【課題】 樹脂基板からの脱ガスによるガスバリア性の劣化を抑制し、高いガスバリア性を有する透明ガスバリアフィルムおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】 樹脂基板上にガスバリア性を有する透明ガスバリア層が形成された透明ガスバリアフィルムであって、前記透明ガスバリア層が、亜酸化物無機層と無機層とを含む積層体であり、前記樹脂基板上に、前記亜酸化物無機層と前記無機層とがこの順に積層されており、前記亜酸化物無機層が、スパッタリング法により形成される層であり、前記無
機層が、蒸着法により形成され、かつ、金属および半金属の少なくとも一方と、酸素、窒素および炭素から選ばれる少なくとも１種とを含む層であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ガスバリア性に優れた透明ガスバリア層を、高温に加熱せずとも、層形成時の窒化および酸化を制御することで効率よく製造することが可能な、透明ガスバリア層の製造方法を提供する。
【解決手段】 スパッタリング法により透明ガスバリア層を製造する透明ガスバリア層の製造方法であって、炭化金属および炭化半金属から選択される少なくとも１種の炭化物を含むターゲット１７を用い、反応性ガスとして窒素ガスおよび酸素ガスを含む混合ガスを用い、前記反応性ガスにおいて、前記窒素ガスに対する前記酸素ガスの混合比率が１〜１０体積％であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ガスバリア性に優れた透明ガスバリア層を、高温に加熱せずとも、層形成時の窒化および酸化を精密に制御することで効率よく製造することが可能な、透明ガスバリア層の製造方法を提供する。
【解決手段】 スパッタリング法により透明ガスバリア層を製造する透明ガスバリア層の製造方法であって、炭化金属および炭化半金属から選択される少なくとも１種の炭化物を含むターゲット１７を用い、反応性ガスとして窒素ガスを用い、前記反応性ガスがさらに酸素ガスおよび水素ガスを含み、前記反応性ガスにおいて、前記窒素ガスに対する前記酸素ガスの混合比率が１〜１０体積％であり、前記窒素ガスに対する前記水素ガスの混合比率が０．１〜３０体積％であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】駆動電圧が低く、発光効率が高いタンデム型の有機エレクトロルミネッセンス素子を提供すること。
【解決手段】対向する陽極１２と陰極１６との間に、少なくとも第一発光ユニット１３、第二発光ユニット１５を有するタンデム型の有機エレクトロルミネッセンス素子１であって、第一発光ユニット１３と第二発光ユニット１５との間には、中間ユニット１４が設けられ、中間ユニット１４は、陽極１２側から順に、無機化合物含有層１４１と金属層１４２とを積層して含み、無機化合物含有層１４１は、カルシウムハロゲン化物を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】下地膜を酸素や水分と反応させずに、下地膜の表面に光が透過できる金属酸化物膜を形成する光透過性金属酸化物膜の形成方法を提供する。
【解決手段】
気体分子を前記気体分子の凝縮温度以下の凝縮面に凝縮させて捕捉する第一の真空ポンプ１２₁を用いて第一の真空雰囲気を形成し、第一の真空雰囲気中に配置された成膜対象物３０の下地膜の表面に金属酸化物の粒子を付着させて第一の金属酸化物膜を形成し、気体分子を大気中に移動させる第二の真空ポンプ１２₂を用いて第二の真空雰囲気を形成し、化学構造中に酸素を有する反応性ガスの第二の真空雰囲気中の分圧を第一の真空雰囲気中の分圧より大きくし、第二の真空雰囲気中に配置された成膜対象物の第一の金属酸化物膜の表面に金属又は金属酸化物の粒子を付着させて第二の金属酸化物膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】
ＴＦＴ基板の電流取出用端子と画素電極間の導通性を向上させることによって、優れた発光特性の発揮を期待できる有機発光装置を提供する。
【解決手段】基板１０の片面に、平坦化膜１１、被覆膜２０、陽極２、ホール注入層４を形成する。平坦化膜１１は被覆膜２０で被覆する。ホール注入層４上にホール輸送層６Ａ、発光層６Ｂ、陰極８を順次積層して有機発光装置１を構成する。被覆膜２０及びホール注入層４は所定の成膜条件で成膜した膜厚２ｎｍ以上の酸化タングステン層とし、かつ、その電子状態において、価電子帯で最も低い結合エネルギーよりも１．８〜３．６ｅＶ低い結合エネルギーの範囲内に占有準位を存在させる。ソース電極１７と陽極２とを被覆膜２０を介して電気接続する。 （もっと読む）

【課題】 電子ペーパーなどの電極フィルムにおいて、ペン入力耐久試験などの破壊試験後にも水蒸気バリア性に優れる積層体および透明導電性薄膜付積層体を提供する。
【解決手段】 第１の透明プラスチックフィルムからなる基材上の片面に、無機物からなる無機薄膜層を積層したガスバリア性フィルムと無機薄膜層を有する面と、第２の透明プラスチックフィルムとを粘着層を介して積層した積層フィルムであって、第１の透明プラスチックフィルムと第２の透明プラスチックフィルムの厚みが下記の（１）式を満たし、粘着層の厚みが５〜５０μｍであり、水蒸気透過率が０．１ｇ／ｍ^２／ｄａｙ未満であることを特徴する積層体。
０．２ ＜ Ｔ２／Ｔ１ ≦ １．０ （１）
Ｔ１ ： 第１の透明プラスチックフィルムの厚み（μｍ）
Ｔ２ ： 第２の透明プラスチックフィルムの厚み（μｍ） （もっと読む）

【課題】ＩＴＯなどの透明電極をスパッタリング法によって成膜する際のダメージが抑制された素子構造を提供する。
【解決手段】蒸着法で形成されたモリブデン酸化物を含む層２０６を、スパッタリング法により形成されるＩＴＯなどの透明電極２０７に接して下側に設ける。スパッタリング法によるダメージをモリブデン酸化物によって抑制できる。 （もっと読む）

【課題】 高い輝度と発光効率を両立させる。
【解決手段】 分散型ＥＬ素子１０は、透明電極２、バインダー３Ａ中に蛍光体微粉末３Ｂを分散してなる発光層３、バインダー４Ａ中に誘電体微粉末４Ｂを分散してなる誘電体層４、および背面電極５を積層して構成される。本発明の分散型ＥＬ素子では、発光層３の膜厚は８０〜１００μｍであり、背面電極５は誘電体層４上に圧着、蒸着もしくはスパッタリングにより形成される。 （もっと読む）

【課題】互いに真空度の異なる複数の成膜室間での基板の連続搬送・連続成膜処理を可能にしながら有機ＥＬ素子などの半導体素子の生産性を大幅に向上させることを低コストで実現可能とする真空一貫成膜装置を提供する。
【解決手段】互いに真空度の異なる複数の成膜室１，２と、前記各成膜室の間を圧力差を維持しながら連通させる圧力調整室３とを備えた真空一貫成膜装置であって、前記圧力調整室には、前記圧力調整室が連通させている各成膜室の間を基板が挿通可能なスリットの部分を除いて遮蔽する遮蔽部材が備えられている。また、前記遮蔽部材を冷却する冷却部が備えられている。また、前記遮蔽部材の表面には活性炭またはゼオライトなどの吸着剤が付着されている。さらに、前記遮蔽部材は、その一部に基板が挿通可能なスリットが形成された遮蔽板である。 （もっと読む）

【課題】枚葉状基材、帯状の樹脂フィルム基材を使用して、乾式法又は湿式法で形成した電極を使用し有機エレクトロニクスパネルを作製しても、シヨートやリーク電流の発生を抑えられ機能低下の少ない有機エレクトロニクスパネルの製造方法の提供。
【解決手段】基材の上に、第１電極と、第２電極と、封止層と、前記第１電極と前記第２電極との間に有機物層を含む少なくとも１層の有機機能層とを有する有機エレクトロニクスパネルの製造方法において、前記有機機能層は第１有機機能層を有し、前記第１有機機能層を帯状の樹脂フィルムの上に形成する第１有機機能層形成工程と、前記帯状の樹脂フィルムの上に形成された前記第１有機機能層の上に、前記第１電極を形成する第１電極形成工程を有することを特徴とする有機エレクトロニクスパネルの製造方法。 （もっと読む）

【課題】プラスチックフィルムの表面粗さに左右されることなく、所望の水蒸気バリア性を確保できるバリアフィルム及びその製造方法を提供する。
【解決手段】上記バリアフィルムは、プラスチックフィルムで形成された基材１１と、基材１１の上に形成された紫外線硬化樹脂からなる下地層１２と、下地層１２の上にスパッタ法で形成されたＳｉ−Ｃｒ−Ｚｒ系酸化物からなるバリア層１３とを具備する。下地層１２は、基材１１の表面平坦度の改善を目的として形成され、バリア層１３による基材表面の被覆性を高める。これにより、バリア層１３の膜質が高まり、所望の水蒸気バリア性を確保することができる。 （もっと読む）

【課題】ポリパラキシリレンなどの蒸着重合膜の成膜においてバリなど膜に浮きが出たりしない封止構造を有する電子デバイスの製造方法及び成膜用シャドウマスクを提供する。
【解決手段】基板上の蒸着重合膜の成膜用のシャドウマスクは、開口空間側に徐々に突出する逆テーパ断面形状を有する基材と基材の少なくとも基板に接触する接触面の反対面に成膜された重合抑制膜とを有する。 （もっと読む）

【課題】基材表面の選択的領域に気相から堆積層を形成するための蒸着マスクを用いる薄膜パターン形成工程において、薄膜パターンの位置ズレやパターンエッヂのボケがなく、基材表面へのキズ等の欠陥を与えることのない蒸着マスクおよびそれを用いた薄膜パターン形成方法を提供すること。
【解決手段】非堆積領域とすべき部分を被覆して基材表面と密着させる材料が可撓性フィルム１１１からなる可撓性貼付フィルム１１０を用いた蒸着マスク１１を使用し、可撓性貼付フィルムを基材１０の成膜側全表面に密着させた後、所望の堆積層１３を形成すべき領域を覆う可撓性貼付フィルムを選択的に除去し、しかる後に堆積層を形成する成膜工程を実施し、最後に基材表面上に残された可撓性貼付フィルムを除去する。 （もっと読む）

【課題】発光効率が低下しない表示装置を提供する。
【解決手段】発光部１５が位置する凹部１３が充填膜２７で充填されてから無機膜２８が形成されるので、無機膜２８に亀裂が生じない。無機膜２８はダイヤモンドライクカーボンやＡｌＮのように、気密性と熱伝導性が高い材料で構成されているので、発光部１５に水や酸素が進入し難いだけでなく、発光部１５の熱は無機膜２８に伝達され、発光部１５が高温にならない。更に、第一パネル１０、第二のパネル２０の間の隙間は樹脂膜２９で充填されているので、外部から大気が進入しない。発光部１５は水や酸素や熱によってダメージを受けないので、表示装置１は寿命が長い。 （もっと読む）

【課題】マスクを利用したパターニング工程段階を減らし、キャパシタの不均一ドーピングによる抵抗増加を抑制可能な有機発光表示装置とその製造方法を提供すること。
【解決手段】活性層、ゲート電極及びソース／ドレイン電極を含む薄膜トランジスタと、薄膜トランジスタと電気的に連結され、ゲート電極と同一層に形成された画素電極、発光層を含む中間層、及び対向電極が順次積層された有機発光素子と、活性層と同一層に同一物質から形成されて不純物がドーピングされた下部電極と、ゲート電極と同一層に形成された上部電極と、ソース／ドレイン電極と同一層に形成され、下部電極と連結された金属拡散媒介層と、を含むキャパシタと、を含む有機発光表示装置である。これにより、マスク数の低減によるコストの節減及び製造工程の単純化を実現することができ、またキャパシタの不均一ドーピングによる抵抗増加の憂慮も解消することができる。 （もっと読む）

【課題】薄膜トランジスタ基板、反射膜、反射アノード電極、タッチパネルセンサーなどの製造工程において、塩化ナトリウム溶液の浸漬下におけるＡｌ合金表面の腐食やピンホール腐食（黒点）などの腐食を有効に防止できて耐食性に優れており、しかもヒロックの生成も防止できて耐熱性にも優れたＡｌ合金膜を提供する。
【解決手段】本発明のＡｌ合金薄膜は、基板上に配線膜または反射膜に用いられるＡｌ合金膜であって、Ｔａおよび／またはＴｉ：０．０１〜０．５原子％と、希土類元素：０．０５〜２．０原子％と、を含有するものである。 （もっと読む）

【課題】耐熱性及び光学特性のいずれにも優れる光学基材の提供。
【解決手段】エチレン及び直鎖状α−オレフィンからなる群より選ばれる１種以上と、環状オレフィンと、ビニル化合物との共重合体を含む基材の片面又は両面に、少なくとも１層のガスバリア層が積層されたことを特徴とする光学基材；エチレン及び直鎖状α−オレフィンからなる群より選ばれる１種以上と、環状オレフィンと、ビニル化合物とを共重合させ、得られた基材の片面又は両面に、少なくとも１層のガスバリア層を積層することを特徴とする光学基材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】安定した、高い発光効率の赤色発光が得られるＥｕドープＺｎＯ膜形成方法を提供する。
【解決手段】まず、第１工程で、Ｈ₂Ｏガスを導入するスパッタ法で、基板１０１の上に、ＥｕがドープされたＺｎＯからなる薄膜１０２を形成する。次に、第２工程で、薄膜を加熱する。Ｈ₂Ｏガスを用いているので、形成される膜にはＨ原子も導入されるようになる。この結果、主に６２０ｎｍ付近で発光するＥｕを添加したＺｎＯを形成できるようになり、Ｅｕを添加したＺｎＯで、高い発光効率で安定した赤色発光が得られるようになる。 （もっと読む）

【課題】液晶性を示すトリフェニレン誘導体を発光層のホスト材料として用いた有機電界発光素子において、発光効率及び耐久性が更に向上した有機電界発光素子を提供すること。
【解決手段】陽極及び陰極からなる一対の電極と、該一対の電極間に、液晶性を示すトリフェニレン誘導体を有する発光層、及び電子輸送層とを有する有機電界発光素子であって、前記発光層と前記電子輸送層との間に、蒸着が可能なトリフェニレン誘導体をバッファー層として有する、有機電界発光素子。 （もっと読む）