【課題】有機ＥＬ素子の長寿命化が可能な発光装を提供する。
【解決手段】発光装置は、画素電極１３、発光機能層１８、及び対向電極５を含む有機ＥＬ素子８と、対向電極の上に且つ当該対向電極と直接の接点をもつように形成される補助電極５０１と、補助電極及び対向電極を覆うように形成され、有機ＥＬ素子に対する水及び酸素の進入を防止するバリア層４０と、を備える。そして、補助電極は、平面視して第１方向に線状に延び、その第１方向に交わる方向における断面形状は、テーパ形状を含む。 （もっと読む）

本発明は，有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）に基づく照明器具（１０）に関する。照明器具（１０）は，支持材の上に，少なくとも１つの有機発光層（ＯＬＥＤ層）と，少なくとも１つのアノード層およびカソード層とを備えると共に，これらの電極層を電気的に接触させるためのコンタクト手段を備える層配列（１５）を有している。本発明によれば，ＯＬＥＤ層と，少なくとも１つの電極層とを，支持材として機能する形状が安定した回転面の内側に形成させることが提供される。本発明によれば，ガラス，プラスチック，又は他の光透過性の材料から構成される，十分に又は完全に閉ざされた中空体（１１）の内表面は，支持材として機能する。本発明は，従来の白熱電球又は蛍光灯と互換性を有し，従ってこれと交換可能なように形成された，有機発光ダイオードに基づく新規の照明器具（１０）を実現する。 （もっと読む）

【課題】水分の影響を効果的に防止し、かつ、製造コストを抑えることが出来る有機ＥＬ表示装置の封止方法を得る。
【解決手段】回路基板１０１に形成された回路形成部１０２の上に有機ＥＬ素子部１０００が形成されている。有機ＥＬ素子部１０００はＳｉＮｘＯｙ膜を含む保護層１１３によって覆われている。ＳｉＮｘＯｙは、Ｓｉ-Ｏ-Ｓｉ 伸縮振動吸収ピークが１０００ ｃｍ^-１ より低エネルギー側に存在し、約８７０ ｃｍ^-１近傍に存在するＳｉ-Ｎ伸縮振動吸収ピークの吸収強度が前記Ｓｉ-Ｏ-Ｓｉ伸縮振動吸収ピークの吸収強度の０．７５倍以上であり、２０００〜４０００ｃｍ^-１ 領域での吸収ピークの強度が前記Ｓｉ-Ｎ伸縮振動吸収ピークの吸収強度の５％以下である赤外吸収特性を有する。これによって優れた水分阻止特性を有する保護膜を得ることが出来、有機ＥＬ表示装置の寿命特性を向上することが出来る。 （もっと読む）

本発明は、発光層のマトリクス材料としての、式(I)の金属錯体を含有する燐光有機電子発光デバイスに関する。
（もっと読む）

【課題】有機層と無機層を積層したガスバリアフィルムを用いて画像表示素子を製造する方法を提供する。
【解決手段】 少なくとも１つの有機領域と、少なくとも１つの無機領域とを有するガスバリアフィルムを乾燥することを含む、画像表示素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】硫化亜鉛（ＺｎＳ）をエレクトロルミネッセンス層の構成材料とし、低電圧で直流駆動しつつ高輝度を得ることが可能なＥＬ素子を提供する。
【解決手段】基板上に、第一電極、エレクトロルミネッセンス層及び第二電極を積層して備えるエレクトロルミネッセンス素子であって、上記エレクトロルミネッセンス層は、第一の酸化亜鉛層、硫化亜鉛層及び第二の酸化亜鉛層をこの順に含んで構成されるエレクトロルミネッセンス素子である。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子等の製造工程において、ＩＴＯ層とＳｉＮ（無機珪素化合物）層の親水性を確保し、樹脂層の撥水性を確保する。
【解決手段】ＩＴＯ層１２とＳｉＮ層１３とポリイミド樹脂層１４がそれぞれ露出した被処理物１０に、ＣＦ_４等のハロゲン含有ガスをプラズマ化して接触させる（第１工程）。次に、被処理物１０を水性の洗浄液ｆ_Ｌで洗浄し、乾燥させる（第２工程）。次に、Ｎ_２等の不活性ガスをプラズマ化して被処理物１０に接触させる（第３工程）。 （もっと読む）

【課題】芳香族化合物およびこれを含む有機膜を備えた有機発光素子並びにその製造方法を提供する。
【解決手段】下記化学式１で表される芳香族化合物：


前記化学式１のうち、Ｂは、単結合、置換若しくは非置換のＣ_１〜Ｃ_６０アルキレン基、置換若しくは非置換のＣ_５〜Ｃ_６０シクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ_５〜Ｃ_６０ヘテロシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のＣ_５〜Ｃ_６０アリーレン基、置換若しくは非置換のＣ_２〜Ｃ_６０ヘテロアリーレン基、−Ｎ（Ｚ_１）−で表される２価の基、この際、Ｚ_１は、水素原子、置換若しくは非置換のＣ_１〜Ｃ_６０アルキル基、置換若しくは非置換のＣ_５〜Ｃ_６０アリール基であり、ｎは、１〜１０の整数であり、ｎが２以上の場合にはＢは互いに同一でも異なってもよく、Ｍ_１およびＭ_２は互いに独立して、特定の芳香族縮合四員環末端基等である。 （もっと読む）

【課題】 フレキシビリティに優れ、かつ、高い透明性と導電性を有すると同時に、その導電性が安定した透明導電層付フィルムおよび分散型ＥＬ素子等の各種フレキシブル機能性素子の提供。
【解決手段】 ベースフィルム上にパターン補助電極層が形成され、さらに前記ベースフィルムおよびパターン補助電極層上に塗布法によって透明導電層を形成した透明導電層付フィルムであって、前記ベースフィルムの厚さが３〜２００μｍ、前記パターン補助電極層が金属を主成分とする厚さ０．０２〜０．２μｍの薄膜からなり、前記透明導電層が前記パターン補助電極層の厚さの２〜１０倍の厚さであり、かつ、導電性酸化物微粒子とバインダーマトリックスを主成分とし、圧縮処理が施されていることを特徴とする。 （もっと読む）

処理空間の中で基板（６）の表面に原子層を堆積する装置及び方法。ガス供給デバイス（１５、１６）が、種々のガス混合物を処理空間（１、２）に供給するためにある。このガス供給デバイス（１５、１６）は、反応表面部位が前駆体材料分子と反応して、その反応部位を介して基板の表面に付着した前駆体分子の単分子層で覆われた表面を得ることができるように、前駆体材料とともにガス混合物を処理空間に供給するように構成される。その後で、付着した前駆体ｍ分子を反応前駆体部位に変換できる反応剤を含むガス混合物が供給される。プラズマ発生器（１０）が、反応剤を含むガス混合物中で大気圧プラズマを発生するためにあり、このプラズマ発生器は、処理空間（１、２）から離れて配置される。
（もっと読む）

【課題】容易に製造することができ、且つ発光特性及び寿命特性が良好な有機エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】陽極、発光層及び陰極を有する有機エレクトロルミネッセンス素子であって、前記陽極と前記発光層との間に設けられた、金属ドープモリブデン酸化物層をさらに有する有機エレクトロルミネッセンス素子；並びに素子を構成する他の層上に、酸化モリブデン及びドーパント金属を同時に積層し、金属ドープモリブデン酸化物層を得る積層工程を含む前記有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 （もっと読む）

本発明は、文書、特に重要文書又はセキュリティ文書であって、該文書は表示装置１００を備え、該表示装置は、データの再生のためにエネルギー供給を必要としない第１の駆動可能な表示素子１０２；１４６と、データの再生のためにエネルギー供給を必要とする第２の駆動可能な表示素子１０４；１４８とを備え、該文書は、同一のデータの再生のために第１の表示素子１０２、１４６及び第２の表示素子１０４、１４８を駆動する制御手段１０６を備える、文書に関する。 （もっと読む）

【課題】容易に製造することができ、且つ発光特性及び寿命特性が良好な有機ＥＬ素子、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】陽極、発光層、陰極、及び前記陽極と前記発光層との間に正孔注入層として金属酸化物層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子であって、前記金属酸化物層が：（Ａ）素子を構成する他の層上に金属酸化物を堆積して未処理金属酸化物層を得る工程；及び（Ｂ）酸素原子を含む雰囲気下で、前記未処理金属酸化物層の表面にエネルギーを加える表面処理工程により得られる層である有機エレクトロルミネッセンス素子、並びにその製造方法。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子を封止する無機物層を含む被膜を形成するときに、有機ＥＬ素子に与えるダメージを抑えながら、水蒸気や酸素に対するバリア性の高い被膜を形成することができる有機ＥＬ装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】基板１０上に、少なくとも一方が透明または半透明の一対の電極間に発光層を含む有機ＥＬ層２２を挟んで構成した有機ＥＬ素子２０と、有機ＥＬ素子２０に接する少なくとも１層の無機物膜を含み、有機ＥＬ素子２０を封止する封止層３０と、を形成する際に、封止層３０中の有機ＥＬ素子２０に接する第１の封止膜３１をイオンビームスパッタ法で形成し、封止層３０中の他の無機物膜をイオンビームスパッタ法以外の他の成膜方法で形成する。 （もっと読む）

【解決手段】 本発明は、モジュールおよび当該モジュールの製造方法に関する。当該モジュールでは、平面状の電子部品が可撓性基板の上に形成され、互いに導電接続されており、複数の電子部品は直列接続されていなければならない。本発明は、モジュールを提供することを目的とする。このようなモジュールは、高いコスト効率で製造し得ると共に、各電子部品で発生する、または、電子部品同士の間の導電接続で発生する欠陥が、容易に補償され得る。本発明に係るモジュールは、平面状の電子部品が複数形成されており、各電子部品は、可撓性を有する変形可能な基板の上に形成されたベース電極と、その上に形成された光学活性層と、その上を被覆するように形成されたカバー電極とを有する。カバー電極は、電子部品の片側において光学活性層を越えて突出しており、ベース電極は、電子部品の反対側において光学活性層を超えて突出している。電子部品は、基板上で互いから離間されているので、電子部品間には自由基板表面が設けられており、自由基板表面の領域において基板が折り曲げられると、互いに隣接する電子部品のベース電極およびカバー電極が互いに平面状に接触して、導電接続が得られる。 （もっと読む）

【課題】生産性に優れ、且つ安価なガラス基板やプラスチック基板、フィルム等を用いて、高輝度、高信頼性のＥＬ素子を提供する。
【解決手段】ＥＬ素子は、少なくとも一方が透明又は半透明である一対の電極と、前記電極間に挟まれて設けられた層であって、平均粒径が５ｎｍ〜５００ｎｍの範囲の誘電体結晶粒と、平均粒径が５ｎｍ〜５００ｎｍの範囲の無機蛍光体結晶粒とが混在しており、前記各結晶粒が、平均厚さが０．５ｎｍ〜５ｎｍの範囲の粒界を介して接して構成された複合層とを備える。 （もっと読む）

【課題】蒸着マスクを保持するマスク用フレームにおいて、剛性がありながら軽量で熱膨張の少ないものを提供する。また製造時における変形を極力抑えることができる構造を有するマスク用フレームを提供する。
【解決手段】２５〜１００℃における熱膨張係数が１．１〜８．５×１０^−６／℃の材料で作られた中空断面部材１０１〜１０４を拘束部材１０５ａ、１０５ｂ、１０６ａおよび１０６ｂを介して接合させる。低熱膨張係数の材料を用い、さらに拘束部材１０５ａ、１０５ｂ、１０６ａおよび１０６ｂを用いることで、組み立て時の溶接および蒸着時の加熱による熱変形を抑えることができる。 （もっと読む）

本発明は押印プロセスを用いてパターン層を基板上に形成するための方法に関する。本方法によれば、第1の層が基板に供され、凹部のパターンが、パターニング手段を伴った層を押印することによって、第1の層に供される。この後、第1の層が硬化される。硬化の後に、第1の層を親水性にするために、第1の層上へ第1の表面処理を実施するステップと、この後、サブエリアを疎水性にするために、第1の層の表面の選択されたサブエリア上へ第2の表面処理を実施するステップと、が続く。サブエリアは凹部間の表面部分を含み、凹部そのものは含まない。最後に、導電性のパターン材が凹部に蒸着される。
（もっと読む）

原子層堆積法及び分子層堆積法を用いて柔軟性基板上に被覆された被膜。この被膜の厚さは１００ｎｍ以下である。この被膜は、アルミナのような無機材料の層を含み、柔軟性を付与する層により分離され、この柔軟性を付与する層は、無機材料層に共有化学結合で結合するように堆積され、原子層堆積法で堆積されたシリカ、分子層堆積法で堆積された有機ポリマー、又は分子層堆積法で堆積された複合有機−無機ポリマー、のうちの１又はそれ以上である。
（もっと読む）

【課題】製造工程の複雑化を防ぎ、かつ品質の劣化を抑制できる有機ＥＬ素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】第１電極層２と、第１電極層２上に配置された絶縁膜３と、絶縁膜３上に配置され、絶縁膜３に設けられた開口部で第１電極層２に接する有機層４と、有機層４上に配置された第２電極層５と、有機層４の端面及び第２電極層５の端面に接し、第２電極層５上に配置された金属層６とを備える。 （もっと読む）