【課題】ガラス基板など耐熱温度が低い基板を用いた場合にも、実用に耐えうる結晶半導体層を備えたＳＯＩ基板を提供することを目的とする。
【解決手段】単結晶又は多結晶半導体基板の表面からある深さの領域に分離層を形成し、該分離層上の半導体層を支持基板と接合させて剥離する際に第１の熱処理を行う。その後、半導体層が接合された支持基板に対して第２の熱処理を行う。第１の熱処理と第２の熱処理は異なる温度で行うことが好ましい。この場合、第１の熱処理の温度に対し第２の熱処理は、その温度よりも高い温度であって半導体層を接合する基板の歪み点温度を超えない温度で行うことが好ましい。或いは、同じ温度であっても第２の熱処理の処理時間を長くしても良い。 （もっと読む）

【課題】光透過性が高く、且つ、表面抵抗率が低い可撓性に優れた透明導電性フイルムを提供する。
【解決手段】透明性の支持体１２と、該支持体１２上に設けられ、且つ、導電性金属からなる細線構造部１４及び透光性の導電膜１６とを有する。細線構造部１４は、その断面形状が略台形状となるように形成されている。細線構造部１４の側面と上面とのなす角θの好適な範囲は、θ＞１００度が好ましく、θ＞１２０度がさらに好ましい。 （もっと読む）

第１、第２、および第３のサブピクセル領域を有する発光ダイオードデバイスの新規な形成方法を提供する。本発明の方法においては、正孔注入層がアノード層上に適用される。この正孔注入材料は伝導性ポリマーとフッ素化酸ポリマーとを有する。正孔輸送層が正孔注入層上に適用される。緑色または赤色のいずれかである第１のエレクトロルミネッセンス材料が第１のサブピクセル領域に適用される。赤色または緑色のいずれかである第２のエレクトロルミネッセンス材料が第２のサブピクセル領域に適用される。正孔阻止層が全面的に適用される。青色エレクトロルミネッセンス材料が全面的に適用され、続いてカソードが堆積される。第２のエレクトロルミネッセンス材料は、第１のエレクトロルミネッセンス材料とは異なる色を発する。
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【課題】有機エレクトロルミネッセンス素子の長寿命化を図ることが可能で、かつ、従来よりも製造コストを安価なものにすることが可能な有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法を提供する。
【解決手段】基板１２と、基板１２上に形成され、陽極１４、正孔輸送層１６、有機発光層１８、電子輸送層２０及び陰極２４を有する積層構造体と、封止膜２６とを備える有機エレクトロルミネッセンス素子１０の製造方法であって、基板までの距離が１５ｍｍ以下の位置に配置したノズルから気化材料を基板に向けて吐出することにより、有機発光層１８を形成する有機発光層形成工程を含む。 （もっと読む）

【課題】塗布不良をより確実に防止する。
【解決手段】塗布装置１０は、ステージ４と、ノズル２１〜２３と、ノズル移動機構１と、被塗着部材３１Ｒおよび３１Ｌと、塗着位置変更手段とを備える。ステージ４は、基板Ｗを載置する。ノズル２１〜２３は、下方に向けて塗布液を液柱状態で吐出する。ノズル移動機構１は、塗布液の吐出中に基板Ｗ上を横断するようにノズル２１〜２３を往復移動させる。被塗着部材３１Ｒおよび３１Ｌは、ノズル２１〜２３が基板上から外れた時に当該ノズル２１〜２３から吐出される塗布液が塗着される位置に配置される。塗着位置変更手段は、被塗着部材３１Ｒおよび３１Ｌにおいて塗布液が塗着される位置を変更する。 （もっと読む）

【課題】被転写層の形状や質を均一に形成することが可能な転写方法および転写装置、ならびに有機発光素子の製造方法を提供する。
【解決手段】転写装置１は、光学機構１０と、位置検出部１１と、高さ検出部１２と、制御部１３とを備えている。光学機構１０は、光源１００と、照明レンズ部１０１と、レーザ光分割部１０２と、結像レンズ部１０３とを有している。結像レンズ部１０３では、その焦点からのずれが中央部Ｃにおいて端部Ｅよりも大きくなるように構成されている。位置検出部１１で検出された位置情報に基づいて光学機構１０が走査され、高さ検出部１２で検出された高さＨに基づいて、結像レンズ部１０３の焦点の高さが転写基板２００に対して一定の高さに維持されるようになっている。 （もっと読む）

閉じ込められた第２の層を第１の層上に形成する方法であって：
第１の表面エネルギーおよび第１のガラス転移温度を有する第１の層を形成するステップと；
第１の層上に、第１の層に直接接触するように中間材料を凝縮させて中間層を形成するステップであって、前記中間層が、第１の表面エネルギーよりも低い第２の表面エネルギーを有するステップと；
中間層をパターン化して、第１の層の非被覆領域および第１の層の被覆領域を形成するステップと；
閉じ込められた第２の層を第１の層の非被覆領域上に形成するステップと
を含む方法を提供する。
有機電子デバイスの製造方法も提供する。
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【課題】有機層の補助電極上に形成された部分を真空雰囲気中でレーザ照射により除去することができる表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】真空雰囲気中で素子基板１０と対向基板６１とを突起構造１５を間にして重ね合わせることにより、重ね合わせ基板６２を形成する。次いで、素子基板１０と対向基板６１との間の空間Ｓを真空雰囲気に維持した状態で重ね合わせ基板６２を大気中に取り出す。続いて、重ね合わせ基板６２にレーザ光ＬＢを照射することにより有機層１６の補助電極１４上の部分を除去する。素子基板１０と対向基板６１との間の空間Ｓは真空雰囲気に維持されているので、大気中に取り出した重ね合わせ基板６２にレーザ光ＬＢを照射しても、有機層１６の補助電極１４上に形成された部分１６には真空雰囲気中でレーザ光ＬＢが照射される。 （もっと読む）

【課題】低抵抗なセラミックス膜とその製造方法を提供する。
【解決手段】式Ｘ／Ｙ≧１（ここで、Ｘ：前記セラミックス膜のａ軸に直交するいずれかの結晶面のうちのＸ線回折強度の中の最大値、Ｙ：前記金属化合物からなる粉末のＸ線回折強度が最大値となる結晶面と同一の結晶面における前記セラミックス膜のＸ線回折強度）を満足する結晶構造が六方晶の金属化合物相を主体としたセラミックス膜を、アスペクト比が２〜７の範囲の柱状粒子を個数比で５〜３０％含む金属化合物粉末を気体と混合してエアロゾルを形成し、減圧雰囲気でエアロゾルをノズルから被成膜体へ噴射し被成膜体に形成する。 （もっと読む）

本発明は、照明技術に関し、特に固体照明技術に関する。一実施形態では、本発明は、第１電極と、放射線透過性の第２電極と、放射線透過誘電性材料中に設けられた少なくとも一つの電界凝集体及び少なくとも一つの燐蛍光体を含む、第１電極と第２電極との間に配置された合成層とからなる照明装置を提供する。
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【課題】移動度が高く、オン・オフ比が良好な絶縁ゲート型トランジスタを実現する。
【解決手段】活性層にＩｎ、Ｇａ、Ｚｎの内、少なくとも1つを含む酸化物を用いる場合において、昇温脱離分析（ＴＤＳ測定）により水分子として観測される脱離ガスを１．４個／ｎｍ^３未満とする。また、活性層はＩｎ−Ｇａ−Ｚｎ−Ｏを含み構成された酸化物とすることが望ましい。さらに活性層はアモルファスとすることが望ましい。活性層がＩｎ、Ｇａ、Ｚｎの内、少なくとも1つを含む酸化物である絶縁ゲート型トランジスタの製造方法において、活性層の成膜後の、昇温脱離分析により水分子として観測される脱離ガスを１．４個／ｎｍ^３以下とする。 （もっと読む）

【課題】少なくとも発光層と電子注入層が一対の電極間に挟持されている有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。
【解決手段】金属及び金属化合物、又は金属若しくは金属化合物の加熱蒸発物と、有機物の加熱蒸発物とを原料とする共蒸着膜を電子注入層とする有機ＥＬ素子の製造方法であって、基板の上に下部電極を形成する工程と、前記下部電極の上に有機化合物層を形成する工程と、前記有機化合物層の上に上部電極を形成する工程とを有し、前記有機化合物層の一つである電子注入層を作成する工程で、前記金属及び金属化合物、又は金属若しくは金属化合物の加熱蒸発物に対してイオン化処理を施すことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ＴＯＳ−ＴＦＴと有機ＥＬを同一基板上に低温プロセスにおいて形成し、有機層の劣化を低コストで抑制することを目的とする。
【解決手段】有機ＥＬ素子を駆動するための電界効果型トランジスタを有する発光装置の作製方法において、基板１上に電界効果型トランジスタを形成する工程と、絶縁層７を形成する工程と、絶縁層７の上に下部電極８を形成する工程と、下部電極８の上に有機ＥＬ素子を構成するための有機層１０を形成する工程と、有機層１０の上に上部電極１１を形成する工程と、を含み、電界効果型トランジスタの半導体層を形成する工程の後、有機層１０を形成する工程の前に、電界効果型トランジスタからＨ_２Ｏとして脱離し得る成分量が１０^−５ｇ／ｍ^２未満となる熱処理を行う熱処理工程を含む。 （もっと読む）

【課題】大型の処理室であっても、短時間で確実に水分を除去することが可能な気体置換装置及び気体置換方法を提供する。
【解決手段】外部から遮蔽可能な空間において、有機ＥＬ用の基板を製造する処理室１を備える。処理室１内の気体を、Ｎ_２ガスに置換するガス置換装置２と、処理室１内の水分濃度を低下させる循環精製装置３と、循環精製装置３による水分濃度の低下を促進するように、処理室１内の温度を、所定の温度まで上昇させた後、低下させる温度調整装置４と、を有する。 （もっと読む）

【課題】額縁の領域をより狭くすることを可能とした表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の表示装置は、配列された複数の表示素子（１２０）と外周側に電源の配線層（１０７）とを有する基板（１００）と、表示素子の相互間を分離するバンク層（１１３）と、複数の表示素子とバンク層とを覆う電極層（１２３）と、基板の外周部分と外周を一周する封止部（２０２）において接着剤などの接合手段（３０１）を介して接合して電極層を更に覆う封止基板（２００）と、を備え、封止基板の外周を基板の外周の内側に位置し、電極層の外周部を封止基板の封止部（ｂ＋ｃ）内にて電源の配線（１０７）と接続する。それにより、電極（１２３）と配線（１０７）との接続領域（ｃ）を基板と封止基板との接合領域（ｂ＋ｃ）として活用し、ガスバリア等のために所要の接合幅を確保しつつ表示装置の額縁の構成要素となる部分を減らす。 （もっと読む）

【課題】薄膜形成装置の真空槽内で水晶振動子を用いて膜厚を測定する場合に、水晶振動子の温度変化によって膜厚測定値に誤差が生じる。
【解決手段】膜厚センサ５の構成として、膜厚測定用の水晶振動子１１と、この水晶振動子１１を保持するハウジング１３と、このハウジング１３を保持するとともに、ハウジング１３を介して水晶振動子１１を冷却する水冷式のホルダ２０とを備えた構成とする。また、ハウジング１３とホルダ２０との間に、熱伝導性を有する振動吸収部材２３を挿入する。 （もっと読む）

【課題】インクジェット塗布により基板上に形成されたバンク内に精度良く塗布膜を充填させることができる塗布方法およびパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】基板上においてバンクに囲まれた領域にインクジェット方式により塗布液を供給して塗布膜を形成し、その後その塗布膜を軟化させて流動させることにより、該塗布膜をバンクに囲まれた領域に充填させる。 （もっと読む）

【課題】
信頼性の高い有機ＥＬ表示装置をより簡略な工程で製造する。
【解決手段】
本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法の一つは、第１の基板上に発光素子を形成し、第２の基板上に枠状にシール材を形成し、シール材で囲まれた領域に、液状の吸湿性物質を含む組成物を滴下し、組成物を固化することにより吸湿性物質を含む層を形成し、発光素子と、吸湿性物質を含む層とを内側に封じ込めるように、第１の基板と第２の基板とをシール材によって固着する。 （もっと読む）

【課題】
基板のカラーフィルタの下層には、各画素電極に表示データ電圧を供給するためのＴＦＴ、及びＴＦＴに表示データ信号、走査信号を供給する配線が形成されている。このため、カラーフィルタのパターニングに際し、下層の配線やＴＦＴの導電層が浸食されたり、酸化され易いという問題がある。
【解決手段】
カラー表示装置の素子基板となる基板上に、ゲートライン、ＴＦＴ及びデータラインを形成した後、データラインを覆う畝状の保護絶縁層を形成する。この基板に、転写フィルム上のカラーフィルター層を、保護絶縁層延在方向に（列方向）に沿って移動するローラによって圧着する。列方向にカラーフィルタの転写が進むので、保護絶縁層間に形成される画素スペースからガスを進行方向に追い出しながら、基板とカラーフィルターを隙間なく密着させることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】長寿命化が可能な有機ＥＬ素子及び有機ＥＬ素子の製造方法を提供すること。
【解決手段】発光層１２が、燐光材料を含有し、正孔注入輸送層１１は、陽極層３及び陰極層５で挟持された状態で、電界強度を５×１０^５Ｖ／ｃｍとしたときの電流密度が０．００１ｍＡ／ｃｍ^２以上１０ｍＡ／ｃｍ^２以下となる。 （もっと読む）