【課題】発光効率の高い無機ＥＬ素子及びこの素子の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の無機ＥＬ素子は、基板と、前記基板上に設けられかつ第１平行面とその両側の第１平行面より低い第２平行面を有する透光性の担持体層と、第１平行面の両側の第２平行面の上にそれぞれ設けられた第１電極および第２電極と、第１電極、第２電極及び第１平行面の上に設けられた透光性の保護層と、第１電極と第２電極の間の前記担持体層の一部に形成された発光領域とを備え、前記発光領域は、第１平行面と平行な領域でありかつ発光体を含む領域であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】成膜用のマスクによる損傷を防止できるとともに、画質の低下を防止することができる有機ＥＬ表示装置およびその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】有機ＥＬ表示装置１は、絶縁性基板３と、絶縁性基板３上に形成された複数の有機ＥＬ素子４と、絶縁性基板３上に形成されるとともに、複数の有機ＥＬ素子４を区画する絶縁膜５を備えている。有機ＥＬ素子４は、第１電極６と、第１電極６上に形成されるとともに、発光層を有する有機層７と、有機層７上に形成された第２電極８を有している。そして、絶縁膜５上には、絶縁膜５の表面５ａから有機ＥＬ表示装置１の厚み方向Ｙに突出する複数のリブ１４が設けられるとともに、複数の有機ＥＬ素子４の各々は、リブ１４の間に形成されている。 （もっと読む）

【課題】大掛かりな設備を用いることなく、簡易な工程で補助配線と第２電極との良好な電気的接続を確保することが可能な有機ＥＬディスプレイおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】有機ＥＬディスプレイ１は次のように製造する。平坦化層１２上に、補助配線１３と逆バイアス用配線１７Ｂとを電気的に絶縁されるように形成する。表示領域に画素間絶縁膜１５、有機層１６を順次形成したのち、平坦化層１２上の全面にわたって逆バイアス用電極１７を配設する。補助配線１４および逆バイアス用配線１７Ｂを通じて有機層１６に逆バイアス電圧を印加し、有機層１６のうち補助配線１４上の領域のみを選択的に除去して、コンタクトホール１６Ａを形成する。コンタクトホール１６Ａを埋め込むように第２電極１８を形成することで、レーザ光照射装置を用いずに、また精密な位置合わせを行うことなく、補助配線１４と第２電極１８との電気的接続が確保される。 （もっと読む）

【課題】共振器構造を有し、共振波長が異なる複数のＥＬ素子を備えたＥＬ装置について、その製造工程を簡略化し、生産性の向上を図るようにした製造方法を提供する。
【解決手段】光反射層１２０と、半透過反射層と、これらの間に配置された発光層と、光反射層と半透過反射層との間に配置された画素電極とを含むＥＬ素子を複数有し、ＥＬ素子の発光領域には共振器構造が形成され、ＥＬ素子は、第１ＥＬ素子と、第１ＥＬ素子に比べて共振器構造における共振波長が短い第２ＥＬ素子と、を備えたＥＬ装置の製造方法である。第１ＥＬ素子の形成領域ではその膜厚が厚く、第２ＥＬ素子の形成領域ではその膜厚が薄くなり、画素電極間の分離領域では除去されて透明導電層を露出させるように、パターニングして感光性樹脂マスク２２２を形成する工程と、この感光性樹脂マスクを用いて透明導電層をエッチングする工程を有する。 （もっと読む）

【課題】工程を簡略化して生産性の向上を図り、しかも剥離液に起因する機能層の劣化を防止した、エレクトロルミネッセンス装置（ＥＬ装置）の製造方法を提供する。
【解決手段】隔壁に囲まれて形成される単一画素毎に設けられた第１電極と、第２電極と、発光層とを備えたＥＬ装置の製造方法である。第１電極膜を形成する工程と、第１電極膜上に感光性樹脂層を形成する工程と、感光性樹脂層を、単一画素の形成領域ではその膜厚が隔壁の形成領域より薄くなり、第１電極間の分離領域では除去されて第１電極膜を露出させるように、パターニングして感光性樹脂マスク２２２を形成する工程と、感光性樹脂マスク２２２を用いてエッチングし、第１電極膜を複数の第１電極１１１に分離する工程と、感光性樹脂マスク２２２をアッシングして、単一画素の形成領域の第１電極を露出させ、隔壁の形成領域における感光性樹脂マスクを隔壁とする工程と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、有機層上にバンクを形成した場合でも、駆動電圧が低く、寿命の長い有機電界発光素子の製造方法を提供することを課題とする。
本発明はまた、駆動電圧が低く、寿命の長い有機電界発光素子を提供することを課題とする。
【解決手段】 第一の電極、および該第一の電極と対向するように形成された第二の電極を有し、該第一の電極および第二の電極の間に、第一の有機層、該第一の有機層上にパターン状に形成されたバンクと、該バンクにより区画された領域内に形成された第二の有機層とを有する有機電界発光素子の製造方法において、該バンクを形成する工程中に現像工程と加熱工程を有し、該現像工程と加熱工程の間に、極性有機溶媒で洗浄する工程含むこと、および／または、該バンクを形成する工程中に現像工程を有し、該現像工程で、アルカリ性化合物、極性有機溶媒および水を含む現像液で現像すること、を特徴とする有機電界発光素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】簡便な手法により、高発光効率および優れた動画特性の表示装置を得ることができる表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】この表示装置の製造方法は、励起光照射によりラジカルを発生する自己整合層を形成する自己整合層形成工程と、自己整合層の所定領域に対して励起光を照射する照射工程と、照射工程後、自己整合層上に、ラジカル重合反応性を有し、少なくとも発光層１５を含む１層以上の有機層を順次形成する有機層形成工程と、有機層のうち、非反応領域を除去する除去工程とを有する。 （もっと読む）

本発明は、陽極(120)と陰極(140)との間に設けられる有機層(130)、及び前記陽極又は陰極上に設けられるミラー層(150)を有するOLEDデバイス(100)に関する。前記有機層(130)は、エレクトロルミネッセント領域(131)と不活性領域(132)とを有するような構造である。その一方で、前記ミラー層(150)は、非透明領域(151)と透明領域(152)とを有するような構造である。これらの構造を少なくとも部分的に位置合わせすることによって、当該OLEDデバイスは、環境光に対して透明となるのと同時に、主な（すなわちただ一つの）方向に放出することが可能となる。
（もっと読む）

【課題】有機ＥＬ材料をはじめとした薄膜の特性を劣化させることなく、大型化かつ高精度の微細パターニングを可能とするパターニング方法、および、かかるパターニング方法を使用するデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に光熱変換層と区画パターンが形成され、前記区画パターン内に転写材料が存在するドナー基板をデバイス基板と対向配置し、ｍ個（ｍは２以上の整数）の転写材料の各々の幅とそれらの転写材料の間に存在する区画パターンの幅との合計よりも広い幅の光を光熱変換層に複数回に分けて照射することで、前記ｍ個の転写材料をデバイス基板に一括して転写し、かつ、前記ｍ個の転写材料のうち少なくとも１つの転写材料を膜厚方向にｎ回（ｎは２以上の整数）に分割して転写することを特徴とするパターニング方法 （もっと読む）

【課題】幅が細く、かつ厚さが均一な断面形状を有するパターン形成方法、デバイスおよび電子機器を提供する。
【解決手段】本発明のパターン形成方法は、基板を所定の温度に加熱する第１の工程と、基板を所定の温度に保持しつつ、パターン形成材料を分散または溶解させた液体材料を基板上に滴下し、乾燥させる第２の工程と、液体材料を所定の温度の基板に滴下させたときの蒸発速度よりも蒸発速度を遅くさせる第３の工程と、液体材料が乾燥してなる乾燥体上に、液体材料を滴下する第４の工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】有機化合物層を除去する際に、破片等の異物の発生を抑制すると共に、歩留の高く発光効率が良好な有機ＥＬ表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板１と、基板１上に設けられる画素１１と、から構成され、画素１１が複数の副画素（１２，１３，１４）からなり、該副画素が、少なくとも下部電極２と、第一中間電極層４と、上部電極８と、下部電極２と第一中間電極層４との間に設けられる第一有機化合物層３及び第一中間電極層４と上部電極８との間に設けられる第二有機化合物層５のいずれかと、を備える有機ＥＬ表示装置の製造方法において、以下に示す工程（Ａ）〜（Ｅ）が含まれることを特徴とする、有機ＥＬ表示装置の製造方法。
（Ａ）下部電極の形成工程
（Ｂ）第一有機化合物層の形成工程
（Ｃ）レーザー光を使用して第一有機化合物層を副画素単位で部分的に除去する工程
（Ｄ）第一中間電極層の形成工程
（Ｅ）第二有機化合物層の形成工程 （もっと読む）

【課題】単結晶Ｓｉ上に形成された集積回路を画素の駆動回路として用いたフラットパネルディスプレイを提供する。
【解決手段】複数個の画素駆動用回路を有するマイクロチップＩＣをあらかじめ配線を施された基板に張り付け、必要に応じて平坦化処理や追加配線接続処理をしたあとＩＣへの接続処理を施し、さらに画素を形成する。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ表示装置の製造で発光層をパターン成膜するための金属製ファインマスクを使用することなしに多色画像を表示可能とする。
【解決手段】本発明の有機ＥＬ表示装置は、第１乃至第３有機ＥＬ素子の各々が画素電極ＰＥと対向電極ＣＥとの間にホール輸送層ＨＴＬと発光色の互いに異なる第１乃至第３発光層ＥＭＬとを積層した積層体を含む有機物層ＯＲＧを有している。第１発光層ＥＭＬ１は、赤色波長に発光中心を有する第１ドーパント材料ＥＭ１を含む。第２発光層ＥＭＬ２は、緑色波長に発光中心を有する第２ドーパント材料ＥＭ２を含む。ホール輸送層ＨＴＬは、第１ドーパント材料及び第２ドーパント材料の吸光度スペクトル特性における吸光度ピークよりも短波長側に吸光度ボトムを有する材料によって形成されている。 （もっと読む）

【課題】電極形状の加工に要する工程を削減して、電極形状の加工不良や表示装置の発光不良を防ぐことを可能にする電界発光表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板１１と、基板１１上に複数配置され、下部電極１２と、少なくとも発光層を含む有機化合物層１３と、上部電極１４と、がこの順に積層され、下部電極１２及び上部電極１４のいずれかが無機酸化物からなる電極である電界発光素子１０と、から構成される電界発光表示装置１の製造方法であって、以下の工程（ａ）及び（ｂ）を含むことを特徴とする、電界発光表示装置の製造方法。
（ａ）該無機酸化物からなる電極を複数の電界発光素子間で連続した層として形成する工程
（ｂ）酸化性ガス雰囲気中で該無機酸化物からなる電極に対して光照射を行い、光照射を行った領域の全域又は一部の電気抵抗を光照射前に比して高くしたパターニングする工程 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ材料をはじめとした薄膜の特性を劣化させることなく、大型化かつ高精度の微細パターニングを可能とするパターニング方法、および、かかるパターニング方法を使用するデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に光熱変換層と区画パターンが形成され、前記区画パターン内に転写材料が横方向にｋ個、縦方向にｌ個（ｋ、ｌはそれぞれ１以上の整数）配列されたドナー基板をデバイス基板と対向配置し、横方向にｍ個、縦方向にｎ個（ｋ≧ｍ≧１、ｌ≧ｎ≧１）の転写材料からなる領域よりも広い面積の光を光熱変換層に照射することで、前記転写材料をデバイス基板に一括して転写することを特徴とするパターニング方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、トップエミッション方式で発光される有機発光ダイオード表示装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る有機発光ダイオード表示装置は、基板上に形成され、スイッチＴＦＴと駆動ＴＦＴとからなるＴＦＴと、ＴＦＴ上に形成されるオーバーコート層と、オーバーコート層を貫いて駆動ＴＦＴのドレーン電極の一部を露出させるドレーン接触ホールと、露出した駆動ＴＦＴのドレーン電極に接触する第１電極と、第１電極が形成された基板上でパターニングされて単位画素の開口領域を区切るバンクパターンと、バンクパターンが形成された基板上に形成される有機化合物層と、有機化合物層上に形成される第２電極とを備え、バンクパターンは、前記ドレーン接触ホールが形成された領域近傍を遮蔽する。 （もっと読む）

本発明は、有機発光素子の製造方法に関する。製造方法は、Ａ）基板（１）上に第１の電極層（２）を準備するステップと、Ｂ）第１の電極層（２）上に、金属を含有する構造化された導電層（３）を被着するステップと、Ｃ）第１の電極層（２）に接していない導電層（３）の表面（３１）上に、金属の酸化によって、導電層（３）の金属の酸化物を含有する絶縁層（４）を形成するステップと、Ｄ）第１の電極層（２）および絶縁層（４）の上に、少なくとも１つの有機機能層（５）を被着するステップと、Ｅ）少なくとも１つの有機機能層（５）上に第２の電極層（８）を被着するステップとを有する。
（もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィー法による利点を有しつつ、エッチングによる絶縁層の欠損を防止し、素子の短絡の欠陥が防止された長寿命で安定な発光が得られる素子、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に少なくとも第１電極とエレクトロルミネッセント層と第２電極を有し、該エレクトロルミネッセント層の少なくとも1層をフォトリソグラフィー法によりパターニングしてなるエレクトロルミネッセント素子であって、特定の珪素化合物の１種または２種以上の加水分解縮合物もしくは共加水分解縮合物であるオルガノポリシロキサンを含む絶縁層を有することを特徴とする、エレクトロルミネッセント素子、及びその製造方法である。 （もっと読む）

【課題】従来の基板の処理方法では、積み重ねられた複数の層における電気的な特性を向上させることが困難である。
【解決手段】撥液性を有する絶縁膜６１と、絶縁膜６１に積層された正孔注入層６５と、を有する基板４１ｂの処理方法であって、絶縁膜６１から前記撥液性を有する成分の少なくとも一部を正孔注入層６５に拡散させる拡散工程を有することを特徴とする基板の処理方法。 （もっと読む）

【課題】パターン形成対象層へのパターン形成において、形成された凹部または孔部内にパターン形成工程における残渣が残ることが抑制されるパターニング方法を提供する。
【解決手段】有機半導体トランジスタ素子４０においては、製造工程において、図８に示すように、ソース電極４４及びドレイン電極４５の形成された基板４２上に、隔壁４９を構成する上記絶縁性材料を一様に塗布して絶縁層４７を形成し、この絶縁層４７に、形成対象のパターンに応じた凸部６０Ａを有すると共に該凸部６０Ａに絶縁層を溶解する溶解液６２の塗布された鋳型６０を接触させることで、絶縁層４７を溶解して該凸部６０Ａに応じた孔部４９Ａを形成した後に該鋳型６０を基板４２から剥離することで孔部４９Ａをパターニングする。 （もっと読む）