【課題】簡素な工程で大面積基板に発光層をパターニングすることができると共に、発光層の発光特性を向上させることができる表示装置の製造方法および表示装置を提供する。
【解決手段】正孔輸送層１３の上に、ラジカル反応性を有する赤色発光材料を含む赤色発光材料層１４Ｒと、ラジカル開始剤を含むラジカル開始剤層３１とを順に形成する。ラジカル開始剤層３１のうち赤色発光層１５Ｒの形成予定領域に含まれるラジカル開始剤を励起させ、ラジカル連鎖反応により赤色発光材料層１４Ｒのうち赤色発光層１５Ｒの形成予定領域を高分子化させる。そののち、例えば薬剤による現像処理、または加熱を行うことにより、ラジカル開始剤層３１と、赤色発光材料層１４Ｒのうち高分子化していない領域とを除去する。これにより、所望の部位のみに赤色発光層１５Ｒが形成される。 （もっと読む）

【課題】リーク電流を抑制でき、かつ発光特性に優れた発光素子を有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に、下電極、有機層、発光層及び上電極が上記基板側からこの順に積層された発光素子を有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置であって、上記有機層は、光照射によって導電性が変化する導電性感光樹脂材料を用いて形成された導電性感光樹脂層を含み、上記有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、上記有機層上にバンクを備える有機エレクトロルミネッセンス表示装置である。 （もっと読む）

【課題】表示組成物を含む複数の表示素子を備えた表示装置の製造方法において、良好に像を表示させることができる表示装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】先ず基板１０上に陽極１１ａを形成する（ａ）（ｂ）。次いでＰＶＫから成る絶縁層１１ｂを形成する（ｃ）。次いで絶縁層１１ｂ上の陽極１１ａと対向する位置に、絶縁層１１ｂを溶解する溶媒及び表示用組成物を含有するインク溶液２１を塗布する（ｄ）。次いで、インク２１中の溶媒を蒸発させ、インク２１の不揮発成分である表示用組成物を、陽極１１ａと電気的接合を持った状態で固化させる（ｅ）。次いで電子注入層１１ｅを形成する（ｆ）。この際、塗布後の電子注入層１１ｅにおいて、発光層１１ｃ及び隔壁１１ｄに接する側と反対側の面が、発光層１１ｃ及び隔壁１１ｄからなる面より平らになるようにする。その後、陰極１１ｆを形成する（ｇ）。 （もっと読む）

電気輸送部品（１０；１１０；３１０；６０）は、第１の無機層（１６；１１６；６６）と、有機分断層（１２；１１２；６２）と、第２の無機層（１８；１１８；６８）とを有するバリア構造が設けられた基板（２０；１２０）を備え、有機分断層は第１および第２の無機層の間に挟まれ、有機分断層によって画成された平面には有機分断層内の少なくとも１つのトレンチ（１３；１１３）に収容された少なくとも１つの導電構造（１４；１１４；３１４；４１４；４１４−１，４１４−２；５１４；６１４−１，６１４−２；６４）が分散される。電気輸送部品の製造方法は、ａ）第１の無機層を設けるステップと、ｂ）第１の有機分断層を設けるステップと、ｃ）この有機分断層に少なくとも１つのトレンチを形成するステップと、ｄ）この少なくとも１つのトレンチに導電材料を堆積させるステップと、ｅ）第２の無機層を設けるステップと、を含む。この部品は、例えば光電気装置および電気光学装置に用いることもできる。 （もっと読む）

【課題】従来よりも少ないマスク数で作製する薄膜トランジスタ及び表示装置の作製方法を提供する。
【解決手段】第１の導電膜と、絶縁膜と、半導体膜と、不純物半導体膜と、第２の導電膜とを積層し、この上に３段階の厚さを有するレジストマスクを形成し、第１のエッチングを行って薄膜積層体を形成し、該薄膜積層体に対してサイドエッチングを伴う第２のエッチングを行ってゲート電極層を形成し、その後レジストマスクを後退させて半導体層、ソース電極及びドレイン電極層を形成することで、薄膜トランジスタを作製する。３段階の厚さを有するレジストマスクは、例えば、４階調のフォトマスクにより形成する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、透明性が高く、線膨張率が小さく、温度変化における弾性率の変化が小さく、耐熱性の高い被印刷基板を用いた、有機ＥＬ発光層を有する有機ＥＬ表示装置を提供することを目的とする。また、本発明は、このような有機ＥＬ表示装置の製造方法を提供することも目的とする。
【解決手段】被印刷基板上に有機発光層を有する有機ＥＬ表示装置において、被印刷基板がシリコーン系硬化体（ａ）とガラスクロス（ｂ）とが複合した構造を有するシリコーン系ガラスクロス複合体シートよりなり、前記被印刷基板上に溶液化された有機ＥＬ材料を吐出配置することにより有機発光層を形成することを特徴とする有機ＥＬ表示装置。 （もっと読む）

【課題】表面が撥インク性に優れた隔壁付き基板を簡便な手法で形成することを目的とする。
【解決手段】 支持フィルム上に、含フッ素化合物層、光重合性樹脂層、がこの順で積層された光重合性樹脂積層体であって、
該含フッ素化合物層は、含フッ素化合物を３０〜１００質量％含有する組成物からなり、該含フッ素化合物層の積層量は支持フィルム１ｍ^２あたり１〜４０ｍｍ^３であり、該光重合性樹脂層は、アルカリ可溶性高分子、エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物、光重合性開始剤、及び熱ラジカル発生剤を含有する光重合性樹脂組成物からなることを特徴とする光重合性樹脂積層体。 （もっと読む）

【課題】表面が撥液性に優れたパターン付き基板を簡便な手法で形成することを目的とする。
【解決手段】支持フィルム上に含フッ素化合物層が積層された含フッ素化合物層積層フィルムであって、該含フッ素化合物層は含フッ素化合物を３０〜１００質量％含有する組成物からなり、含フッ素化合物層の積層量が支持フィルム１ｍ^２あたり１〜４０ｍｍ^３であることを特徴とする含フッ素化合物層積層フィルム。 （もっと読む）

【課題】 隔壁の側面上に反射層を設けることで光取り出し効率を向上させた発光素子では、通電不良が起こるという問題があった。これは、隔壁の側面上に設けられた発光機能層が薄いため、画素電極と対向電極が短絡したり、隔壁の側面上の発光機能層で通電してしまうからである。
【解決手段】 画素電極と反射層の間、反射層と隔壁の側面上の発光機能層の間、隔壁の側面上の発光機能層と対向電極の間、のうち少なくとも一箇所に絶縁層を設ける。 （もっと読む）

【課題】加工した電極層の端部におけるバリの発生を低減すると共に、電極層間のショート又は断線の問題をなくし、かつ有機ＥＬ表示装置の製造歩留りを向上させることができる有機ＥＬ表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも２層以上の電極層と、該電極層間に形成され少なくとも発光層を含む有機化合物層と、からなる複数の副画素と、該副画素を区画するように該副画素間に形成される画素分離膜と、を備え、該副画素を配列することにより形成される表示領域を有する有機ＥＬ表示装置の製造方法において、該画素分離膜上であって該有機化合物層が形成されていない領域において光照射を行うことにより、該電極層のうち少なくとも一層を分割することを特徴とする、有機ＥＬ表示装置の製造方法。 （もっと読む）

基板と、第１の極性の電荷を注入するために基板の上に配置された第１の電極と、前記第１の極性とは反対の第２の極性の電荷を注入するために第１の電極の上に配置された第２の電極と、第１の電極と第２の電極の間に配置された有機発光層であって、その発光層から発せられた光を第２の電極が透過させる有機発光層と、第２の電極の上に第２の電極と離間して配置されて第２の電極との間にキャビティを画定するガラスまたは透明プラスチック封止剤と、キャビティ内に配置されたキャビティ充填材であって、キャビティの底面側からキャビティの頂面側に延在し、内部に光学的構造が配置されているキャビティ充填材と、を備えた有機エレクトロルミネッセントデバイス。 （もっと読む）

【課題】本発明は、親液性領域および撥液性領域を形成するための層が正孔輸送性等を有する場合にその正孔輸送性等を損なうことなく、発光層等をパターニングすることが可能な有機ＥＬ素子用基板およびその製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、基板と、上記基板上に形成された第１電極層と、上記第１電極層上に形成され、撥液性を有する第１正孔注入輸送層と、上記第１正孔注入輸送層上に形成され、親液性を有する第２正孔注入輸送層と、上記第２正孔注入輸送層側の表面に配置され、上記第２正孔注入輸送層の構成材料が分解された撥液性領域、および、上記撥液性領域以外の領域である親液性領域からなるパターンとを有することを特徴とする有機ＥＬ素子用基板を提供することにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】真空紫外光を用いて高精細かつ複雑なパターン状に、正確に真空紫外光照射処理が施されたパターン形成体を、高感度で製造できる真空紫外光用メタルマスクを提供する。
【解決手段】パターン形成用基板を用い、上記パターン形成用基板のパターン形成面上にメタルマスクを配置し、反応性ガスの存在下において上記メタルマスクを介して上記パターン形成面に真空紫外光を照射することにより、上記パターン形成面がパターン状に真空紫外光照射処理されたパターン形成体を製造する方法に用いられる真空紫外光用メタルマスク１０であって、金属薄板からなり、開口部２を有するメタルマスク本体１と、上記開口部を架橋するように形成されたブリッジ部分３とを有し、かつ、上記パターン形成用基板１０１上に配置された際に、上記パターン形成面とブリッジ部分との間に上記反応性ガスが通流可能な空隙が形成されるように、上記ブリッジ部分が形成されている。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ表示装置の製造で発光層をパターン成膜するための金属製ファインマスクを使用することなしに多色画像を表示可能とする。
【解決手段】本発明の有機ＥＬ表示装置は、第１乃至第３有機ＥＬ素子の各々が第１電極ＰＥと第２電極ＣＥとの間に発光色の互いに異なる第１乃至第３発光層ＥＭＬを積層した積層体を含む有機物層ＯＲＧを有している。第１発光層ＥＭＬ１は、赤色波長に発光中心を有する第１ドーパント材料ＥＭ１と、第１ドーパント材料の吸光度スペクトル特性における吸光度ピークよりも短波長側に吸光度ボトムを有する第１ホスト材料ＨＭ１と、を含む。第２発光層ＥＭＬ２は、緑色波長に発光中心を有する第２ドーパント材料ＥＭ２と、第１ドーパント材料及び第２ドーパント材料の吸光度スペクトル特性における吸光度ピークよりも短波長側に吸光度ボトムを有する第２ホスト材料ＨＭ２と、を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】正孔輸送層を表示領域の陽極上にストライプ状に形成する場合でも、ストライプ方向への画素間のリーク電流の発生を防止して有機ＥＬの特性を効率よく発揮できる有機ＥＬ表示装置を提供すること。
【解決手段】陽極２及び隔壁１１が形成された透光性基板１の表示領域の陽極上に正孔輸送層３をストライプ状に成膜する。画素となる部位Ｐ同士を隔絶するサブピクセル間Ｓに形成された隔壁１１上の正孔輸送層３を除去して、正孔輸送層３を形成するストライプ状の膜を分割する。次に、発光体層４及び陰極６を画素部位Ｐの正孔輸送層３上に形成する。このように、正孔輸送層３を表示領域の陽極上にストライプ状に形成した後、隔壁１１を覆う正孔輸送層３のみを除去することで、画素部位辺縁の印刷抜けおよびリーク電流発生が防止された有機ＥＬ素子を形成する。 （もっと読む）

【課題】キャリア輸送層の膜厚むらを低減する。
【解決手段】ＥＬパネル１００は、画素回路のソース電極６ｉを露出可能とするように離間して設けられた平坦化膜１２ｂを備えており、その離間した平坦化膜１２ｂ間に相当する第二開口部１２ｄ部分に設けられたバンク１３は上面が平坦な安定した形状を有しているので、そのバンク１３は、バンク１３間に塗布される有機発光材料が含有される液状体を好適に塞き止めることができ、バンク１３間に形成されるキャリア輸送層（正孔注入層８ｂ、発光層８ｃ）は安定した膜厚を有することとなって、そのキャリア輸送層の膜厚むらを低減することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】銀及び／又は銀合金を含む基板に適用できるフォトレジスト剥離液組成物を提供する。
【解決手段】銀および／または銀合金を含む基板のフォトレジスト剥離液組成物であって、−式（Ｉ）ＮＨ_２−Ａ−Ｙ−Ｂ−Ｚ式中、Ａ、Ｂは、それぞれ相互に独立して、直鎖状または分枝鎖状の炭素数１〜５のアルキレン基であり、Ｙは、ＮＨまたはＯのいずれかであり、Ｚは、ＮＨ_２、ＯＨ、ＮＨ−Ｄ−ＮＨ_２（ここでＤは直鎖状または分枝鎖状の、炭素数１〜５のアルキレン基である、）で表される化合物、−式（ＩＩ）ＮＨ_２−Ａ−Ｎ(−Ｂ−ＯＨ)_２式中、Ａ，Ｂは式（Ｉ）と同じで表される化合物、−モルホリン、−Ｎ−置換モルホリン、−ピロカテコール、−ハイドロキノン、−ピロガロール、−没食子酸、及び−没食子酸エステルからなる群から選択される１種または２種以上と、１種または２種以上の極性有機溶剤とを含有する、前記フォトレジスト剥離液組成物。 （もっと読む）

【課題】製造コストの増大を招くことなく、高精細な色変換層を有する色変換フィルタを形成するための簡便な方法の提供。
【解決手段】（ａ）複数種のカラーフィルタ層を形成する工程であって、カラーフィルタ層の少なくとも１種を、（ｉ）透明基板上に、着色剤、光硬化性樹脂組成物、高揮発性溶媒および低揮発性溶媒を含む混合物を塗布して塗膜を形成する工程と、（ii）塗膜を加熱して、高揮発性溶媒および低揮発性溶媒を蒸発させ、塗膜の表面に凹凸を形成する工程と、（iii）凹凸を形成した塗膜をパターン状に露光し、現像する工程とを含む方法で形成する工程、および（ｂ）工程（ｉ）〜（iii）を用いて形成したカラーフィルタ層の上に、インクジェット法を用いて色変換層を形成する工程とを含む色変換フィルタの製造方法。 （もっと読む）

【課題】可撓性及びバリア性を有する基板を用い、基板やバリア層の劣化を防ぐとともに、光学特性への影響を抑制することができる回路基板の製造方法及び回路基板並びに有機ＥＬ発光装置を提供する。
【解決手段】一方の面に導電性膜１６が形成され、他方の面に特定波長の光照射によって溶剤に可溶化する保護膜１８が形成された可撓性バリア基板１０を用意する工程と、導電性膜をフォトリソグラフィと湿式エッチングによりパターニングして基板上に回路１６ａ〜１６ｂを形成する工程と、導電性膜を湿式エッチングした後、保護膜に特定波長の光を照射するとともに、該保護膜を溶剤で除去する。好ましくは、プラスチック基板１２の少なくとも一方の面にバリア層１４ａ，１４ｂが形成された可撓性バリア基板を用い、保護膜は、導電性膜をパターニングする際に用いる感光性樹脂の感光波長とは異なる波長の光照射によって溶剤に可溶化する。 （もっと読む）

【課題】比較的簡易な光学系を用いて、効率的に且つ高精度な有機薄膜を形成することができ、而も転写用基板の再利用が可能であるため、製造コストを低減することのできる有機薄膜製造装置及び有機薄膜製造方法を提供する。
【解決手段】有機薄膜製造装置１００のレーザー蒸着装置１０は、特定の波長領域のレーザー光を発振するためのレーザー光源１１と、レーザー蒸着転写用基板１と、成膜室１５と、真空装置１９とを備え、レーザー蒸着転写用基板１は、支持基板２と、所定のパターンに形成された、第１の波長領域のレーザー光を高効率で吸収する第１の光熱変換層３と、上記第１の光熱変換層３の上面を覆うように形成された、第１の波長領域のレーザー光を反射し且つ第２の波長領域のレーザー光を吸収する第２の光熱変換層４と、転写層５とを備えている。 （もっと読む）