【課題】半導体層の水素終端処理をする際に、銅が用いられたドレイン電極及びソース電極が基板上に露出する場合であっても、ドレイン電極及びソース電極の剥離が生じにくい表示装置の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】複数の薄膜トランジスタが配列された基板を有する表示装置の製造方法において、薄膜トランジスタの半導体層上の一部に、単層もしくは複数の導電層を含むソース電極及びドレイン電極を形成する電極形成工程と、ソース電極及びドレイン電極が基板上に露出している状態で、半導体層に水素終端処理をする水素終端工程と、を含み、電極形成工程は、ネオンを含む不活性ガスを導入することにより基板上に銅を付着させる工程を含む、ことを特徴とする表示装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】パターンの形成方法及び有機発光素子の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のパターンの形成方法は、電流が流れる位置を選択的に制御することによって、電場が発生する位置を選択的に制御できる電磁石基板１０を提供するステップと、パターンが形成されうるパターニング基板２０を提供し、パターニング基板２０の一面に電磁石基板１０を整列させるステップと、電磁石基板１０に選択的に電流を加え、パターニング基板２０の他面に電場に反応するマスキング粉末３０を近接させるステップと、パターニング基板２０の他面にパターンの形成物質４０を供給するステップと、電磁石基板１０に流れる電流を遮断するステップと、を含む。これにより、大型基板に高精度のパターンを具現でき、パターンの形成後にマスキング粉末の除去が容易で基板の汚染を防止できる。 （もっと読む）

【課題】異物やＴＦＴ基板のバンクなどの段差があっても、第二電極層に欠陥が生じることがなく、ダークスポットが発生・拡大することがなく、長期にわたり良好な発光表示特性を維持できる有機ＥＬ素子および製造方法を提供すること。
【解決手段】少なくとも、基材上に、第一電極層、有機発光媒体層、第二電極層、パッシベーション層がこの順に積層されてなる有機エレクトロルミネッセンス素子において、前記第二電極層は、少なくともアルカリ金属又はアルカリ土類金属を含む第一金属層と、前記第一金属層上に積層される無機化合物層と、前記無機化合物層上に積層される第二金属層と、から成ることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子としたもの。 （もっと読む）

【課題】有機材料からなる第１の光路長調整層及び無機材料からなる第２の光路長調整層を有し、耐久性が向上した有機電界発光装置、及び製造プロセスを簡易化する有機電界発光装置の製造方法、並びに有機電界発光ディスプレイの提供。
【解決手段】赤色、緑色、及び青色に対応する複数の画素領域のうち、少なくとも１つの画素領域に、反射金属層と、半透明部材と、少なくとも発光層を有する有機電界発光素子と、光路長調整層とを有し、前記有機電界発光素子からの発光を共振させる共振構造を備えた有機電界発光装置であって、前記光路長調整層が、光透過性樹脂からなる第１の光路長調整層と、無機材料からなる第２の光路長調整層とからなる有機電界発光装置である。 （もっと読む）

【課題】パターン形成方法及び有機発光素子の製造方法を提供する。
【解決手段】電流が流れる位置を選択的に制御することによって、熱が発生する位置を選択的に制御できる加熱基板を提供するステップと、加熱基板の一面にパターン形成物質を形成するステップと、パターンが形成されるパターニング基板を加熱基板の一面に対向して整列させるステップと、加熱基板に選択的に電流を加えることによって、パターン形成物質の一部をパターニング基板に転写するステップと、を含むパターン形成方法及び有機発光素子の製造方法である。これにより、加熱基板に形成されたパターン形成物質を加熱する方式でパターンを転写することによって、マスクの使用なしに大型基板に精度の高いパターンを実現でき、工程後に加熱基板に残存するパターン形成物質を再使用することもできる。 （もっと読む）

【課題】 活性有機層と、電子デバイスの構成により生じる欠陥の悪影響を軽減する構造を有する電子デバイスを提供する。
【解決手段】 有機電子デバイス（１０）のための複合電極（４０）は、第１導電性材料の薄い第１層（４２）と、該第１層上に配設された第２導電性材料からなる。一実施形態において、第２導電性材料は、複数の細長い部材（４４）に形成される。別の実施形態においては、第２材料は、第２層（４６）に形成される。細長い部材又は第２層は、第１層の厚さよりも大きい厚さを有する。第２層は、少なくとも第１層の材料よりも小さい導電率を有する導電性材料によって、第１層から分離される。複合電極は、有機電子デバイスの構造における短絡のような欠陥の悪影響を軽減することができ、発光デバイス又は光起電デバイス中に含むことができる。 （もっと読む）

【課題】有機電界発光素子の製造方法において、孔や溝などの欠陥がない封止膜形成に要する時間を短くして、製造コスト上昇を抑えることが可能な封止膜形成方法を提供する。
【解決手段】反応性スパッタリング法により基板上に封止性能を有す窒化膜を形成しつつ、同時に基板に負のＲＦ電圧（バイアス）を印加することで、基材に異物が付着した場合においても、孔や溝などの欠陥を生じることなく、短時間での封止膜形成が可能になる。 （もっと読む）

【課題】従来の正方形あるいは正方形に近い長方形の電極基板では、大面積化した場合、透明導電膜の抵抗率が中心から遠ざかるに従って高くなる。そのため、電位が均一な透明導電膜を得るために、補助電極と導電路を密に形成する必要があり、これに由来する不良が発生しやすい。また、基板としてガラス板を用いた場合、面積を大きくすると、曲面に沿って電極基板を設置することが難しくなる。
【解決手段】長尺基板１４と、長尺基板１４のオモテ面１４ａに形成された透明導電膜１３と、長尺基板１４の裏面１４ｂの長辺縁部１４ｃに形成された、透明導電膜１３より抵抗率の低い補助電極１５と、長尺基板１４を貫通し、透明導電膜１３と補助電極１５とを接続する導電路１６とを備えた長尺電極基板１０。 （もっと読む）

【課題】本発明は、画素領域を保護すると共に、画素領域の外側の有機物層を効果的に除去して、上部電極及び上部電極電源ラインの接続時にこれらの間の接触抵抗を最少化し、有機発光素子の発光特性を向上させることができる有機発光表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】有機発光表示装置の製造方法は、基板上の画素領域の外側に上部電極電源ラインを形成し、画素領域に下部電極を形成し、画素領域と画素領域の外側に少なくとも一層の有機物層を形成し、画素領域に上部電極を形成し、上部電極の外側に露出された有機物層部位を選択的に除去して上部電極電源ラインを露出させ、常圧条件で上部電極及び上部電極電源ラインと重なるように上部電極及び上部電極電源ラインの間に導電物質を塗布して接続部を形成する段階を含む。 （もっと読む）

【課題】不純物を含まない良質な薄膜を成膜することができるスパッタリング装置、前記スパッタリング装置を用いた良質な薄膜の作製方法の提供する。
【解決手段】半導体材料に代表されるターゲット材と、前記ターゲット材と同じ材質の溶射物に被覆された部品を具備するスパッタリング装置を用いて、希ガスを含む雰囲気中で高周波電力を印加して、前記ターゲット材を用いて半導体層の成膜を行う発光装置の作製方法。 （もっと読む）

【課題】有機発光ディスプレイ装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板と、基板上に形成されたディスプレイ部と、ディスプレイ部と前記ディスプレイ部周辺の非発光領域とを覆い、中央部からエッジ部に行くほど密度及び厚さが増大する封止膜と、を備える有機発光ディスプレイ装置である。これにより、側面方向の水分や酸素の浸透を防止して有機発光ディスプレイ装置の寿命を延長させうる。 （もっと読む）

【課題】 保護層形成時の高エネルギーによるダメージが低減された、寿命特性がよい有機ＥＬ素子を提供する。
【解決手段】 第１の電極２と、発光層４を有する複数の層からなる有機化合物層と、５ｎｍ以上２０ｎｍ以下の金属薄膜からなる第２の電極７と、スパッタリング法あるいはプラズマＣＶＤ法で形成される保護層９を順に有し、発光層４の第１の電極７側の界面と第２の電極７の発光層４側の界面との距離が５５ｎｍ以上９０ｎｍ以下であって、第２の電極７と保護層９との間には、蒸着法で形成されるバッファ層８がある。 （もっと読む）

【課題】電極から発光層への電子および正孔の注入を容易にして発光効率を改善できる有機発光表示装置を提供する。
【解決手段】基板と、基板上に形成される第１電極と、第１電極上に形成されるバッファ層と、バッファ層上に形成される発光層と、発光層上に形成される第２電極とを含み、バッファ層は、透明導電性酸化物および前記透明導電性酸化物より仕事関数の低い金属または金属酸化物を含む、有機発光表示装置およびその製造方法に関するものである。 （もっと読む）

【課題】発光効率が高く、量産性も高い有機ＥＬ素子の封止膜の製造方法を提供する。
【解決手段】基板の上に画素電極を形成する画素電極形成工程と、前記画素電極の上に有機層を形成する有機層形成工程と、前記有機層の上に対向電極を形成する対向電極形成工程と、前記対向電極の上に封止膜を形成する封止膜形成工程と、を含み、前記封止膜形成工程は、金属酸化物または窒化物または酸窒化物を成膜する工程と金属を成膜する工程と、成膜した基板側に電界を印加することで酸素または窒素を含むガスで真空容器内でプラズマ放電する工程と、プラズマ放電により成膜した金属をエッチバックと酸化または窒化または酸窒化する工程と、を含むことで解決できる。 （もっと読む）

【課題】Ａｌ反射膜をＩＴＯやＩＺＯなどの酸化物導電膜と直接接触させても低い接触抵抗と高い反射率を確保でき、しかも、酸化物導電膜との積層構造としたとき上層酸化物導電膜表面の仕事関数が、汎用のＡｇ基合金膜と酸化物導電膜との積層構造の仕事関数と同程度に高い、新規なＡｌ基合金反射膜を備えた有機ＥＬディスプレイ用の反射アノード電極を提供する。
【解決手段】基板上に形成された有機ＥＬディスプレイ用の反射アノード電極であって、前記反射アノード電極は、Ａｇを０．１〜６原子％含有するＡｌ基合金膜と、前記Ａｌ基合金膜の上に直接接触する酸化物導電膜との積層構造である。 （もっと読む）

【課題】従来の電極基板上に、有機エレクトロルミネッセンス層、金属電極などを積層して有機エレクトロルミネッセンス素子を形成した場合、網目状電極が透明導電膜の上に載っているため、網目状電極と金属電極との間隔が狭い。網目状電極と金属電極が電気的に短絡することを防止する。
【解決手段】長尺電極基板１０は、長尺基板１１と、長尺基板１１の表面に形成された透明導電膜１２と、透明導電膜１２の縁部に形成された帯状電極１３と、透明導電膜１２と帯状電極１３との表面に形成され、透明導電膜１２と帯状電極１３との段差を解消する導電性ポリマー層１４とを備える。 （もっと読む）

【課題】陰極に接して陰極を挟む、電子注入効率の高い電子注入層と有機キャップ層を備える有機ＥＬ素子において、電子注入性の低下による高電圧化や駆動特性の劣化を抑制することにある。
【解決手段】陰極５に接して、陰極５を挟む、アルカリ金属またはアルカリ金属化合物またはアルカリ土類金属またはアルカリ土類金属化合物を含有する電子注入層４と有機キャップ層６を備える有機ＥＬ素子において、有機キャップ層６が非へテロ炭素環化合物からなる有機化合物で構成されている。 （もっと読む）

【課題】陰極に接して陰極を挟む、電子注入効率の高い電子注入層と有機キャップ層を備える有機ＥＬ素子において、電子注入性の低下による高電圧化や駆動特性の劣化を抑制することにある。
【解決手段】陰極５に接して、陰極５を挟む、アルカリ金属またはアルカリ金属化合物またはアルカリ土類金属またはアルカリ土類金属化合物を含有する電子注入層４と有機キャップ層６を備える有機ＥＬ素子において、有機キャップ層６が電子注入層４と同じ組成を有している。 （もっと読む）

【課題】光学定数が変動した場合にも、光学膜厚を高い安定性を以って制御することができる有機ＥＬ素子の製造システムおよび有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。
【解決手段】有機ＥＬ素子製造システムには、成膜装置部１３１を含むホール注入層形成装置１３が設けられている。成膜装置部１３１では、ロット生産に先行して先行サンプルが作製され、先行サンプルは、検査装置２１において、先行サンプルに形成されたホール注入層の屈折率が測定され、当該測定データが検査サーバ２２に送られる。検査サーバ２２は、取得した測定データに基づき、ホール注入層として必要な光学膜厚を得るための成膜条件について最適レシピＩＤを規定する。最適レシピＩＤは、工場ホストコンピュータ１０を介して成膜装置部１３１へと送られ、成膜装置部１３１では、これに基づくスパッタリング時間で成膜が実行される。 （もっと読む）

【課題】 ターゲットの大型化に伴い、ターゲットに大電力が投入されてもスプラッシュを抑制することができる有機ＥＬ素子の反射電極膜形成用銀合金ターゲットを提供することを課題とする。
【解決手段】 Ｉｎ：０．１〜１．５質量％を含み、残部がＡｇおよび不可避不純物からなる成分組成を有した銀合金ターゲットであって、該合金の結晶粒の平均粒径が、１５０〜４００μｍであり、前記結晶粒の粒径のばらつきが、平均粒径の２０％以下であることを特徴とする、有機ＥＬ素子の反射電極膜形成用銀合金ターゲットである。 （もっと読む）