【課題】レーザー光の照射によるアニール温度で昇華する特性を有する発光層を用いた場合であっても、その昇華性発光層の昇華による影響を抑制しつつ、効率的なアニール処理を行って、発光輝度の向上を図ること。
【解決手段】 絶縁性基板１上に、順に、第１電極２、第１絶縁層３、発光層４、第２絶縁層５、及び第２電極６を形成するとともに、発光層４にレーザー光を照射して、当該発光層の発光輝度を向上させるＥＬ素子の製造方法において、発光層４は、レーザー光が直接照射されたときのアニール温度によって昇華する特性を有する第１発光層４ａと、当該アニール温度において昇華しない特性を有する第２発光層４ｂとを含み、第１発光層４ａが下側となり、第２発光層４ｂが上層側となるようにそれぞれ成膜する。そして、第２の絶縁層を形成する前に、レーザー光を第２発光層４ｂに直接照射してアニール処理を行う。 （もっと読む）

【課題】製造工程の複雑化及び薄膜トランジスタの特性劣化を引き起こす、紫外線照射による、表示装置の電極表面の洗浄工程を省いた、新規な表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板１上に駆動回路と発光部を形成する表示装置の製造方法である。発光部を形成する工程は、発光層に電荷を印加する透明アノード電極８を形成する工程と、透明アノード電８上に第１の被覆層９と第２の被覆層１０を形成する工程と、第２の被覆層１０をマスクとして第１の被覆層９をエッチングにより除去する工程と、第１の被覆層９が除去された透明アノード電極８上に発光層を含む層を形成する工程と、を有する。透明アノード電極８は、紫外線照射による洗浄を施したものと同等に清浄な表面となる。 （もっと読む）

【課題】透明導電膜で形成された上部電極の電圧降下を防止し、画面輝度が均一なトップエミッション型有機ＥＬ表示装置を実現する。
【解決手段】上部電極と下部電極に挟持された画素がマトリクス状に形成されて表示領域を形成している。画素と画素の間に、上部電極の電圧降下を防止するために補助電極３０が横方向に延在している。上部電極３０に電流を供給するための電流供給線と補助電極とは絶縁膜にスルーホールを形成して導通をとる。スルーホールの接続の信頼性を確保するために、スルーホールに、補助電極３０と重畳して金属で形成されたコンタクト電極４０を蒸着する。 （もっと読む）

【課題】 発光材料層より下層に配置した配線（補助配線）と共通電極との間の接続構造を備えた、高精細で長寿命な有機ＥＬ表示装置を提供することにある。
【解決手段】 有機ＥＬ表示装置は、基板と、前記基板上に形成された複数の第１電極と、前記複数の第１電極の中央を露出させるとともに、外縁を覆うバンクと、前記バンク上に形成された第２電極と、前記バンク、前記第１電極及び前記第２電極の上に配置された発光材料層と、前記発光材料層の上に形成された第３電極とを有し、前記発光材料層は、前記第２電極と重なる位置に周囲が盛り上がった開口を備え、前記第３電極は、前記開口の内面を覆っている。 （もっと読む）

【課題】有機発光層の側面を完全に封止し、発光特性の劣化が少ないと共に、薄型化が可能な有機エレクトロルミネッセンス素子を提供する。
【解決手段】基板３０上に形成される基板側電極２と、基板側電極の上面に形成される有機発光層４と、有機発光層の上面に形成される上部電極６と、上部電極の上面及び側面並びに有機発光層の側面を連続して完全に覆う第１の無機膜１２と、第１の無機膜を覆うポリマー膜１４と、ポリマー膜を覆う第２の無機膜１６とを備え、第１の無機膜が第２の無機膜より疎になっている。 （もっと読む）

【課題】無機ＥＬ及びＰＤＰ用として良好な、色純度が良く高輝度の蛍光体薄膜と、それを高い成膜速度で形成することができる成膜方法を提供する。
【解決手段】亜鉛、バリウム、アルミニウム、イオウ及びユウロピウムから構成される次の組成式：Ｚｎ_x０Ｂａ_x1Ａｌ_x2Ｓ_x3Ｅｕ_x4（式中、ｘ０〜ｘ４は、下記の（１）〜（５）に示す要件を満たす。）で表される硫化物から形成される蛍光体薄膜であって、その化合物組織は、組成式：ＢａＡｌ_２Ｓ_４：Ｅｕで表される化合物相を主体として含む相からなることを特徴とする。
（１） ０．０１≦ｘ０≦０．０２
（２） ｘ１＋ｘ４＝１
（３） ２．０１≦ｘ２≦３．０
（４） ４.０＜ｘ３≦４．３
（５） ０．０３≦ｘ４≦０．１０ （もっと読む）

【課題】高い輝度を有し、表示安定性に優れた無機ＥＬ素子を開発する。
【解決手段】基板上に、第１電極、第１絶縁層、発光層、第２絶縁層、および第２電極を備えた無機ＥＬ素子であって、第２絶縁層と第２電極との間にバリア層を形成し、第２透明電極の形成時における第２絶縁層のダメージを抑制した無機ＥＬ素子。 （もっと読む）

【課題】所望の結晶性を有する酸化亜鉛薄膜を形成する。
【解決手段】基板上に積層された酸化亜鉛薄膜であって、ウルツ鉱型の結晶性薄膜であり、該結晶性薄膜のｃ軸が基板に略垂直方向に配向しており、かつ該結晶性薄膜のｃ軸方向の極性面の一つである亜鉛面が最上層に形成されているものである。また、基板上に積層された酸化亜鉛薄膜であって、ウルツ鉱型の結晶性薄膜であり、金属薄膜層上に薄膜形成技術によって形成される。 （もっと読む）

【課題】有機発光デバイスの性能を確保する。
【解決手段】第１の電極と第２の電極との間に配置された少なくとも１つの発光性有機材料層を有し、前記第１の電極及び第２の電極の一方が多層構造であり、前記多層構造の各層がＤＣマグネトロンによりスパッタされた層である有機発光デバイスにつき開示する。さらに、第１の電極と第２の電極との間に配置された２つ以上の発光性有機材料層を有し、有機材料の最上層が有機材料の下側層よりもスパッタ付着に対し耐性を有し、さらに前記有機材料の最上層の上に形成された電極がスパッタ層である有機発光デバイスについても開示する。さらに、この種の構造の構築方法についても開示する。 （もっと読む）

【課題】容易に製造することができ、且つ発光特性及び寿命特性が良好な有機ＥＬ素子、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】陽極、発光層、陰極、及び前記陽極と前記発光層との間に正孔注入層として金属酸化物層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子であって、前記金属酸化物層が：（Ａ）素子を構成する他の層上に金属酸化物を堆積して未処理金属酸化物層を得る工程；及び（Ｂ）酸素原子を含む雰囲気下で、前記未処理金属酸化物層の表面にエネルギーを加える表面処理工程により得られる層である有機エレクトロルミネッセンス素子、並びにその製造方法。 （もっと読む）

【課題】容易に製造することができ、且つ寿命特性が良好な有機ＥＬ素子、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】陽極、発光層、陰極、及び前記陽極と前記発光層との間又は前記発光層と前記陰極との間に設けられた金属酸化物層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子であって、前記金属酸化物層が：（Ａ）素子を構成する他の層上に金属酸化物を堆積して未処理金属酸化物層を得る工程；及び（Ｂ）前記金未処理属酸化物層を加熱処理する工程により得られる層である有機エレクトロルミネッセンス素子、並びにその製造方法。 （もっと読む）

【課題】容易に製造することができ、且つ発光特性及び寿命特性が良好な有機エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】陽極、発光層及び陰極を有する有機エレクトロルミネッセンス素子であって、前記陽極と前記発光層との間に設けられた、金属ドープモリブデン酸化物層をさらに有する有機エレクトロルミネッセンス素子；並びに素子を構成する他の層上に、酸化モリブデン及びドーパント金属を同時に積層し、金属ドープモリブデン酸化物層を得る積層工程を含む前記有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ボンディング時に、ロウ材のＩｎとＢａＡｌ：Ｅｕ合金板の成分とが相互に拡散することを防止し、ロウ材のＩｎ層を変質させずに、スパッタリングターゲットとバッキングプレートとを接合させる。
【解決手段】Ｂａ含有合金スパッタリングターゲットである金属層１１の一方の表面に、Ｂａと合金を形成しない、Ｔａ、Ｎｂ、Ｗ、Ｍｏなどの金属からなるバリア層１２を形成し、該バリア層１２の上に、Ｎｉ、Ｃｕなどからなる濡れ性改善層１３をさらに形成し、その後、該一方の表面を、Ｉｎからなるロウ材３を介して、ボンディングによりバッキングプレート２に接合する。 （もっと読む）

【課題】各種電子機器、情報機器のディスプレイなどに使用される有機エレクトロルミネッセンス素子の陰極を構成する金属膜を提供する。
【解決手段】Ｂａ：３０〜７０質量％を含有し、さらに酸素：０．０５〜１質量％を含有し、残部がアルミニウムおよび不可避不純物からなる組成を有する金属膜であって、この金属膜は蒸着、スパッタ、その他の方法で成膜される。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子を封止する無機物層を含む被膜を形成するときに、有機ＥＬ素子に与えるダメージを抑えながら、水蒸気や酸素に対するバリア性の高い被膜を形成することができる有機ＥＬ装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】基板１０上に、少なくとも一方が透明または半透明の一対の電極間に発光層を含む有機ＥＬ層２２を挟んで構成した有機ＥＬ素子２０と、有機ＥＬ素子２０に接する少なくとも１層の無機物膜を含み、有機ＥＬ素子２０を封止する封止層３０と、を形成する際に、封止層３０中の有機ＥＬ素子２０に接する第１の封止膜３１をイオンビームスパッタ法で形成し、封止層３０中の他の無機物膜をイオンビームスパッタ法以外の他の成膜方法で形成する。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子を封止する無機物層を含む被膜を形成するときに、有機ＥＬ素子に与えるダメージを抑えることができる有機ＥＬ装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】基板１０上に、少なくとも一方が透明または半透明の一対の電極間に発光層を含む有機ＥＬ層２２を挟んで構成した有機ＥＬ素子２０と、有機ＥＬ素子２０に接する少なくとも１層の無機物膜を含み、有機ＥＬ素子２０を封止する封止層３０と、を形成する際に、封止層３０中の有機ＥＬ素子２０に接する第１の封止膜３１を対向ターゲット式スパッタ法で形成し、封止層３０中の他の無機物膜を対向ターゲット式スパッタ法以外の他の成膜方法で形成する。 （もっと読む）

【課題】有機層を画素ごとにパターニングしなくても、また第２電極を必要以上に厚くしなくても、補助配線と第２電極とを電気接続することができる有機ＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】基板（ガラス基板１０１）の上に、第１電極３００と、少なくとも発光層を含む有機層３１０と、第２電極３２０とを有する有機ＥＬ素子を複数備え、隣接して配置される第１電極３００の間に絶縁性の画素分離膜３３０を備え、画素分離膜３３０の上に導電性材料からなる補助配線３４０を備えた有機ＥＬ表示装置において、補助配線３４０の上には、逆テーパー状の絶縁体又は導電体からなる隔壁３５０が形成されており、隔壁３５０の逆テーパー部の直下位置で補助配線３４０と第２電極３２０とが電気的に接続されていることを特徴とする有機ＥＬ表示装置。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子上に該有機ＥＬ素子を駆動するためのＴＦＴを配した有機ＥＬ表示装置を提供することにある。特に、高開口率が得られ、高精細、高輝度、且つ高寿命のアクティブ型有機ＥＬ表示装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】有機ＥＬ素子、及び前記有機ＥＬ素子上に形成された薄膜電界効果型駆動トランジスタを有する有機ＥＬ表示装置であって、上部電極３４と前記薄膜電界効果型トランジスタの間に前記上部電極３４と電気的に接して導電性エッチング保護膜１０９、前記導電性エッチング保護膜１０９と前記薄膜電界効果型トランジスタとの間に保護絶縁膜１０６を有し、前記保護絶縁膜１０６に設けられたコンタクトホール１０８を通して前記薄膜電界効果型トランジスタのソース１０５ａまたはドレイン電極１０５ｂと前記導電性エッチング保護膜１０９が電気的に接続していることを特徴とする有機ＥＬ表示装置およびその製造方法。 （もっと読む）

【課題】劣化しにくい発光素子を提供することを目的とする。また、劣化しにくい発光装置および電子機器を提供することを目的とする。また、劣化しにくい発光素子の作製方法を提供することを目的とする。
【解決手段】一対の電極間にＥＬ層を有する発光素子を、無機化合物とハロゲン原子とを含む層、もしくは有機化合物と無機化合物とハロゲン原子とを含む層を用いて覆うことで、水分の侵入による劣化を抑制することができる。よって、長寿命の発光素子を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】薄い電極を用いることで非点灯を低減しながら、同時に微小共振器構造を有する有機発光素子を提供する。
【解決手段】有機発光素子において、基板の側から順に第１電極層、有機層、第２電極層、透明絶縁層、光反射透過層から成る層構成を持つ。前記第２電極層の膜厚が１ｎｍ以上３０ｎｍ以下である。前記光反射透過層と前記第１電極層との間に微小共振器構造を有し、前記光反射透過層と前記第１電極層との間の膜厚が、前記有機層から発光する光を強めるように調整されていることを特徴とする。 （もっと読む）