される画素電極１ａに沿って部分的に湾曲あるいは屈折するように形成されてなる。 （もっと読む）

【課題】駆動回路等を制御するための駆動制御信号の信号線を基板の所定部位に配設することで、基板面の有効利用と、駆動制御信号への外的影響を防止ないし抑制することが可能な表示装置、及びそれを備えた電子機器を提供する。
【解決手段】基板２０上に、バンク層２２１と該バンク層２２１により区画形成された凹状区画領域２２３とを所定のマトリクスパターンで配列するとともに、表示部たる画素部１１０に、表示に寄与する実画素部１１１と、表示に寄与しないダミー画素部１１２とを構成する。さらに基板２０上には、走査線を導通する走査信号の出力制御を行う走査線駆動回路８０と、該走査線駆動回路８０を駆動させるための駆動制御信号が導通する駆動制御信号導通部３２０とが設けられ、基板２０を平面視した場合に、駆動制御信号導通部３２０が、少なくともダミー画素部１１２のバンク層２２１と重畳配置する部分を含むように配置されている。 （もっと読む）

【課題】複数の電源配線をもつ表示装置において、電源の起動順序と電源ＯＦＦ時の立ち下がり順序による表示装置の誤動作を防止する。
【解決手段】表示装置は、複数の電気光学素子（ＥＬ素子）と、電気光学素子を駆動する画素回路とが行方向および列方向にマトリクス状に配置された画像表示部と、画像表示部に第１の電位を供給する第１の電源供給線と、画像表示部に列毎に接続され、画素回路にデータ信号を供給する複数のデータ線と、データ線と交差する複数の走査線と、複数のデータ線を駆動するデータ線駆動回路と、複数の走査線を駆動する走査線駆動回路とを有する。走査線駆動回路は、第２の電源供給線により第２の電位が供給される。第１の電位と第２の電位の電位差に応じて、複数の走査線の電位を第１の電位にする素子（スイッチング素子）を備える。 （もっと読む）

【課題】画像表示の最小単位となるサブ画素をより密に配置して、画素の高開口率化や表示の高精細化を図ることができる有機ＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】本発明の有機ＥＬ表示装置では、上部電極（共通電極）と下部電極（画素電極）の間に有機層を挟み込んだ構造の有機ＥＬ素子を含む複数のサブ画素１５を行列状に並べて配置するとともに、複数のサブ画素１５が行列状に並ぶ画素領域に、上部電極を下部電極と同層の補助配線２２に電気的に接続するための補助配線コンタクト部２４を形成し、行方向で隣り合う２個のサブ画素１５を１つの組として、各組ごとに補助配線コンタクト部２４を１個ずつ形成している。 （もっと読む）

【課題】液晶装置等の電気光学装置において、耐光性を高め、高品位の画像を表示する。
【解決手段】電気光学装置は、ＴＦＴアレイ基板（１０）上に、画素電極（９ａ）と、これに接続されたＴＦＴ（３０）とを備える。更に、対向基板（２０）上に、遮光膜（２３）を備える。この遮光膜は、データ線及び走査線が相交差する交差領域において、各画素の開口領域に隅切りを規定する張り出し部（４２３）を有する。ＴＦＴのチャネル領域（１ａ’）は、交差領域内に配置されている。 （もっと読む）

【課題】キャパシタの静電容量を増加させて、有機エレクトロルミネセンス素子の開口率を増加させることのできる薄膜トランジスタを提供する。
【解決手段】ゲート電極及びキャパシタの誘電体膜に用いられるゲート絶縁膜の厚さを互いに異ならせて形成することで、静電容量の大きさを減少することなくキャパシタの表面積を減少させて、有機エレクトロルミネセンス素子の開口率を増加させることのできる技術である。 （もっと読む）

【課題】 電気光学素子の共通電極に十分な電力を供給できる電源配線構造を備えた電気光学装置を提案する。
【解決手段】 本発明の電気光学装置は、基板１５の有効領域１１の上方に形成された第１電極層と前記第１電極層の上方に設けられた第２電極層１４とを含む積層構造によって電気光学素子を構成する電気光学装置であって、前記第１電極層に電圧供給を行う第１電源線と、前記第２電極層と電気的に接続された第２電源線１６と、を含み、前記第１電源線及び前記第２電源線は、ともに、前記有効領域の上方、かつ、前記第１電極層と同層又は前記第１電極層より下層に設けられていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高精細な発光装置を提供する。
【解決手段】第１の電極の一方の端部上の領域と、第１の電極の一方の端部と隣合った第２の電極の一方の端部上の領域と、第１の電極の一方の端部と第２の電極の一方の端部の間の領域とを覆う絶縁物領域と、第１の電極および絶縁物領域の上に形成された第１の発光層と、第２の電極および絶縁物領域の上に形成された第２の発光層と、が設けられた第１の基板と、第１の基板と対向し、カラーフィルタが設けられた第２の基板と、を有し、絶縁物領域および第１の電極の上で第１の発光層と第２の発光層が重なっており、カラーフィルタは、第１の発光層と対向して設けられた第１の着色層と、第２の着色層と、第１の着色層と第２の着色層の間に、絶縁物領域および第１の電極の上で第１の発光層と第２の発光層が重なっている領域と対向して設けられた遮光部とを有する。 （もっと読む）

【課題】開口率の向上を図ることができるとともに、配線抵抗による電圧降下を抑制し、表示品位の向上を図ることが可能なアクティブマトリクス型表示装置を提供する。
【解決手段】表示装置は、表示素子と、表示素子に駆動電流を供給する画素回路とを含み、基板上にマトリクス状に配設された複数の画素部と、画素部の列毎に接続され映像信号を供給する複数の映像信号線Ｘと、画素部の列毎に接続された電源線Ｖｄｄと、を備えている。画素回路は、表示素子と電源線との間に接続された駆動トランジスタと、駆動トランジスタの制御電位を保持する保持容量Ｃｓと、を含み、映像信号線は、保持容量の電極が形成された層よりも上層に形成され、電源線は、保持容量の電極３０、３２が形成された層と映像信号線が形成された層との間に位置した層で、映像信号線と重なった位置に形成されている。 （もっと読む）

【課題】画像表示の最小単位となるサブ画素をより密に配置して、画素の高開口率化や表示の高精細化を図ることができる有機ＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】本発明の有機ＥＬ表示装置では、有機ＥＬ素子と、この有機ＥＬ素子を画素回路に電気的に接続するためのコンタクト部２０とを含む複数のサブ画素１５を素子形成用基板３上に行列状に並べて配置するとともに、サブ画素１５の並び方向となる行方向及び列方向のうち、行方向で隣り合うサブ画素１５のコンタクト部２０の位置を、行方向で反転した状態に配置している。 （もっと読む）

【課題】フルカラー対応の表示装置において、高強度のシャドーマスクを用いて画素の高開口率化を実現できるようにする。
【解決手段】画素アレイ部は、垂直方向の２画素分を１組とし、組内の画素開口間隔Ｗ１よりも組同士の画素開口間隔Ｗ２を大きくする。対応するシャドーマスク６２０Ａは、表示パネル部の垂直方向２画素分のサブピクセルに対応する開口部６２２が設けられ、その開口部６２２の垂直方向のそれぞれの間に、水平方向の橋渡しをなす間隔部６２４を有する。垂直方向の開口部６２２の間の間隔部６２４は、全列同一の垂直位置に配置され、間隔部６２４が、水平方向に一列に並ぶように配置されている。間隔部６２４の存在によりマスクの強度が上がり撓みを改善できる高強度のマスクにすることができる。発光層を形成するための蒸着起因の開口率の低下を抑制でき、高精細パネルにて、高強度で高開口率が達成できる。 （もっと読む）

【課題】 画素内の利用効率を向上し、高精細な有機ＥＬ表示装置を実現する。
【解決手段】
有機ＥＬ素子で構成された画素がマトリクス状に配置された有機ＥＬ表示装置において、前記画素は、前記有機ＥＬ素子へ流れる電流を制御する画素回路を備え、前記画素回路は、容量を備え、前記容量は上下方向で隣接する画素の境界に配置されている。さらに、前記容量を構成する一方の電極は、前記上下に隣接する画素で共有し、前記容量を構成する他方の電極は、前記上下に隣接する画素で分離されている。 （もっと読む）

【課題】額縁の領域をより狭くすることを可能とした表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の表示装置は、配列された複数の表示素子（１２０）と外周側に電源の配線層（１０７）とを有する基板（１００）と、表示素子の相互間を分離するバンク層（１１３）と、複数の表示素子とバンク層とを覆う電極層（１２３）と、基板の外周部分と外周を一周する封止部（２０２）において接着剤などの接合手段（３０１）を介して接合して電極層を更に覆う封止基板（２００）と、を備え、封止基板の外周を基板の外周の内側に位置し、電極層の外周部を封止基板の封止部（ｂ＋ｃ）内にて電源の配線（１０７）と接続する。それにより、電極（１２３）と配線（１０７）との接続領域（ｃ）を基板と封止基板との接合領域（ｂ＋ｃ）として活用し、ガスバリア等のために所要の接合幅を確保しつつ表示装置の額縁の構成要素となる部分を減らす。 （もっと読む）

【課題】より大きな開口率を持ちうる発光装置を提供する。
【解決手段】発光装置は、カラーフィルタ５１の上に遮光膜５９１を備えている。したがって、遮光膜５９１の膜表面は、カラーフィルタ５１の膜厚分だけ、第１基板１０の側に接近可能である。これにより、ある有機ＥＬ素子１２から発した光が、隣の隣接する有機ＥＬ素子１２に入射したとしても、それは全反射するか、あるいは第２基板５０内に留まる。つまり、好適な視野角特性が維持されつつ、遮光膜５９１の幅を狭小化することが可能である。よって、開口率の増大がもたらされる。 （もっと読む）

ディスプレイ・デバイス、ピクセル・レイアウト、およびこれらを形成する方法を提供する。ディスプレイ・デバイスは、ピクセル・アレイ範囲に形成される複数のピクセルと、ピクセルへ電力を分配するための電力供給グリッドとを含む。それぞれのピクセルは、発光デバイスと、複数のトランジスタとを有する。電力供給グリッドは、第１組の電力供給線と、第２組の電力供給線とを含む。第１組の電力供給線は、ピクセル・アレイ範囲を横切って延びる。第２組の電力供給線は、ピクセル・アレイ範囲を横切って延び、ピクセル・アレイ範囲で第１組の電力供給線と電気的に接触する。それぞれのピクセルは、第１組の電力供給線および第２組の電力供給線のうちの少なくとも１つの電源線に結合される。
（もっと読む）

【課題】透明導電膜で形成された上部電極の電圧降下を防止し、画面輝度が均一なトップエミッション型有機ＥＬ表示装置を実現する。
【解決手段】上部電極と下部電極に挟持された画素がマトリクス状に形成されて表示領域を形成している。画素と画素の間に、上部電極の電圧降下を防止するために補助電極３０が横方向に延在している。上部電極３０に電流を供給するための電流供給線と補助電極とは絶縁膜にスルーホールを形成して導通をとる。スルーホールの接続の信頼性を確保するために、スルーホールに、補助電極３０と重畳して金属で形成されたコンタクト電極４０を蒸着する。 （もっと読む）

【課題】配線に低抵抗な材料を用いることにより、画素部の大面積化に対応し得る半導体装置及びその作製方法を提供する。
【解決手段】
ゲート電極及び第１の配線上に形成された絶縁膜と、絶縁膜上にゲート電極と重なって形成された半導体層と、絶縁膜上に形成され、かつ、半導体層に電気的に接続された接続電極と、を有し、接続電極は、絶縁膜に設けられたコンタクトホールを介して第１の配線に電気的に接続され、ゲート電極及び第１の配線は、第１の導電層と、第１の導電層上の第２の導電層と、第２の導電層上の第３の導電層とでなる積層構造を有し、第２の導電層は、第１の導電層及び第３の導電層より低抵抗であり、第１の導電層及び第３の導電層は、第２の導電層より高融点の導電材料からなり、第２の導電層の端部における断面形状はテーパー形状であることを特徴とする。 （もっと読む）