【課題】極めて高い耐候性、防汚性、ガスバリア性、耐擦傷性とともに、耐曲げ性にも優れる機能性多層フィルムの製造法を提供すること、及びその製造方法で製造された機能性多層フィルムを用いたガスバリア性フィルム、及び有機素子デバイスを提供すること。
【解決手段】基材上に無機系ＵＶ吸収剤とＵＶ硬化樹脂とを含有するＵＶカット性層、ポリシラザン含有の塗布膜に改質処理を施して形成されるシリカ層がこの順で積層されて形成しており、かつＵＶカット性層はＵＶ硬化処理、シリカ層は波長２００ｎｍ以下の真空紫外光を照射する改質処理によって形成されたことを特徴とする機能性多層フィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子自体、とくにその一部を構成する電子注入層が劣化しにくく、また、高いガスバリア性を備え、フィルムを屈曲させたときにもガスバリア性が低下しにくく、簡易な工程で短時間で形成することが可能なフィルムを備える有機ＥＬ装置を提供する。
【解決手段】有機ＥＬ素子と、第１のフィルムとを有する有機ＥＬ装置であって、前記電子注入層はイオン性ポリマーを含み、前記第１のフィルムは、珪素、酸素及び炭素を含有するガスバリア層を有しており、前記ガスバリア層は、珪素原子の量の比率（珪素の原子比）、酸素原子の量の比率（酸素の原子比）及び炭素原子の量の比率（炭素の原子比）と、膜厚方向における前記ガスバリア層の一方の表面からの距離との関係をそれぞれ示す珪素分布曲線、酸素分布曲線及び炭素分布曲線が条件（ｉ）〜（ｉｉｉ）を満たす、有機ＥＬ装置に関する。 （もっと読む）

【課題】耐熱性及び光学特性のいずれにも優れる光学基材の提供。
【解決手段】エチレン及び直鎖状α−オレフィンからなる群より選ばれる１種以上と、環状オレフィンと、ビニル化合物との共重合体を含む基材の片面又は両面に、少なくとも１層のガスバリア層が積層されたことを特徴とする光学基材；エチレン及び直鎖状α−オレフィンからなる群より選ばれる１種以上と、環状オレフィンと、ビニル化合物とを共重合させ、得られた基材の片面又は両面に、少なくとも１層のガスバリア層を積層することを特徴とする光学基材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】十分なガスバリア性を有しており、しかもフィルムを屈曲させた場合においてもガスバリア性の低下を十分に抑制することが可能であり、かつ反りが軽減された積層フィルムを提供すること。
【解決手段】基材と、前記基材の両方の表面上に形成された少なくとも１層の薄膜層とを備える積層フィルムであって、前記薄膜層が珪素、酸素及び炭素を含有しており、且つ、前記薄膜層の膜厚方向における前記薄膜層の表面からの距離と、珪素原子、酸素原子及び炭素原子の合計量に対する珪素の原子比、酸素の原子比及び炭素の原子比との関係をそれぞれ示す珪素分布曲線、酸素分布曲線及び炭素分布曲線が特定の条件を満たすことを特徴とする積層フィルム。 （もっと読む）

【課題】性能の低下が少なく信頼性が高い電子デバイスを提供する。
【解決手段】積層フィルム５の上に設けられた有機ＥＬ素子と、積層フィルム５に対向する積層フィルム６と、有機ＥＬ素子を囲み積層フィルム５，６を貼り合わせる封止材２０と、を有し、積層フィルム５，６の少なくとも一方が有する薄膜層の少なくとも１層は、炭素分布曲線が実質的に連続である条件、炭素分布曲線が少なくとも１つの極値を有する条件、及び炭素分布曲線における炭素の原子比の最大値及び最小値の差の絶対値が５ａｔ％以上である条件を全て満たし、封止材２０は、ポリオレフィン樹脂を含む組成物である。 （もっと読む）

【課題】高いガスバリア性を備え、フィルムを屈曲させたときにもガスバリア性が低下しにくい保護膜を備える有機ＥＬ装置を提供する。
【解決手段】第１のフィルムと、前記第１のフィルム上に設けられる有機ＥＬ素子と、前記有機ＥＬ素子を覆うように形成される保護膜とを有する有機ＥＬ装置であって、前記保護膜は、珪素、酸素及び炭素を含有し、珪素原子、酸素原子及び炭素原子の合計量に対する珪素原子の量の比率（珪素の原子比）、酸素原子の量の比率（酸素の原子比）及び炭素原子の量の比率（炭素の原子比）と、前記膜厚方向における前記保護膜の一方の表面からの距離との関係をそれぞれ示す珪素分布曲線、酸素分布曲線及び炭素分布曲線が条件（ｉ）〜（ｉｉｉ）を満たす、有機ＥＬ装置に関する。 （もっと読む）

【課題】高いガスバリア性を備え、フィルムを屈曲させたときにもガスバリア性が低下しにくく、簡易な工程で短時間で形成することが可能なフィルムを備える有機ＥＬ装置を提供する。
【解決手段】第１のフィルムと、有機ＥＬ素子と、前記第１のフィルムとの間に前記有機ＥＬ素子を介在させて、第１のフィルム上に配置され、前記第１のフィルムとともに前記有機ＥＬ素子を封止する第２のフィルムとを有する有機ＥＬ装置であって、前記第２のフィルムは、珪素、酸素及び炭素を含有するガスバリア層を有しており、珪素原子の量の比率（珪素の原子比）、酸素原子の量の比率（酸素の原子比）及び炭素原子の量の比率（炭素の原子比）と、前記膜厚方向における前記ガスバリア層の一方の表面からの距離との関係をそれぞれ示す珪素分布曲線、酸素分布曲線及び炭素分布曲線が条件（ｉ）〜（ｉｉｉ）を満たす、有機ＥＬ装置。 （もっと読む）

【課題】水蒸気バリア性に優れる液晶ポリエステルから構成される基材層と、水蒸気バリア層とを有し、水蒸気バリア性に優れる積層フィルムを提供する。
【解決手段】基材層を、下記式（１）で表される繰返し単位と、下記式（２）で表される繰返し単位と、下記式（３）で表される繰返し単位とを有し、２，６−ナフチレン基を含む繰返し単位の含有量が、全繰返し単位の合計量に対して、４０モル％以上である液晶ポリエステルから構成し、その少なくとも一方の面上に、水蒸気バリア層を配置する。
−Ｏ−Ａｒ¹−ＣＯ− （１）
−ＣＯ−Ａｒ²−ＣＯ− （２）
−Ｏ−Ａｒ³−Ｏ− （３）
（Ａｒ¹は、２，６−ナフチレン基、１，４−フェニレン基又は４，４’−ビフェニリレン基を表す。Ａｒ²及びＡｒ³は、それぞれ独立に、２，６−ナフチレン基、１，４−フェニレン基、１，３−フェニレン基又は４，４’−ビフェニリレン基を表す。） （もっと読む）

【課題】性能の低下が少なく信頼性が高い電子デバイスを提供する。
【解決手段】積層フィルム５の上に設けられた有機ＥＬ素子と、積層フィルム５に対向する積層フィルム６と、有機ＥＬ素子を囲み積層フィルム５，６を貼り合わせる封止材２０と、を有し、積層フィルム５，６の少なくとも一方が有する薄膜層の少なくとも１層は、炭素分布曲線が実質的に連続である条件、炭素分布曲線が少なくとも１つの極値を有する条件、及び炭素分布曲線における炭素の原子比の最大値及び最小値の差の絶対値が５ａｔ％以上である条件を全て満たし、封止材２０は、エポキシ樹脂を含む組成物である。 （もっと読む）

【課題】十分なガスバリア性を有しており、しかもフィルムを屈曲させた場合においてもガスバリア性の低下を十分に抑制することが可能な積層フィルムを提供する。
【解決手段】本発明の積層フィルムは、基材と、前記基材の少なくとも片方の表面上に形成された少なくとも１層の薄膜層とを備える積層フィルムであって、前記薄膜層のうちの少なくとも１層が珪素、酸素及び炭素を含有しており、且つ、該薄膜層の膜厚方向における該薄膜層の表面からの距離と、珪素原子、酸素原子及び炭素原子の合計量に対する炭素原子の量の比率との関係を示す炭素分布曲線において、（ｉ) 前記炭素分布曲線が極大値と極小値を有すること、（ｉｉ) 前記炭素分布曲線の極大値が５ａｔ％以下であること、（ｉｉｉ) 前記炭素分布曲線において少なくとも１つの１ａｔ％以上の極大値があることを全て満たすことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】性能の低下が少なく信頼性が高い電子デバイスを提供する。
【解決手段】積層フィルム５の上に設けられた有機ＥＬ素子と、積層フィルム５に対向する積層フィルム６と、有機ＥＬ素子を囲み積層フィルム５，６を貼り合わせる封止材２０と、を有し、積層フィルム５，６の少なくとも一方が有する薄膜層の少なくとも１層は、炭素分布曲線が実質的に連続である条件、炭素分布曲線が少なくとも１つの極値を有する条件、及び炭素分布曲線における炭素の原子比の最大値及び最小値の差の絶対値が５ａｔ％以上である条件を全て満たし、封止材２０は、液晶性樹脂を含む組成物である。 （もっと読む）

【課題】紫外線カット性に優れ、かつ、耐傷性（以下、ハードコート性ともいう）の優れた紫外線遮蔽性フィルムを提供することにあり、さらには、極めて高いガスバリア性能、紫外線カット性に優れ、かつ、耐傷性（以下、ハードコート性ともいう）の優れたバリア性フィルムを提供すること、およびそれらフィルムを用いた有機光電変換素子や有機ＥＬ素子のような有機電子デバイスを提供することにある。
【解決手段】樹脂基板の少なくとも片面に有機化合物系の紫外線吸収剤と樹脂バインダーとを含む耐候層１を有し、該耐候層１の上に金属酸化物微粒子と樹脂バインダーとを含む耐候層２を有することを特徴とする紫外線遮蔽性フィルム。 （もっと読む）

【課題】バリア性能と屈曲耐性を両立できる均一なフィルムを提供することにあり、また該フィルムを有機電子デバイス用基材等のバリア性を必要とする素子等に応用することにある。
【解決手段】樹脂基材上に少なくとも１層の有機層を有するバリア性フィルムにおいて、該有機層上に厚み５〜１５０ｎｍの第１のＳｉＯ_ｘ（ｘ＞２）層が積層され、該ＳｉＯ_ｘ（ｘ＞２）層上にケイ素原子及び酸素原子を含有する無機層を少なくとも２層以上有することを特徴とするバリア性フィルム。 （もっと読む）

【課題】 表面からだけでなく、端面からの酸素及び水蒸気の浸入も防ぐことができ、且つ透明性を兼ね備えたガスバリア性積層体、及び包装袋を提供することを目的とする。
【解決手段】 プラスチック材料からなる基材フィルムの一方の面に、第１の耐候性コート層、蒸着層、及び、第２の耐候性コート層を、この順に設けた第１のガスバリア性フィルム積層体と、該第１のガスバリア性フィルム積層体と同一の構成を有する第２のガスバリア性フィルム積層体とを、それぞれの第２の耐候性コート層がフッ素樹脂系接着剤を介して対向するように積層した耐湿熱性ガスバリアフィルム積層体において、該第１の耐候性コート層、及び又は、第２の耐候性コート層が、架橋性基を有するフッ素含有共重合体と該架橋性基と反応する硬化剤とにより形成されたフッ素系樹脂からなることを特徴とする耐湿熱性ガスバリアフィルム積層体を提供することにより上記目的を達成する。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、表面に残存する異物が極めて少なく、かつガスバリア性フィルム表面にダメージを与えないガスバリア性フィルムの洗浄方法及びその方法により製造されたガスバリア性フィルムを用いた、極めてクリーンで耐久性の高い包装材料及び有機光電変換素子や有機ＥＬ素子のような有機電子デバイスを提供することにある。
【解決手段】ガスバリア性フィルムのウエット洗浄工程の前に、少なくとも１回の紫外線を用いたドライ洗浄工程を有することを特徴とするガスバリア性フィルムの洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】塗布技術により無機バリア層を無機材料で貼合した有機電子パネルの製造方法を提供する。
【解決手段】基材１１上に少なくとも一層の無機バリア層１２を有するバリア性フィルム２０を用いて有機電子デバイス１０を封止する有機電子パネル３０の製造方法であって、該無機バリア層を無機接着剤層１５を介して貼合し、該無機接着剤層が塗布により形成されたことを特徴とする有機電子パネルの製造方法。 （もっと読む）

【課題】汎用性の高いフレキシブル基材上にシート抵抗値が十分に小さく、湿熱条件後及び屈曲後においてもシート抵抗値の上昇が抑制できる透明導電層を具備する透明導電性フィルム及びその製造方法並びに透明導電性フィルムを用いた太陽電池及びエレクトロルミネッセンス素子を提供する。
【解決手段】フレキシブル基材１１の少なくとも片面に、（Ａ）ポリオルガノシロキサン系化合物を含有するコート材料からなるアンダーコート層１２と、（Ｂ）透明導電層１３とが順次形成された透明導電性フィルム１０とする。 （もっと読む）

【課題】ガラスフィルムに樹脂フィルムを貼り合わせた後の反りを抑え、反りに起因する樹脂フィルムのしわや剥離を確実に防止することが可能なガラス−樹脂積層体、及びそれをロール状に巻き取ったガラスロール、並びにガラスロールの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス−樹脂積層体１は、厚み１〜３００μｍの長尺状ガラスフィルム２の少なくとも一方の面に、厚み１〜３００μｍ、引張弾性率０．３ＧＰａ以上で、剥離可能な長尺状樹脂フィルム３が、長尺状ガラスフィルム２の短尺方向両側端２１から食み出した状態で積層されてなる。 （もっと読む）

【課題】十分なガスバリア性を示す高密度の非晶質窒化珪素膜を簡便な方法で提供すること。
【解決手段】高周波放電を利用したプラズマＣＶＤ法において、シランガスと、水素ガスと、アンモニアガスまたは窒素ガスの少なくとも一方とを含む混合ガスを用いて、電極間距離を５０〜１００ｍｍとし、シランガスに対する水素ガスの流量比（Ｈ₂／ＳｉＨ₄）を０．５〜３．０として非晶質窒化珪素膜を成膜する。 （もっと読む）

【課題】極めて高いバリア性能、折り曲げ耐性（フレキシブル性）、透明性及び平滑性に優れるバリア性フィルムを提供することであり、且つ、該バリア性フィルムを用いた有機電子デバイスを提供する。
【解決手段】樹脂基材上に、少なくとも有機層及び２層以上の無機層が積層され、該無機層の少なくとも１層が最上層を形成しているバリア性フィルムであって、該２層以上の無機層は各々酸化珪素あるいは酸窒化珪素を少なくとも含有し、且つ、最上層に設けられている無機層ＡのＥＳＲ法によるＰｂセンターのラジカル密度Ａが、該無機層Ａに隣接する下層の無機層Ｂのラジカル密度Ｂよりも小さいことを特徴とするバリア性フィルム。 （もっと読む）