【課題】正孔輸送層を選択的にＵＶ表面処理を施し、インクジェット方式の発光層を形成する際、印刷品質を向上することができるのみならず、画素間のリーク電流を低減することができる有機電界発光ディスプレイ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板２００上に下部電極２４０を形成するステップと；前記下部電極２４０の一部分を露出させる開口部２５５を具備した絶縁膜２３０を成膜するステップと；基板２００の全面に有機薄膜層を形成するステップと；前記有機薄膜層を選択的に表面処理を施すステップと；前記有機薄膜層の表面処理を施していない部分２６１に発光層２７０を形成するステップ；及び基板２００の全面に上部電極２８０を形成するステップと；を含む。 （もっと読む）

湿気及び／又は酸素に敏感な電子デバイスをカプセル封入するためのバリアスタックが提供される。バリアスタックは、湿気及び／又は酸素の浸透性が小さい少なくとも１つのバリア層と、バリア層の表面と接触するように配置された少なくとも１つの封止層とを有する多層膜を備えている。封止材料は、湿気及び／又は酸素と相互作用することができる反応性ナノ粒子を含有しており、それによりバリア層に存在する欠陥を介して湿気及び／又は酸素が浸透することが妨げられる。 （もっと読む）

表面上にコーティングを形成する方法が開示される。この方法が、ポリマー材料と非−ポリマー材料との混合物を含むハイブリッド層を表面上に堆積する段階を含む。ハイブリッド層が、単相を有してよく、または多相を含んでもよい。ハイブリッド層が、単一源の前駆体物質を使用した化学気相成長法によって形成される。化学気相成長法プロセスが、プラズマ助長型であってよく、反応ガスを使用して行われてもよい。前駆体物質が、シロキサンのような有機−シリコン化合物でよい。ハイブリッド層が、シリコーンポリマーのような様々な種類のポリマー材料、及び酸化シリコンのような様々な種類の非−ポリマー材料を含んでよい。反応条件を変えることにより、ポリマー材料と非−ポリマー材料とのｗｔ％比が調整されてよい。ハイブリッド層が、光透過性、不浸透性、及び／又は柔軟性のような、有機発光デバイスへの使用に適した様々な特性を有してよい。
（もっと読む）

【課題】 蒸着時の低製膜速度におけるコントロール性を高め、かつ、有機林料を高温に晒すことなく有機材料に発生する問題を解決することが可能である製膜方法を提供する。
【解決手段】 対向する陽極電極と陰極電極と、両電極の間に配され、二種以上の有機化合物を含有する少なくとも１層の有機層とを備える有機ＥＬ素子の有機層の製造方法であって、上記有機層が、基板からの蒸発源までの距離、または基板表面の中心と蒸発源の蒸発表面の中心とを結ぶ線が該基板表面となす角度が異なる、蒸発速度の異なる二以上の蒸発源を用いて、真空成膜室内で基板上に蒸着形成される有機ＥＬ素子の有機層の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】 光透過性が高く且つ防湿性に優れたパッシベーション層を形成することで、優れた発光特性を長期にわたって安定して維持することができる有機ＥＬディスプレイの製造方法を提供する。
【解決手段】 透明な基板１０上に、色変換フィルタ層２１、２２、２３、オーバーコート層３０、パッシベーション層４０、有機発光素子５０、６０、７０、８０が順次積層されている有機ＥＬディスプレイの製造方法において、パッシベーション層４０を形成するために、Ｔｉ、ＡｌおよびＳｉからなる群から選ばれる１つの薄膜４２を形成する工程と、この薄膜４２を紫外線オゾン処理または酸素プラズマ処理により酸化処理する工程とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、有機ＥＬ素子の劣化を効果的に抑制することにより、信頼性の優れた有機ＥＬディスプレイおよびその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】素子基板１と、素子基板１上に形成され、発光層を有する有機層１３と、有機層１３の両側に配置される一対の電極層１２、１４とを有する有機ＥＬ素子２と、有機ＥＬ素子２上に形成され、有機ＥＬ素子２の有機層１３を構成する有機材料よりもガラス転移点が低い有機材料から成るキャッピング層３と、キャッピング層３上に形成された保護層４と、を備えたことを特徴とする有機ＥＬディスプレイ。 （もっと読む）

【課題】陽極と正孔注入層と間の密着性を向上することができるＥＬ装置の製造方法及びＥＬ装置を提供すること。
【解決手段】画素電極２３を溶解可能な酸を発生する酸発生材料を当該画素電極２３と正孔注入層７０との間に配置し、酸発生材料から酸を発生させて画素電極２３の表面を溶解し、画素電極２３のうち溶解した部分を当該画素電極２３と正孔注入層７０との界面に溶出させて溶出層８１を形成するので、この溶出層８１によって画素電極２３と正孔注入層７０と間の密着性を向上することができる。 （もっと読む）

【課題】有機材料の使用効率が高く、必要とされる蒸着エリアにおいて均一に有機膜を形成できる蒸着装置を提供する。
【解決手段】２次元的に分布する坩堝１１を有する平面蒸着源１０を用いて基板上に有機膜を蒸着する蒸着装置において、平面蒸着源１０の内部領域１０ａにおける坩堝１１の配置密度より、周辺領域１０ｂの坩堝１１の配置密度の方を高くする。周辺領域１０ｂにおいては各坩堝１１の周囲に発生する有機物の蒸気量が少ないため、これを補うように坩堝１１の配置密度を高くすることで、基板に蒸着される有機膜の膜厚不均一を防ぐ。 （もっと読む）

【課題】発光領域内の有機機能層の厚みがほぼ均一である電気光学装置およびその製造方法、電子機器を提供すること。
【解決手段】電気光学装置１０は、第１電極１２と、第１電極１２に対応した開口部１４ａを有する絶縁膜１４と、絶縁膜１４上に形成され、開口部１４ａに対応した範囲を囲むバンク１６と、バンク１６に囲まれた範囲内に液滴配置により形成され、開口部１４ａに対応する発光領域１８ｅを有する有機機能層１８と、有機機能層１８を覆う第２電極２０と、を備え、開口部１４ａは、発光領域１８ｅより広くなっている。 （もっと読む）

薄膜電子装置を製造する方法は、湿式成形処理を用いて、剛性担持基板（12）に、プラスチックコーティングを設置するステップを有し、前記プラスチックコーティングは、プラスチック基板（22）を形成する。前記プラスチック材料は、基板面に対して垂直な第1の方向では、前記基板面に平行な第2の方向に比べて、大きな熱膨張係数を有する。前記プラスチック基板上には、薄膜電子素子が形成され、加熱処理により、前記プラスチック基板は、前記基板面に対して垂直な方向に優先的に延び、これにより、剛性担持基板は、プラスチック基板から取り外される。本発明のプラスチック基板における熱膨張係数の異方性により、熱滴リフトオフ処理の間、垂直な方向に基板の膨脹が生じる。これにより、リフトオフ処理が助長され、プラスチック基板の上部表面に取り付けられた部材が保護されることが示されている。
（もっと読む）

【課題】陽極側及び陰極側の材料及び構成を変更せずに、良好なキャリア注入性、最適なキャリアバランス、キャリア注入の安定性の３つを同時に満足することのできる発光装置を提供する。
【解決手段】本発明の発光装置ＥＬ１は、発光層４を含む１つ又は２つ以上の層からなる機能層７と、前記機能層７を挟持する一対の電極３，８とを備え、互いに隣接する２つの前記層の界面又は互いに隣接する前記層と前記電極との界面に有機溶媒（有機溶媒層Ｓ）が配置されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】検査のための位置合わせ時間を短縮し、検査で不良とされた製品の無駄を最小限とすることができるアクティブマトリクス基板。
【解決手段】アクティブマトリクス基板２０は、複数の走査線ＷＬ及び複数のデータ線ＤＬに接続された実装端子２６と、検査回路３０と、検査回路３０に接続され、実装端子２６よりも数が少なく、ピッチが広く、面積が広い検査端子３２とを含む。第１，第２の検査工程では、アクティブマトリクス基板２０に設けられた検査回路３０に検査装置１００を接続して検査し、切断工程では、複数の実装端子２６と検査回路３０との間の位置にて基板２０及び複数の検査用配線２８を切断する。 （もっと読む）

【課題】比較的低温で簡易にパターン転写可能な有機ＥＬ転写体、有機ＥＬ被転写体と、これらを用いた有機ＥＬ素子の製造方法の提供。
【解決手段】支持体と、前記支持体上に形成された剥離層と、前記剥離層上に形成された有機ＥＬ転写層から少なくともなる有機ＥＬ転写体であって、前記有機ＥＬ転写層側の表面である転写表面が、接着性および／または濡れ性の違いによるパターンを形成しうるパターン転写層からなる。 （もっと読む）

【課題】基板上に供給後の機能液を基板上で良好に濡れ拡がらせることができる膜パターンの形成方法を提供する。
【解決手段】形成方法は、基板に第１の幅を有する第１領域、及び第１の幅よりも大きい第２の幅を有する第２領域を区画するバンクを形成するバンク形成工程と、吐出ヘッドから機能液を第１領域に吐出し、第１領域から第２領域へ濡れ広がらせる機能液供給工程と、を有し、吐出ヘッドから吐出する機能液の基板に到達する前の直径は、第１の幅より小さい。 （もっと読む）

【課題】有機EL層内の導電性パーティクルに酸化膜を被覆し、漏洩電流発生を抑制する表示素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の表示素子製造方法は、基板110上にアノード電極120を形成し、その上に有機EL層130を形成し、その上に第1の下部金属層141を熱化学気相蒸着又はE-ビーム蒸着により１ｎｍ〜１００ｎｍの範囲の膜厚で形成し、下部金属層141の一部に酸化膜151を形成し、そして下部金属層141上に第2の下部金属層142を形成する段階を含む。下部金属層140は少なくとも２個の金属層からなり、酸化工程は各金属層形成工程後にそれぞれ実行される。第1、第2の金属層は、アルミニウム、マグネシウム、マンガンカルシウム及びその合金よりなる群から選択された材料からなる。上記酸化膜は、Ａｌ_２Ｏ_３、ＭｇＯｘ、ＭｎＯ_ｘ又はＣａＯ_ｘからなる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ポリチオフェン誘導体を用いた導電性パターンを有する導電性パターン基板およびその製造方法であって、ポリチオフェン誘導体の特性が劣化しにくく、高精細な導電性パターン基板およびその製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、基板と、上記基板上にパターン状に形成され、導電性を有するポリチオフェン誘導体およびシランカップリング剤の重合体を含有する導電性部とを有することを特徴とする導電性パターン基板を提供することにより、上記目的を達成する。 （もっと読む）

【課題】夜間でも視認可能で、昼間又は照明下においては発光の有無により異なった装飾性をもたせることができる発光性装飾材を提供する。
【解決手段】平面シートの向こう側が透視可能な透明基材１から構成される透明部と、ストライプ状の第１透明電極層３、発光層４、およびストライプ状の第２透明電極層８から構成される発光部（３−４−８）、平面シートの向こう側が透視可能な透明基材７から構成される透明部を備える透視性を有する発光シート。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ポリチオフェン誘導体を用いた正孔注入層を有する有機ＥＬ素子およびその製造方法であって、絶縁層をパターン状に形成することなく、特定のパターンを発光表示することが可能な有機ＥＬ素子およびその製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、基板と、上記基板上に形成された陽極層と、上記陽極層上に形成されたポリチオフェン層と、上記ポリチオフェン層上に形成された発光層と、上記発光層上に形成された陰極層とを有する有機ＥＬ素子であって、上記ポリチオフェン層が、導電性を有するポリチオフェン誘導体を含有し、導電性を有する正孔注入部と、変性された上記ポリチオフェン誘導体を含有し、導電性を有さない絶縁部とを有し、上記正孔注入部が所定のパターン状に形成されていることを特徴とする有機ＥＬ素子を提供することにより、上記目的を達成する。 （もっと読む）

【課題】特定の波長の光を放出するエレクトロルミネセンス素子を製造することを目的とする。
【解決手段】本発明は、作成された基板上に、発光層として希土類がドープされ、且つシリコンリッチな層をゲート酸化物層上に蒸着し、構造体をアニールおよび酸化して上記希土類がドープされ且つシリコンリッチな層に引き起こされる損傷を修復し、ＣＭＯＳ ＩＣに上記エレクトロルミネセンス素子を組み込むことを含むエレクトロルミネセンス素子の製造方法に関する。基板、所定の波長の光を放出するためのゲート酸化物層上に形成された、希土類がドープされ且つシリコンリッチな層、上記希土類がドープされ且つシリコンリッチな層上に形成された上端電極、およびそこに製造された連合されたＣＭＯＳ ＩＣ構造体を有する本発明の方法によって製造されたエレクトロルミネセンス素子に関する。 （もっと読む）

【課題】発光層（有機半導体層）の上の電極の酸化を遅くするとともに、薄膜封止の場合の封止層の形成を容易とする。
【解決手段】複数の陽極１１が形成された基板１０と、基板１０の上に形成された個別バンク７０Ａとを有する。個別バンク７０Ａには、複数の画素開口部５０Ａが設けられている。各画素開口部５０Ａは各陽極１１に対応している。各画素開口部５０Ａの内部には、陽極１１の上に、正孔注入層２０、インターレイヤ２１、発光層２２が順に積層されている。発光層２２の上に陰極３０が形成されている。個別バンク７０Ａは、親液層１２の上に撥液層１３を積層して構成されている。撥液層１３は互いに離間している複数の撥液部１４から構成され、各撥液部１４が各画素開口部５０Ａを画定している。 （もっと読む）