【課題】樹脂基板あるいは樹脂層上に無機膜を形成する場合において、前記無機膜にクラックあるいはしわの発生を回避させ、これによりＴＦＴ回路層を信頼性よく形成できる画像表示装置の製造方法の提供。
【解決手段】樹脂基板あるいは樹脂層の上面にＴＦＴ回路層が形成されている画像表示装置の製造方法にあって、
前記樹脂基板あるいは前記樹脂層の前記ＴＦＴ回路層が形成される面に無機膜を形成する工程を備え、
前記無機膜は、室温から前記樹脂基板あるいは樹脂層のガラス転移点（Ｔｇ）以下の温度で形成し、
前記ＴＦＴ回路層は、前記樹脂基板のガラス転移点（Ｔｇ）以上の温度で形成する。 （もっと読む）

【課題】有機層に混入した異物を破壊せず、他の機能層のダメージを与えることなく、有機ＥＬ素子の欠陥を修復すること。
【解決手段】ＴＦＴが内蔵された基板と、前記基板上にマトリクス状に配置された複数の有機ＥＬ素子とを有し、前記有機ＥＬ素子は、前記基板上に配置された第１電極、前記第１電極上に配置された有機層、および前記有機層上に配置された第２電極を含む、有機ＥＬディスプレイの製造方法であって、前記ＴＦＴが内蔵された基板を準備する工程と、前記ＴＦＴに接続した前記第１電極を、前記基板上に形成する工程と、前記第１電極に前記有機層を形成する工程と、前記有機層の形成後、前記有機層に混入した異物を検出する工程と、前記異物を囲む溝を、前記有機層に形成する工程と、前記有機層上に前記溝によって囲まれた領域から分断された前記第２電極を形成する工程と、を有する、有機ＥＬディスプレイの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 特に水蒸気透過量を従来技術のものと比較して少なくでき、電子デバイスのバリア層として最適なガスバリア層構造体を提供する。
【解決手段】 電子デバイス構造にてガスバリア性能を発揮する本発明のガスバリア層構造体６は、不動態化金属の層６１と、この不動態化金属の酸化物層６２とを順次積層して構成される。不動態化金属は、Ａｌ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｚｒ及びＴａの中から選択されたもの、または、これらの二種以上の合金である。 （もっと読む）

【課題】電圧降下を防止して、輝度の均一性が改善された有機発光表示装置を提供する。
【解決手段】基板１０と、基板上に形成されている第１電極１２と、第１電極上に形成されている発光層１５と、発光層上に形成されている第２電極１７とを含み、第２電極は、半透過導電層及び導電性酸化物層を含む。 （もっと読む）

【課題】簡素な工程で、異物等に起因した短絡を低減することが可能な有機ＥＬ素子の製造方法、有機ＥＬ素子および表示装置を提供する。
【解決手段】基板１１に、第１電極１４、発光層を含む有機層１６、第２電極１７および抵抗層１８を順に形成する。抵抗層１８，第２電極１７および有機層１６には、異物等５３の逆テーパ状側面５３Ａの下に、途切れ部分５１が生じている。抵抗層１８の上に、窒化ケイ素などの絶縁材料よりなる埋込み層を形成し、途切れ部分５１以外の埋込み層を異方性エッチングにより除去して、途切れ部分５１に絶縁材料よりなる埋込み部５２を設ける。抵抗層１８および埋込み部５２の上に第３電極１９を設ける。途切れ部分５１で第１電極１４と第３電極１９とが接触して短絡を生じることが抑えられる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、簡便な工程で電極およびバリア層を形成することができ、さらには電極およびバリア層の密着性を高めることができる有機ＥＬ素子およびその製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、基板と、基板上に形成された第１電極層と、上記第１電極層上に形成され、少なくとも有機発光層を含むＥＬ層と、上記ＥＬ層上に形成された第２電極層と、上記第２電極層上に形成されたバリア層とを有する有機ＥＬ素子であって、上記第２電極層に含まれる金属元素と上記バリア層に含まれる金属元素とが同一であり、上記バリア層の抵抗率が上記第２電極層の抵抗率よりも大きいことを特徴とする有機ＥＬ素子を提供することにより、上記目的を達成する。 （もっと読む）

【課題】発光装置の信頼性を向上することを課題の一とする。
【解決手段】同一基板上に駆動回路用トランジスタを含む駆動回路部と、画素用トランジスタを含む画素部とを有する発光装置であり、駆動回路用トランジスタ及び画素用トランジスタは、酸化物絶縁層と一部接する酸化物半導体層を含む逆スタガ型のトランジスタである。画素部において酸化物絶縁層上にカラーフィルタ層と発光素子が設けられ、駆動回路用トランジスタにおいて、酸化物絶縁層上にゲート電極層及び酸化物半導体層と重なる導電層が設けられる。なお、ゲート電極層、ソース電極層及びドレイン電極層は金属導電膜を用いる。 （もっと読む）

【課題】 本発明では、スパッタリング法による成膜時に有機物を含む層へ生じる損傷を
抑制できる発光素子を提供することを課題とする。また、スパッタリング法による成膜時
に有機物を含む層へ生じる損傷を抑制できると共に、電極間のショート（短絡）等も抑制
できる発光素子を提供することを課題とする。
【解決手段】 本発明の発光素子は、第１の電極と第２の電極との間に有機物を含む層を
有し、前記第２の電極と前記有機物を含む層との間には、さらに金属酸化物を含む層を有
し、これらの電極および層は、第１の電極よりも第２の電極の方が後に形成されるように
積層されていることを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】上部電極をスパッタ形成する際のダメージ緩和性能、および電子注入性能の優れた電子注入層を実現できる有機ＥＬ素子を提供する。
【解決手段】支持基板上に形成された陽極と、該陽極上に少なくとも、発光層、電子輸送層、電子注入層、陰極がこの順に設けられ、陰極を構成する主材料が導電性酸化物を有する有機ＥＬ素子であって、前記電子注入層が（チオフェン／フェニレン）コオリゴマー化合物を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

放射線を収集し又は放出するデバイス（５０）のためのこの保護基材（１１）は透明ポリマー層（１）及び該ポリマー層の少なくとも１つの面（１Ａ）上のバリア層（２）を含む。バリア層（２）は交互により低い屈折率及びより高い屈折率を有しかつ交互により低い密度及びより高い密度を有する少なくとも２層の透明薄膜層（２１，２２，２３，２４）の反射防止性多層からなり、バリア層（２）の構成多層の各薄膜層（２１，２２，２３，２４）は酸化物、窒化物又は酸窒化物層である。
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【課題】基板上に形成された有機機能デバイスに侵入する水蒸気や酸素などの気体に対するバリア性を高めた構造を有するための簡便な有機機能デバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に有機発光層１７を含む下地層を準備する第１工程と、当該下地層の上面に所定の薄膜形成法を用いて第１の無機物膜２０Ａを形成する第２工程と、第１の無機物膜２０Ａの表面は、平面領域、段差凸部を有する非平面領域、及び前記非平面領域に近接する近接領域を有し、これらの領域をスパッタリングする第３工程とを含む有機機能デバイスの製造方法であって、第３工程においては、平面領域のスパッタレートＡ１、非平面領域のスパッタレートＡ２との関係がＡ１＜Ａ２であることを利用して、スパッタリングによりエッチングされた非平面領域の部材を第２の無機物膜２０Ｂとして上記近接領域に堆積させる。 （もっと読む）

空気及び／又は湿分に対して感受性である要素（１２）、特に、光電池セル又は有機発光ダイオードなどの放射線を収集し又は放出する要素を封入するためのこの層状要素（１１）はポリマー層（１）及びそのポリマー層の少なくとも１つの面（１Ａ）に対するバリア層（２）を含む。バリア層（２）は湿分蒸気輸送速度が１０^-2ｇ／ｍ²／日未満であり、かつ、交互により低密度とより高密度とを有する少なくとも２層の水素化窒化ケイ素薄膜層の多層（２１，２２，２３，２４）からなる。
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蒸着源、処理ドラム、駆動ローラー、およびシャドウマスクを備える、連続ロールツーロール蒸気ベース蒸着プロセスにおいてパターン形成コーティングをＯＬＥＤ基材に施すための装置が形成され、シャドウマスクは、基材上へのコーティングの蒸着を選択的に妨げるマスクライン特徴体を備える。コーティングを施すための方法も提示される。 （もっと読む）

【課題】輝度が高く、かつ、長時間動作中にも輝度むらが生じない、信頼性の高い有機ＥＬ表示装置を実現する。
【解決手段】ＩＴＯによって形成された下部電極１１２の上に有機ＥＬ層１１４が形成されている。有機ＥＬ層１１４の上には島状銀電極１１５１とＩｎＺｎＯ膜１１５２によって形成された上部電極１１５が配置されている。個々の島状銀電極１１５１の間はＩｎＺｎＯ膜１１５２によって導通している。銀電極を島状とすることによって、銀の堆積量から換算した換算膜厚を小さく出来るので、光の透過率を高く維持することが出来る。また、島状銀電極１１５１が存在している部分は、銀の中を電子が流れるので、上部電極１１５の電気抵抗を小さくすることが出来る。これによって、輝度の大きい、かつ、長時間動作中における輝度むらの発生の少ない有機ＥＬ表示装置を実現することが出来る。 （もっと読む）

【課題】配線間の寄生容量を十分に低減できる構成を備えた半導体装置を提供することを課題の一とする。
【解決手段】酸化物半導体層を用いるボトムゲート構造の薄膜トランジスタにおいて、ゲート電極層と重なる酸化物半導体層の一部上に接するチャネル保護層となる酸化物絶縁層を形成し、該酸化物絶縁層の形成時に酸化物半導体層の積層の周縁部（側面を含む）を覆う酸化物絶縁層を形成する。また、チャネル保護層に重ならないようにソース電極層及びドレイン電極層を形成し、ソース電極層及びドレイン電極層上の絶縁層が酸化物半導体層と接する構成とする。 （もっと読む）

【課題】発光層への電子の注入効率の低下を防止することができる有機ＥＬ素子を提供する。
【解決手段】陽極１０２及び透明陰極１０７と、陽極１０２と透明陰極１０７との間に形成された有機発光層１０５とを備える有機ＥＬ素子１００であって、透明陰極１０７と有機発光層１０５との間に形成され、アルカリ金属及びアルカリ土類金属のうち少なくとも一方の金属と有機材料とを含む電子輸送層１０６を備え、電子輸送層１０６内の金属の濃度は、有機発光層１０５側から透明陰極１０７側にかけて連続的に又は段階的に減少する。 （もっと読む）

【課題】封止膜を必要以上に厚くしなくても、上部電極のパッシベーション性能を向上させて工程の複雑化やコストの増大を解消できるとともに、設計の自由度を向上できるトップエミッション構造の有機ＥＬ装置を提供する。
【解決手段】トップエミッション構造の有機ＥＬ表示装置１において、光透過性を有する陰極５を、有機層４上に積層され仕事関数の小さな材料を含む内側電極１０と、内側電極１０上に積層され光透過率の高い材料からなる外側電極１１とで構成する。外側電極１１の膜密度を、外側電極１１を構成する材料の真密度に対し８５％〜９５％に設定する。 （もっと読む）

【課題】高い開口率を有し、安定した電気的特性を有する薄膜トランジスタを有する、信頼性のよい表示装置を作製し、提供することを課題の一とする。
【解決手段】チャネル形成領域を含む半導体層を酸化物半導体膜とする薄膜トランジスタを有する半導体装置の作製方法において、酸化物半導体膜の純度を高め、不純物である水分などを低減する加熱処理（脱水化または脱水素化のための加熱処理）を行う。また、ゲート電極層、ソース電極層、及びドレイン電極層を透光性の導電膜を用いて作製し、開口率を向上させる。 （もっと読む）

本発明は、電子構成素子（１００）に関しており、この電子構成素子は、基板（１）と、この基板（１）上に配置された第１電極（３）と、この基板側を向いた電極（３）の面の成長層（７）とを有しており、成長層（７）上に配置された電極（３）は、厚さが30nm以下の金属層（９）を有しており、また上記の成長層（７）は、10nm以下の厚さを有する。本発明はまた電子コンタクトに関する。
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【課題】ガスバリア吸湿膜の分離がしにくく、生産効率やコスト面からも有利な構造のガスバリア性シート、このガスバリア性シートの製造方法、このガスバリア性シートを用いた封止体、及びこの封止体を用いた装置を提供する。
【解決手段】基材２と、基材２の上に設けられたガスバリア吸湿膜３とを有し、ガスバリア吸湿膜３が、基材２側から順番に、ケイ素１に対するアルカリ土類金属の原子数比が０．１以下となる領域Ａ、ケイ素１に対するアルカリ土類金属の原子数比が０．１より大きく１０より小さい領域Ｂ、及びアルカリ土類金属１に対するケイ素の原子数比が０．１以下となる領域Ｃより形成されるガスバリア性シート１Ａを用いることにより上記課題を解決する。 （もっと読む）