有機発光ダイオード装置の支持体を形成するテクスチャ表面を有する構造体および製造方法であって、上記構造体は、ミネラルガラス（２）で作られた界面膜が随意的に付着された、ミネラルガラスで作られた透明基板（１０）上に設けられており、表面のテクスチャプロファイルは、凸部が鋭くなり過ぎず、取り出し効率の向上を確実にするように、ＦＴまたは粗さパラメータＲｄｑによって定義された凸部（１４）および凹部（１５）からなる。方法は特に、ガラス基板上に被覆層（１１）を付着させ、加熱および冷却によってアセンブリの収縮を確実にすること、からなる。
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【課題】有機ＥＬ層を構築する有機材料にピンホールを形成することなく、ダークスポット等、有機ＥＬディスプレイ特有の劣化現象を回避する。
【解決手段】基板１上に形成された有機ＥＬディスプレイ用の反射アノード電極であって、該反射アノード電極は、Ｎｄを０．０１〜１．５原子％含有するＡｇ基合金膜６と、該Ａｇ基合金膜６上に直接接触する酸化物導電膜７とを有する反射アノード電極を形成する。 （もっと読む）

本発明は、有機発光ダイオード装置の支持体を形成する無機ガラスで作られた基板（１０）を含むテクスチャ外面（２０、３０）を有する構造体を担持する有機発光ダイオード装置を製造するためのプロセスであって、
テクスチャ外面を有する前記構造体の製造であって、
突起（２０）を形成するように、１００℃以上の温度で、少なくとも３００ｎｍの厚みの第一誘電体層（２）の、無機ガラスで作られた基板（１０）上への蒸着と、
第一層（２）と同じかまたはそれ以上の屈折率を有し、突起を十分に平滑化してテクスチャ外面（３０）を形成するように、本質的に非晶質の材料で作られている、第二誘電体層（３）の、前記第一層への付着と、を含む製造と、
平滑化された外面（３０）と実質的に一致する表面を形成するように、層状の電極の、平滑化層への直接的な付着と、を含むプロセスに関する。
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【課題】有機ＥＬ層を構築する有機材料にピンホールを形成することなく、ダークスポット等、有機ＥＬディスプレイ特有の劣化現象を回避する。
【解決手段】基板１上に形成された有機ＥＬディスプレイ用の反射アノード電極であって、該反射アノード電極は、Ｂｉを０．０１〜４原子％含有するＡｇ基合金膜６と、該Ａｇ基合金膜６上に直接接触する酸化物導電膜７とを有する反射アノード電極を形成する。 （もっと読む）

本発明は、オプトエレクトロニクス構成素子のための薄膜カプセル化部（１）に関している。この薄膜カプセル化部（１）は、原子層堆積法を用いて堆積された第１のＡＬＤ層（３）と、原子層堆積法を用いて堆積された第２のＡＬＤ層（４）とを含んだ積層構造体（２）を有している。さらに本発明は、そのような薄膜カプセル化部を製造する方法並びにそのような薄膜カプセル化部を備えたオプトエレクトロニクス素子にも関している。
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【課題】有機ＥＬ装置において、画素定義膜からのアウトガス量を減少させて、有機膜の劣化を防止する。
【解決手段】画素定義膜からのアウトガス量を減少させて、前記アウトガスによる発光部の劣化を防ぐことができるように前記画素定義膜上に少なくとも一つのバリア層を形成して、またレーザ熱転写法を用いた後工程をし易いようにするために厚さが十分薄い画素定義膜を備えるエレクトロルミネッセンスディスプレイ装置のために、基板と、前記基板上に備えられた複数の画素電極と、前記画素電極上に位置しながら前記各画素電極の所定部分を露出する開口部を備える画素定義膜と、前記画素定義膜の上部及び／または内部に位置する少なくとも一つのバリア層とを備えることを特徴とするエレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】従来よりも少ないマスク数により作製でき、光電流による影響が抑えられた薄膜トランジスタ及び表示装置の作製方法を提供する。
【解決手段】遮光膜、下地膜、第１の導電膜、第１の絶縁膜、半導体膜、不純物半導体膜及び第２の導電膜を順に積層して形成し、第２の導電膜上に第１のレジストマスクを形成し、第１のレジストマスクを用いて、第２の導電膜、不純物半導体膜、半導体膜、第１の絶縁膜、第１の導電膜、下地膜及び遮光膜に第１のエッチングを行い、第１の導電膜の一部にサイドエッチングを伴う第２のエッチングを行ってゲート電極層を形成し、第２の導電膜上に第２のレジストマスクを形成し、第２のレジストマスクを用いて、第２の導電膜、不純物半導体膜及び半導体膜の一部に第３のエッチングを行ってソース電極及びドレイン電極層、ソース領域及びドレイン領域並びに半導体層を形成することで薄膜トランジスタを作製する。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも１つのバーナー（２）を含む火炎処理装置に沿って移動するガラス基材（１）上に堆積された少なくとも１つの薄膜を火炎熱処理するための方法であり、この処理が少なくとも１つの薄膜の結晶化率を増大させ及び／又は少なくとも１つの薄膜内の微結晶サイズを増大させるのに適している方法であって、最大の一時的な曲げ「ｂ」が１５０ｍｍ未満でかつ以下の条件、すなわち、ｂ≦０．９×ｄを満たし、式中、曲げ「ｂ」が、加熱されない基材の平面（Ｐ１）と、バーナー（２）の先端（６）を通りかつ加熱されない基材の平面（Ｐ１）に平行な平面（Ｐ２）に最も近い基材の点との間のｍｍ単位で表される距離に対応し、「ｄ」が、加熱されない基材の平面（Ｐ１）とバーナー（２）の先端（６）との間のｍｍ単位で表される距離に対応し、移動方向（５）に垂直な方向での基材の幅「Ｌ」が１．１ｍ以上であることを特徴とする方法に関する。 （もっと読む）

【課題】酸化物半導体層を用い、電気特性の優れた薄膜トランジスタを備えた半導体装置を提供することを課題の一つとする。
【解決手段】チャネル形成領域にＳｉＯｘを含むＩｎ−Ｓｎ−Ｏ系酸化物半導体層を用い、電気抵抗値の低い金属材料からなる配線層とのコンタクト抵抗を低減するため、ソース電極層及びドレイン電極層と上記ＳｉＯｘを含むＩｎ−Ｓｎ−Ｏ系酸化物半導体層との間にソース領域又はドレイン領域を設ける。ソース領域又はドレイン領域、及び画素領域は同一層のＳｉＯｘを含まないＩｎ−Ｓｎ−Ｏ系酸化物半導体層を用いる。 （もっと読む）

【課題】 従来の有機化合物を無機材料で形成される電極上に積層させた構造の発光素子
では、十分な輝度が得られなかった。また、消費電力が高く、輝度の半減寿命が短く安定
性に関して改善すべき課題を有していた。
【解決手段】 本発明は、正孔注入電極（陽極）として、従来のＩＴＯ等の透光性酸化物
導電層に代えて、珪素又は酸化珪素を含む透光性酸化物導電層の積層構造を採用すること
を特徴としている。または、正孔注入電極として、含有量の異なる珪素又は酸化珪素を含
む透光性酸化物導電層の積層構造を採用することを特徴としている。好ましくは、ＴＦＴ
に接続される側の導電層中の珪素又は酸化珪素濃度を１〜６原子％、有機化合物を含む層
側の珪素又は酸化珪素濃度を７〜１５原子％とする。 （もっと読む）

【課題】発光輝度の経時的低下の小さい上部発光型有機ＥＬ素子および前記上部発光型有機ＥＬ素子の陽極層を構成する反射膜の形成に用いられるＡｌ合金スパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】上部発光型有機ＥＬ素子の陽極層を構成する反射膜、および前記反射膜の形成に用いられるスパッタリングターゲットを、合金成分として、質量％で、Ｇａ：０．２〜１．５％、Ｎｉ：２〜６％、を含有し、残りがＡｌと不可避不純物（ただし、０．０１％以下）からなる成分組成を有するＡｌ合金で構成する。 （もっと読む）

【課題】真空蒸着法が可能な有機ラジカル化合物、それを用いた有機デバイスの提供。
【解決手段】下記一般式（１）


（式中、Ａｒ^１〜Ａｒ^３は芳香族基、縮合多環芳香族基よりなる群からそれぞれ独立して選ばれた基である。）で示されることを特徴とする有機ラジカル化合物、それを用いた有機デバイス。 （もっと読む）

【課題】インク同士の混色を防ぐことが可能な有機ＥＬ素子およびその製造方法等を提供する。
【解決手段】支持体上に、下部電極と、有機薄膜層と、上部電極とを該順に有する有機ＥＬ素子の製造方法であって、支持体上の下部電極の周囲の少なくとも一部に多孔質層を設けることを含む、有機ＥＬ素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ターゲット材、特に無機ＥＬ素子形成用ターゲット材としての硫化亜鉛成型体およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】硫化亜鉛または硫化亜鉛と銀、銅、マンガンおよび希土類元素の少なくとも１種の元素を含む硫化物とを含む複合硫化物からなり、一方の面と他方の面の硫黄／亜鉛の比が０．９以上であって、これら硫黄／亜鉛の比の差が±０．０５以下であるターゲット材。 （もっと読む）

【課題】反射率が高い反射膜を有するトップエミッション型有機ＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】トップエミッション型有機ＥＬ装置１において、反射層の表面に、Ｗを主成分とする正孔注入層を設け、エッチング液やエッチングガスが反射層に接触しないようにする。Ａｌを主成分とする反射層を用いても、反射層の表面がエッチング液やエッチングガスで荒らされることはないので、高反射率の反射層を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】軽量で、フレキシブル対応が可能で、ガスバリア性が高く、製造プロセスがシンプルなディスプレイに適した基板用部材を提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）で表される材料を含み、厚さが０．００５μｍ以上であるガスバリア層が樹脂基体上に形成されたディスプレイ用基板部材。
（ＺｎＳ）_ｘ（ＳｉＯ_２）_１−ｘ （Ｉ）
０．６≦ｘ≦０．９ （もっと読む）

【課題】マスクを用いることなく補助陰極配線を形成して表示品質の向上したＥＬ装置を得る。
【解決手段】基板１０の一方の面に形成された第１の電極２５を囲む上面７５と側面７６とを有する隔壁７７と、隔壁７７で囲まれた領域に形成されたＥＬ層を含む発光機能層２６と、隔壁７７及び発光機能層２６を覆う第２の電極２７と、隔壁７７の少なくとも上面７５に形成された第３の電極２０と、を備えるＥＬ装置の製造方法であって、第３の電極２０は導電材料粒子発生源４０から導電材料粒子４８を基板１０に向けて飛翔させて、導電材料粒子４８を隔壁７７の少なくとも上面７５に堆積させる微粒子成膜法により形成された電極であり、微粒子成膜法は、導電材料粒子発生源４０を、導電材料粒子発生源４０と手前側の隔壁７７とを結ぶ線の延長線が、奥側の隔壁７７の側面７６と交差するように配置して行なう微粒子成膜法であることを特徴とするＥＬ装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】真空雰囲気を必要とすることなく層を簡易な方法で形成することができ、且つ発光特性及び寿命特性が良好な有機ＥＬ素子及びその製造方法、照明装置、面状光源及び表示装置を提供する。
【解決手段】有機ＥＬ素子１は、基板６、陽極２、金属ドープモリブデン酸化物層７、発光層４、電子注入層５及び陰極３がこの順で積層されて構成される。電子注入層５は、アルカリ金属塩を溶解した層形成塗布液を発光層４の表面上に塗布することによって成膜され、金属ドープモリブデン酸化物層７は、酸化モリブデン及びドーパント金属を同時に堆積することにより得られる。 （もっと読む）

【課題】発光膜中のＯ含有量を十分に低減することができるＥＬ素子製造用スパッタリングターゲットの製造方法を提供する。
【解決手段】ＥＬ素子製造用スパッタリングターゲットの製造方法が、少なくとも、２価金属の硫化物と、３価金属と、発光中心元素の硫化物とを混合して混合物を得る混合工程と、該混合物を成形して成形物を得る成形工程と、該成形物を焼結してＥＬ素子製造用スパッタリングターゲットを得る焼結工程とを含むと、上記課題を解決することができる。 （もっと読む）

【課題】酸化物導電膜との低い接触抵抗を実現すると共に、優れた反射率を達成できるＡｌ合金反射膜を備えた有機ＥＬディスプレイ用の反射アノード電極を提供すること。
【解決手段】基板上に、Ｎｉ又はＣｏを０．１〜２原子％含有するＡｌ合金膜を成膜し、前記Ａｌ合金膜を、真空または不活性ガス雰囲気下、１５０℃以上の温度で熱処理し、次いで酸化物導電膜を、前記Ａｌ合金膜と直接接触するように成膜することを特徴とする有機ＥＬディスプレイ用の反射アノード電極の製造方法。 （もっと読む）