画素駆動回路が、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）をアクティブマトリクス方式で駆動するために提供される。画素回路は、駆動トランジスタを備えている。駆動トランジスタの電流路は、一端が第１の電圧供給ラインに接続され、他端がＯＬＥＤに接続されている。駆動トランジスタのゲート端子は、記憶素子に接続されている。記憶素子は、駆動トランジスタのゲートとソースとの間に接続されて、第１のスイッチトランジスタの制御の下で、駆動トランジスタ用の駆動信号を記憶する。第１のスイッチトランジスタは、第１のセレクトラインへのゲート接続部を有する。第１のスイッチトランジスタの電流路は、駆動トランジスタのゲートとドレインとの間に接続されている。第２のスイッチトランジスタは、第２のセレクトラインへのゲート接続部を有する。第２のスイッチトランジスタの電流路は、一端がデータラインに接続され、他端が駆動トランジスタとＯＬＥＤとの間にあるノードに接続されている。 （もっと読む）

【課題】多重マトリクス構造において、配線部による電気抵抗の上昇を抑制し、また、開口率を大きくすることが可能な有機ＥＬディスプレイを提供する。
【解決手段】基板上に互いに交差するように対向配置される信号電極１と走査電極２との間に少なくとも発光層を有する機能性有機層を積層形成してなる有機ＥＬ素子を備えた有機ＥＬディスプレイ。信号電極１は、マトリクス状に複数配置される画素電極１ａと、画素電極１ａの各列において異なる画素電極１ａ接続さる複数の配線電極１ｂと、を有し、走査電極２は、それぞれ異なる配線電極１ｂに接続される複数の画素電極１ａと対向するように複数形成され、配線電極１ｂよりも電気抵抗の低い材料からなる補助電極３が配線電極１ｂ上に形成され、補助電極３は、配線電極１ｂの画素電極１ａとの接続個所を除いて分断して形成される。 （もっと読む）

【課題】表示性能の低下を防止する有機ＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】マトリクス状に配列した複数の表示画素ＰＸを有する第１基板を備え、表示画素ＰＸは、表示画素ＰＸが配列する列と略平行な第１方向Ｄ１に交互に配置された第１および第２表示画素ＰＸＡ、ＰＸＢを有し、第１および第２表示画素ＰＸＡ、ＰＸＢのそれぞれは、電流の大きさに応じて所定の輝度で発光する表示素子４０と、表示素子４０を駆動する駆動スイッチＤＳＷと、駆動スイッチＤＳＷのゲート―ソース間に接続された画素容量Ｃｐｘと、を有し、画素容量Ｃｐｘは絶縁層を介して対向して配置された第１電極ＣＥ１と第２電極ＣＥ２とを有し、第１表示画素ＰＸＡの画素容量Ｃｐｘは、第１表示画素ＰＸＡと第２表示画素ＰＸＢとの一方の境界近傍に、第２表示画素ＰＸＢの画素容量Ｃｐｘは一方の境界近傍に配置され、第１表示画素ＰＸＡと第２表示画素ＰＸＢとは第２電極ＣＥ２を共有している。 （もっと読む）

【課題】検査機能を持つデータ線駆動回路の構成を簡素化する。
【解決手段】データ線駆動回路３２０は、データＤが並列に供給される１２本の信号供給線と、ｎ個の記憶領域Ｍを含むラッチ３２４と、選択信号Ｑ１〜Ｑｎを順次にアクティブレベルとするシフトレジスタ３２１とを具備し、各選択信号Ｑがアクティブレベルのときに供給されているｍ系統のデータＤを各記憶領域Ｍに順次に保持し、ラッチ３２４のデータＤに応じたデータ信号を出力する。データ線駆動回路３２０は、検査出力線Ｃ１〜Ｃ４と、各々が３個のブロックを含むｎ個の検査スイッチ３２３と、各検査スイッチ３２３のｐ個のブロックを順次に選択する出力選択部３６０とを含む。アクティブレベルとなった選択信号Ｑに対応する検査スイッチ３２３のうち出力選択部３６０が選択したブロックは、当該選択信号Ｑに対応した４系統のデータＤを検査出力線Ｃ１〜Ｃ４に出力する。 （もっと読む）

【課題】両面の開口率（画素面積に対する発光面積比率）が高い有機ＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】基板の一方の面上に、トップエミッション型の第１有機ＥＬ素子ＴＯＬＥＤと、ボトムエミッション型の第２有機ＥＬ素子ＢＯＬＥＤと、第１有機ＥＬ素子ＴＯＬＥＤを駆動する第１回路と、第２有機ＥＬ素子ＢＯＬＥＤを駆動する第２回路と、を備えた有機ＥＬ表示装置において、２回路が、第１有機ＥＬ素子ＴＯＬＥＤの下に配置されている。 （もっと読む）

【課題】発光素子の劣化を防止するとともに、発光光の取り出し効率を向上させて高精細及び広視野角を確保可能な有機エレクトロルミネッセンス装置及びその製造方法、電子機器を提供する。
【解決手段】陽極１０と陰極１１との間に発光層１２を挟持した複数の発光素子２１と、複数の発光素子２１を被覆する封止層と、を有する素子基板２０Ａと、素子基板２０Ａに対向配置され、複数の着色層３７と、複数の着色層３７間を区画するブラックマトリクス層３２と、を有する封止基板３１と、を備え、素子基板２０Ａ及び封止基板３１は、素子基板２０Ａ及び封止基板３１の周辺部に設けられる周辺シール層３３と、周辺シール層３３より内側の画素領域に設けられるとともに周辺シール層３３よりも低い弾性率を有する透光性接着層３４と、を介して貼り合わされている。 （もっと読む）

【課題】１フレーム期間に発光期間を複数回設定する構成を採る表示装置において、走査回路を含む画素アレイ部の周辺回路の回路規模の縮小化を図る。
【解決手段】画素アレイ部３０の各画素２０を行単位で順番に走査する書き込み走査回路４０において、シフトレジスタ４１の段数を画素アレイ部３０の行数（本例では、２４０）の半分に設定し、シフトレジスタ４１の各単位回路４１−１〜４１−１２０からロジック回路４２−１〜４２−１２０を経由して出力される書き込みパルスＷＳ１〜ＷＳ１２０の各々を、１／２フレーム周期で極性が反転する選択クロックＳＣＫによって２つの書き込みパルスＷＳｉａ，ＷＳｉｂに分離して奇数行と偶数行の各画素２０に与えるようにして、シフトレジスタ４１および第１ロジック回路群４２の各段数を半減する。 （もっと読む）

【課題】水分等による劣化を防ぎつつ、発光光の取り出し効率を向上させて高精細及び広視野角を確保可能な有機エレクトロルミネッセンス装置及びその製造方法、電子機器を提供する。
【解決手段】陽極１０と陰極１１との間に発光層１２を挟持した複数の発光素子２１を有する素子基板２０Ａと、素子基板２０Ａに対向配置され、複数の着色層３７とブラックマトリクス層３２と、を有する封止基板３１と、を備え、素子基板２０Ａと封止基板３１との間に介在するブラックマトリクス層３２によって、素子基板２０Ａと封止基板３１との間のギャップが規制されている。 （もっと読む）

【課題】小面積化が可能、素子数が少なく構成が簡易、低消費電力動作、製造における高歩留まりが見込める電流記憶回路を実現する。また、この電流記憶回路をＯＬＥＤ表示装置等の電流駆動型の表示装置に適用することにより、表示装置の画素開口率の向上、高信頼性化、高性能化等を実現する。
【解決手段】ドレインまたはソースを複数有するトランジスタのような形状の新規な半導体素子を用いることを特徴とする。この半導体素子を書込み用素子と駆動用素子に用いる場合、電流値の読込み、記憶、そして電流出力が、この半導体素子二つで行うことができ、小面積化が著しく容易となる。 （もっと読む）

【課題】高感度で熱硬化後にアルカリ溶剤へ耐性がある感光性シロキサン組成物の提供。
【解決手段】（ａ）ポリシロキサン（ｂ）下記一般式（１）で表されるキノンジアジド化合物、（ｃ）溶剤からなる感光性シロキサン組成物。
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【課題】要求される特性を満たした半導体装置及びその作製方法を提供することを課題とする。
【解決手段】絶縁表面を有する基板上に、単結晶半導体層を形成し、単結晶半導体層の一部の領域にレーザー光を照射し、単結晶半導体層のレーザー光が照射されていない領域を用いて画素部の回路を形成し、単結晶半導体層のレーザー光が照射された領域を用いて、画素部の回路を駆動する駆動回路を形成することを特徴としている。これにより、周辺回路領域と画素領域とに適した単結晶半導体層を用いた半導体装置を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】表示装置を大型化することなく見掛け上の表示領域の面積を拡大する
【解決手段】表示体Ｄの表示領域Ａ1内には、発光層１５からの出射光を観察側に反射する光反射層１１が形成される。外装体４０は、表示領域Ａ1が内側に位置するように形成された開口部４２を有し、表示体Ｄの周縁Ｑ2の外側に位置する部分を含む縁領域Ａ2を有する。反射防止板６０は、観察側から入射して光反射層１１や縁領域Ａ2にて反射した外光の観察側への出射を抑制する円偏光板６４を含む。 （もっと読む）

【課題】限られた狭い領域に多量の吸湿剤を形成し、有機ＥＬ素子の特性の安定化を図った有機ＥＬ表示装置の提供。
【解決手段】複数の発光素子を配列してなる表示領域を有する矩形の素子基板と、
前記素子基板と対向する周縁に形成される突堤においてシール材を介して前記素子基板に固着される封止基板とを備え、
前記封止基板の前記突堤で囲まれる凹面の前記表示領域と重なることのない領域に吸湿剤が形成され、
前記吸湿剤は、隣接する他の吸湿剤と接続されて平行配置される複数の線状パターンの集合からなる吸湿剤を含み、その長手方向と交差する方向の断面形状は互いに連続された複数連の山形となっている。 （もっと読む）

【課題】発光層及び電極の全面を光硬化型光透明性組成物の硬化体で保護し、上部シーリング部材と下部シーリング部材の発光体の接触不良を基本的に防止し、ディスプレイ素子シーリングの作業性を向上させ、耐湿性及び接着強度、トップエミッション方式の発光を可能にしてディスプレイ素子の開口率を向上できる、ディスプレイ素子の厚さを薄くして大型化に貢献できるディスプレイ素子のシーリング方法を提供する。
【解決手段】下板基材の上に正極、発光層、負極が備えられた下部シーリング部材と上部シーリング部材をシーリングするディスプレイ素子のシーリング方法において、（ａ）前記上部シーリング部材または下部シーリング部材の表面を光硬化型光透明性組成物で全面塗布する工程；（ｂ）前記光硬化型光透明性組成物が塗布された上部シーリング部材と下部シーリング部材を合着する工程；及び（ｃ）前記合着された上部シーリング部材と下部シーリング部材に光を照射して光硬化型光透明性組成物を硬化させる工程；を含む。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、有機ＥＬ素子上に該有機ＥＬ素子を駆動するためのＴＦＴを配した有機ＥＬ表示装置およびその製造方法を提供することにある。特に、高開口率が得られ、高精細、高輝度、高安定性、高信頼性、且つ高寿命のアクティブ型有機ＥＬ表示装置およびその製造方法を提供することである。
【解決手段】基板上に少なくとも下部電極、少なくとも発光層を含む有機層、及び上部電極を順次有する有機ＥＬ素子を有する有機ＥＬ表示装置であって、前記上部電極上に少なくともゲート電極、ゲート絶縁膜、活性層、ソース電極、及びドレイン電極を有し前記有機ＥＬ素子を駆動するＴＦＴを形成し、前記活性層が酸化物半導体を含有することを特徴とする有機ＥＬ表示装置およびその製造方法。 （もっと読む）

【課題】形成精度を考慮する必要なく、画素開口率に影響することなく表示品質の劣化を低減した補助電極を有する有機ＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】薄膜トランジスタを形成したアクティブ基板上に複数の有機ＥＬ素子からなる画素をマトリクス状に配列して有する表示パネルで構成したトップエミッション方式の有機ＥＬ表示装置であって、光出射側の電極である高抵抗性の透明導電膜ＣＤ上に低抵抗物質の粒子膜からなる補助配線ＳＤをオーバコートする。そして、アクティブ基板に各画素ごとに設けた一方の電極と、該一方の電極上に積層された有機発光層と、複数の有機ＥＬ素子を共通に覆って成膜された他方の電極からなり、他方の電極の表面に導電性粒子を含む導電薄膜を有する。 （もっと読む）

【課題】表示データに応じた適切な輝度階調で発光素子を発光動作させて良好な表示画質を実現することができる表示パネル及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板１１の一面側に設定された画素形成領域Ｒpxにおいて、上方側のＥＬ素子形成領域Ｆpxに、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ（アノード電極となる画素電極１４）、及び、画素駆動回路ＤＣを形成するトランジスタＴｒ１３のゲート電極Ｔｒ１３ｇに電気的に接続された導電層を一方側の電極Ｅcaとし、上記有機ＥＬ素子ＯＬＥＤの画素電極１４を他方側の電極ＥcbとするキャパシタＣｓが設けられ、下方側の回路形成領域Ｄpxには画素駆動回路ＤＣを形成するトランジスタＴｒ１１〜Ｔｒ１３が設けられている。 （もっと読む）

【課題】発光特性のバラツキを抑えることができる電気光学装置及び電子機器を提供する。
【解決手段】有機ＥＬ装置１１は、ガラス基板と、回路素子層と、発光素子層と、陰極とを有する。発光素子層は、画素電極３２上に形成された機能層と、機能層を区画するバンク３４とを有して構成されている。バンク３４は、第１下層バンク４１と第２下層バンク４２と上層バンク４３とを有する。また、バンク３４は、アスペクト比の異なる形状の発光領域１２と、発光領域１２の短辺側に形成された円弧４４の領域とを有するトラック状に形成されている。円弧４４の領域には、第１下層バンク４１と第２下層バンク４２と上層バンク４３とが階段状に形成されている。一方、直線４５の領域には、第１下層バンク４１と上層バンク４３とが階段状に形成されている。 （もっと読む）

【課題】本発明による有機電界発光素子は、前記電源配線を隣接した画素に同時に連結する。
【解決手段】本発明は有機電界発光素子に係り、特に開口率を改善するための有機電界発光素子の構成とそれによる製造方法に関する。本発明による有機電界発光素子は、隣接した画素に構成される駆動素子の位置を相互に近接するように構成して一つの電源配線で同時に信号を受けるようにする。このようにすれば電源配線の本数を従来に比べて１／２に減らすことができるので有機電界発光素子の開口率及び輝度を改善して配線不良を防止できる。 （もっと読む）

【課題】画素の配列ピッチを等間隔に設定しつつ、画素の開口率を高めることができる電源線の配線レイアウトを提供する。
【解決手段】電気光学装置は、電源回路から電源供給を受けて駆動される電気光学素子を含む、マトリクス状に配置された複数の画素１０を備えた電気光学装置であって、前記複数の画素１０は、行方向又は列方向のうち少なくとも何れか一方向に並ぶ一連の画素からなる複数の画素群を構成しており、前記複数の画素群の各々の画素群の間に配線形成領域３１，３２，３３，３４が設けられ、前記配線形成領域３１，３２，３３，３４の幅は略等しい。 （もっと読む）