【課題】高輝度かつ高効率での発光が可能であり、且つ駆動電圧の増大や、好ましくない電圧上昇の発生、ショートサーキット等の欠陥の発生を抑制することができ、また生産性の良好な有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】陽極と陰極の間に中間層を介して複数の発光層が形成してなる有機エレクトロルミネッセンス素子とする。中間層は、１×１０^５Ωｃｍ以下の導電体を１０ｅＶ以下のエネルギーで気相法により形成する層を、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アルカリ金属酸化物、及びアルカリ土類金属酸化物の少なくともいずれか一つを含む層に隣接して形成する工程を備えて形成される。 （もっと読む）

【課題】本発明は上記問題に鑑みてなされたものであり、劣化要因因子の影響が防止された高発光効率、高発光輝度、長寿命、かつ欠陥が無い有機ＥＬ素子を提供することを課題とする。
【解決手段】基板と、前記基板上に設けられた第一電極と、前記第一電極上に設けられた少なくとも有機発光層と酸化モリブデン含有層を含む発光媒体層と、前記発光媒体層を挟んで前記第一電極と対向する第二電極とを有し、且つ、前記酸化モリブデン含有層が少なくとも三酸化モリブデンと他の無機化合物を含むことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子とする。 （もっと読む）

【課題】大型の有機ＥＬパネルを容易に製造することが可能な構造を有する有機ＥＬ素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】陽極１２および透明陰極２０と、当該両電極の間に形成された有機発光層１５とを備える有機ＥＬ素子１であって、陽極１２と有機発光層１５との間に形成され、酸化モリブデンと酸化タングステンとの混合物からなり、有機発光層１５へ正孔を注入する正孔注入層１３を備える。 （もっと読む）

【課題】単結晶Ｓｉ上に形成された集積回路を画素の駆動回路として用いたフラットパネルディスプレイを提供する。
【解決手段】複数個の画素駆動用回路を有するマイクロチップＩＣをあらかじめ配線を施された基板に張り付け、必要に応じて平坦化処理や追加配線接続処理をしたあとＩＣへの接続処理を施し、さらに画素を形成する。 （もっと読む）

【課題】信頼性および寿命特性の高いマルチフォトン型の有機ＥＬ素子及びその製造方法、照明装置、面状光源及び表示装置を提供する。
【解決手段】有機ＥＬ素子１０は、基板１に、陽極２、第１の発光ユニット３、電荷発生層４、第２の発光ユニット５、陰極６がこの順に積層されて構成される。第１の発光ユニット３及び第２の発光ユニット５は、それぞれ発光層を含む。電荷発生層４は、仕事関数が３．０ｅＶ以下の金属およびその化合物の１種類以上と、金属ドープモリブデン酸化物とを含む。 （もっと読む）

【課題】容易に製造することができ、且つ発光特性および寿命特性が良好な有機ＥＬ素子およびその製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】支持基板と、封止基板と、陽極と、陰極と、陽極および陰極間に配置された有機発光層と、陽極および有機発光層の間に配置された金属ドープモリブデン酸化物層とを含む積層体と、を備え、積層体は、支持基板上に搭載され、支持基板および封止基板に囲繞されて外界から遮断されており、支持基板の少なくとも一方の主面、または、封止基板の少なくとも一方の主面に、放熱層が備えられ、該放熱層の熱放射率が０．７０以上である、有機エレクトロルミネッセンス素子とする。 （もっと読む）

【課題】保護膜の成膜の際における有機ＥＬ層へのダメージを抑制すると共に、良好な製造効率の有機ＥＬ素子及びその製造方法並びに有機ＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】有機ＥＬ素子３０は、第１電極３１と、該第１電極３１上に設けられた有機ＥＬ層３２と、該有機ＥＬ層３２上に設けられた第２電極３３と、該第２電極３３を覆うように設けられた保護膜３４と、を備える。保護膜３４は、イオンビームスパッタ法により、初期には、相対的に小さいイオンビーム投入電力密度で成膜し、その後、相対的に大きいイオンビーム投入電力密度で成膜することを特徴とする。有機ＥＬ表示装置１０は、上記特徴を有する有機ＥＬ素子３０を備える。 （もっと読む）

【課題】酸素や水の浸入を防ぎ、有機ＥＬ素子の劣化を抑制することができる有機エレクトロルミネッセンス素子パッケージおよびその製造方法を提供する
【解決手段】ガラス基板２と、ガラス基板２上に形成された有機エレクトロルミネッセンス素子３と、有機エレクトロルミネッセンス素子３のガラス基板２との接触部以外を被覆する絶縁材９と、絶縁材９の上面に形成される金属シート層１０と、金属シート層１０の上面及び絶縁材９の側面を被覆するとともに、絶縁材９とガラス基板２の上面との接触部部分の外周部と密着して形成される金属封止ガラス１２と、を備える有機エレクトロルミネッセンス素子パッケージ１である。 （もっと読む）

【課題】電気特性及び信頼性の高い薄膜トランジスタを有する半導体装置、及び該半導体装置を量産高く作製する方法を提案することを課題とする。
【解決手段】半導体層としてＩｎ、Ｇａ、及びＺｎを含む酸化物半導体膜を用い、半導体層とソース電極層及びドレイン電極層との間にバッファ層が設けられた順スタガ型（トップゲート構造）の薄膜トランジスタを含むことを要旨とする。ソース電極層及びドレイン電極層と半導体層との間に、半導体層よりもキャリア濃度の高いバッファ層を意図的に設けることによってオーミック性のコンタクトを形成する。 （もっと読む）

【課題】光透過性を有する陰極材料を用いた場合においても、低い印加電圧で駆動し、しかも、発光スペクトルの角度依存性がなく、発光効率が高い有機エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法を提供する。
【解決手段】透明基板１上に、陽極層２と、少なくとも一層の発光層を有する発光ユニット３と、陰極層４とが積層されており、前記陽極層２、前記発光ユニット３および前記陰極層４がいずれも、光透過性を有し、前記陰極層４が、少なくとも電子受容性物質を含む第１の電荷発生層４ａと、陰極４ｃとを含む積層構成からなる有機エレクトロルミネッセンス素子を、前記陰極４ｃを対向ターゲット型スパッタ法により形成することにより作製する。 （もっと読む）

本発明は、有機発光素子の製造方法に関する。製造方法は、Ａ）基板（１）上に第１の電極層（２）を準備するステップと、Ｂ）第１の電極層（２）上に、金属を含有する構造化された導電層（３）を被着するステップと、Ｃ）第１の電極層（２）に接していない導電層（３）の表面（３１）上に、金属の酸化によって、導電層（３）の金属の酸化物を含有する絶縁層（４）を形成するステップと、Ｄ）第１の電極層（２）および絶縁層（４）の上に、少なくとも１つの有機機能層（５）を被着するステップと、Ｅ）少なくとも１つの有機機能層（５）上に第２の電極層（８）を被着するステップとを有する。
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【課題】光射出面と、ガラス板との間に位置する密着層を、光射出面の屈折率と、ガラス板の屈折率との間の屈折率を有する物質を用いることで、密着層の屈折率を１．７とした場合、反射損を６．７％程度から５．４％程度にできるが、この場合でも、密着層と光射出面との間での光反射損と、密着層とガラス板との間での光反射損を加えると、１．４％程度の光反射損が発生するという課題がある。
【解決手段】密着層１８（屈折率１．５）とＩＴＯ（屈折率２．１）を用いた対向電極１２との間に保護層１３を配置する。保護層１３は、対向電極１２と密接する領域では屈折率２．１の窒化珪素であり、密着層１８と密接する領域では屈折率１．５の酸化珪素であり、中間の領域では窒素組成が連続量で表される勾配を持った分布を持たせることで、保護層１３内部での反射が防止できる。また、窒化珪素はガスバリア性が強く、有機ＥＬ装置１の劣化を抑制することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】発光特性の低下を抑制しつつ、第一電極上の異物による電界集中や上下電極間の短絡が生じにくい有機ＥＬ素子及び有機ＥＬ素子の製造方法を提供すること。
【解決手段】基板１０の上に、陽極２０、
発光層５０を含む有機材料からなる有機材料層が積層された有機層、陰極８０を積層してなる有機ＥＬ素子１００において、有機層は、基板１０の表面に形成される陽極２０の表面に形成されるものであり、その陽極２０上の凹凸を平坦化するために所定の温度で加熱される平坦化処理がなされた平坦化層３０を含む。そして、陽極２０は、その平坦化層３０と接する表面の表面粗さが０．５ｎｍ以上である。 （もっと読む）

【課題】非エロージョン領域から剥離した粒子が基板に堆積することを高いレベルで抑制可能な、透明導電性膜を形成するために用いるスパッタリング装置を提供することにある。
【解決手段】基板支持体と、上記基板支持体と離間して平行に配置されたターゲット支持体と、上記ターゲット支持体の上記基板支持体とは反対側に配置された複数の磁性体とを備え、電源パワーにより駆動し、上記複数の磁性体は、上記ターゲット支持体の中心部に位置する第１の磁性体と、上記第１の磁性体に対して上記ターゲット支持体の外周側に位置する第２の磁性体とを含み、上記電源パワーが増減可能である。 （もっと読む）

【課題】本発明のスパッタリング装置によれば、プレスパッタ時に比べてメインスパッタ時のエロージョン領域を縮小することができ、プレスパッタ時に非エロージョン領域に堆積したターゲット粒子をメインスパッタ時に剥離し難くし、当該粒子の基板への堆積を抑制することができる。
【解決手段】本発明は、複数の磁性体が、ターゲット支持体の中心部に位置する第１の磁性体と、第１の磁性体に対してターゲット支持体の外周側に位置する第２の磁性体とを含み、第２の磁性体が、ターゲット支持体の基板支持体とは反対側の面内で第１の位置から第２の位置まで移動自在であり、上記第１の位置は基板への成膜を行わない場合の位置であり、上記第２の位置は前記第１の位置に対して上記ターゲット支持体の中心側であって、基板への成膜を行う場合の位置であるスパッタリング装置に関する。 （もっと読む）

【課題】高いバリア性を有するガスバリア性積層体を提供する。
【解決手段】少なくとも１層の有機層と、少なくとも１層の無機層を有し、有機層は、ＳＰ^２炭素のみからなる多環性芳香族骨格を有する（メタ）アクリレートを含む重合性組成物を硬化させてなることを特徴とする、バリア性積層体。 （もっと読む）

【課題】水蒸気透過率が十分に低く、且つ、繰り返して屈曲してもバリア性能が低下しない有機無機積層型のガスバリアフィルムをおよびそれを用いたデバイス、特に、電子デバイス、さらには、有機ＥＬ素子（有機電界発光素子）を提供する。
【解決手段】有機層（ポリパラキシリレンを主成分とするものを除く）と、保護層と、無機層を該順に有し、前記保護層が、ポリパラキシリレンを主成分とすることにより、有機無機積層型の課題を満足するガスバリアフィルムが得られた。 （もっと読む）

【課題】高いバリア性を有するバリア性積層体を提供する。
【解決手段】少なくとも１層の有機層と、少なくとも１層の無機層とを有し、前記有機層が、Ｐ＝Ｃ結合を有する化合物を含む重合性組成物を硬化させてなる、バリア性積層体。 （もっと読む）

【課題】陽極電極層からのホ−ル注入時のエネルギ−障壁を低減する新しい構成のホ−ル注入層を陽極電極層に接する層に設け、低電圧駆動化と素子の駆動安定性を付与することを実現する。
【解決手段】陽極電極層と、陽極電極層と対向して配置された陰極電極層と、陽極電極層と陰極電極層との間に位置する、陽極電極層に接するホ−ル注入層及び少なくとも一層の発光層と、を有し、陽極電極層と陰極電極層の少なくとも一方は透明であり、ホ−ル注入層は、ダメージ低減層として機能し、金属酸化物と有機化合物との混合膜を含み、混合膜は共蒸着によって形成されている。 （もっと読む）

【課題】ＩＴＯを用いることなく、発光特性や低電圧発光などの特性に優れ、かつ、高い信頼性を実現することが可能で、経済性にも優れた有機ＥＬ素子およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基板（基体）１上に配設された陽極２と、陽極２上に配設された有機発光層３と、有機発光層３を介して陽極２と対向するように有機発光層３上に配設された陰極４とを備える有機ＥＬ素子１０において、陽極２が、III族元素がドープされ、ｃ軸が互いに異なる複数の方向に向いた結晶構造を有する第１のＺｎＯ透明導電膜層２ａを備え、第１のＺｎＯ透明導電膜層が、有機発光層３との間に界面を形成するようにする。
上記III族元素のＺｎＯへのドープ量を６〜４０at％とする。
陽極２を、上述の第１のＺｎＯ透明導電膜層２ａと、ＺｎＯにIII族元素を３〜８at％ドープした第２のＺｎＯ透明導電膜層２ｂとを備えた２層構造とする。 （もっと読む）