【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な新規な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分、および露光により酸を発生する酸発生剤成分を含有するレジスト組成物であって、酸発生剤成分が、一般式（ｂ１−１１）で表される化合物からなる酸発生剤を含むことを特徴とするレジスト組成物。式（ｂ１−１１）中、Ｒ^７”〜Ｒ^９”のうち少なくとも１つは、置換基として式（Ｉ）で表される基を有する置換アリール基であり、式（Ｉ）中のＷは２価の連結基である。Ｘ⁻は、式（ｂ−３）または（ｂ−４）で表されるアニオンである。
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【課題】比較的大きい溶解度等の好ましい特性を有する芳香族重合体を提供する。
【解決手段】式（ＩＶ）で表される縮合多環芳香族部分を２以上有する芳香族重合体：


（Ｇ_１、Ｇ_２、Ａ_１〜Ａ_４は、結合、水素原子、特定の置換基であり、Ｂは、ベンゼン環部分を有する縮合環であり、Ｙはカルコゲンである）。 （もっと読む）

【課題】より優れた拡散制御およびレジストプロファイルのような付随する特性を有するテイラーメード光酸発生剤を含むフォトレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（Ｉ）：［Ａ−（ＣＨＲ^１）_ｐ］_ｋ−（Ｌ）−（ＣＨ_２）_ｍ−（Ｃ（Ｒ^２）_２）_ｎ−ＳＯ_３⁻Ｚ^＋（Ｉ）（式中、Ａは置換されているかもしくは非置換の単環式、多環式もしくは縮合多環式の環式脂肪族基であり、Ｒ^１はＨ、単結合または置換されているかもしくは非置換のＣ_１−３０アルキル基であり、Ｒ^２はＨ、Ｆ、もしくはＣ_１−４フルオロアルキルであり、Ｌはスルホナート基、スルホンアミド基またはＣ_１−３０スルホナートもしくはスルホンアミド含有基を含む連結基であり、Ｚは有機もしくは無機カチオンであり、ｐは０〜１０の整数であり、ｋは１もしくは２であり、ｍは０以上の整数であり、並びにｎは１以上の整数である）を有する光酸発生剤化合物。 （もっと読む）

【課題】比較的大きい溶解度を有する縮合多環芳香族化合物の前駆体に用い得る化合物と合成法の提供。
【解決手段】下記式（ＩＩ）で表される縮合多環芳香族化合物：
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【課題】比較的大きい溶解度を有する縮合多環芳香族化合物、その合成及び使用方法の提供。
【解決手段】下記ＤＮＴＴを代表とする化合物。
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【課題】レジスト組成物用酸発生剤として有用な塩、及び当該塩を含有する、優れたマスクエラーファクターを有するレジストパターンを製造し得るレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、置換基を有してもよい芳香族炭化水素基を表す。Ｒ^２は、ラクトン環基を表す。Ｒ^３は、水素原子又はヒドロキシ基を表す。Ｘ^１及びＸ^２は、それぞれ独立に、式（ａ−ｇ１）


（式（ａ−ｇ１）中、ｓは０〜２の整数を表す。＊１は、硫黄原子との結合手を表し、＊２は、Ｒ^２又はＲ^３との結合手を表す。Ａ^１０は、脂肪族炭化水素基を表す。Ａ^１１は、脂肪族炭化水素基又は単結合を表す。Ｘ^１０は、酸素原子、カルボニル基等を表す。ｍ１は１又は２を表し、ｍ２は０又は１を表す。但し、ｍ１＋ｍ２＝２の関係を満たす。Ａ⁻は、スルホン酸アニオン等の有機アニオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】特定の構造を有するラクトン化合物の製造方法の提供。
【解決手段】下記一般式（１）で示される化合物を、還元剤の存在下で還元工程を含む、下記一般式（２）または（３）で示される化合物の製造方法。


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【課題】優れたフォーカスマージン（ＤＯＦ）でレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物、この化合物に由来する構造単位を有する樹脂及びこの樹脂を含むレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基；Ａ¹は、式（ａ−ｇ１）で表される基；ｓは０〜２の整数；Ａ^１０は脂肪族炭化水素基；Ａ^１１は、単結合又は脂肪族炭化水素基、但し、ｓ＝０の時、Ａ^１１は単結合ではない；Ｘ^１０は、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニル基又はオキシカルボニルオキシ基；環ＷＲ^２は、置換基を有していてもよいラクトン環基を表す。］ （もっと読む）

【課題】優れたパターン倒れ耐性（ＰＣＭ）を有するレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物、この化合物に由来する構造単位を有する樹脂及びこの樹脂を含むレジスト組成物。


［式（Ｉ）中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基を表す。環Ｗ^２は置換基を有していてもよい炭素数３〜３４のラクトン環を表す。］ （もっと読む）

【課題】 本発明が解決しようとする課題は、大きなΔεと比較的低い粘度を同時に併せ持つ材料を提供し、併せて当該化合物を構成部材とする液晶組成物を提供することである。また、当該液晶組成物を使用した液晶表示素子を提供することである。
【解決手段】 一般式（Ｉ）で表される２，６，７−トリオキサ−ビシクロ［２，２，２］オクタン骨格を持つ化合物を提供し、併せて当該化合物を構成部材とする液晶組成物及び当該液晶組成物を使用した液晶表示素子を提供する。
【化１】
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【課題】リソグラフィー特性及びレジストパターン形状に優れたレジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物及び酸発生剤の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、酸発生剤成分（Ｂ）は、式（ｂ１−１）で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含有する［式中、Ｘは置換基を有していてもよい炭素数３〜３０の環式基であって、該環構造中に−ＳＯ_２−結合又は−Ｏ−ＳＯ_２−結合を有し、該−ＳＯ_２−結合又は−Ｏ−ＳＯ_２−結合に隣接しない１つ以上の炭素原子の置換基として酸素原子を有する。Ｑ^１は２価の連結基又は単結合であり、Ｙ^１は置換基を有していてもよいアルキレン基又は置換基を有していてもよいフッ素化アルキレン基であり、Ａ^＋は有機カチオンである。］。
［化１］
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【課題】沸点の低い有機溶媒類に対しても溶解性に優れ、また液晶配向膜の高チルト角発現が可能なポリイミドを与え得るそのモノマーとしての側鎖置換脂環式テトラカルボン酸二無水物及びその製造法の提供。
【解決手段】ビシクロ［３．３．０］オクタン−２，４，６，８−テトラカルボン酸−２：４，６：８−二無水物のビシクロオクタン環に側鎖置換基を導入した下記式［１］で表される化合物及びその製造方法。


（式中、Ｒ¹は、炭素数１〜２０のアルキル基及びシアノアルキル基を表す。） （もっと読む）

【課題】 誘電率異方性（Δε）が負であってその絶対値が大きく、かつ化学的安定性に優れた液晶組成物及び表示素子を提供し、またΔεが負であってその絶対値が大きく、かつ化学安定性に優れた化合物を提供することである。
【解決手段】
一般式（Ｉ）
【化１】


で表されるフッ素化されたオキサビシクロノナン誘導体及びこれを含む液晶組成物及びこれを用いた表示素子を提供する。本発明の液晶組成物はΔεが負であってその絶対値が大きく、かつ化学的安定性に優れるという特徴を有し、当該組成物を用いた液晶表示素子はVA方式、IPS方式、PSA方式等に有用である。 （もっと読む）

【課題】新規化合物、高分子化合物、レジスト組成物、酸発生剤及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】式（１−１）で表される化合物［式中、Ｒ^１、Ｒ^３はそれぞれ独立に、単結合又は２価の連結基であり、Ａは２価の連結基であり、Ｒ^２、Ｒ^４はそれぞれ独立に、水酸基、置換基を有していてもよい炭化水素基、又は式（１−ａｎ１）、（１−ａｎ２）又は（１−ａｎ３）で表される基である。n０は０又は１である。Ｙ¹は単結合又は−ＳＯ_２−であり、Ｒ^５はフッ素原子で置換されていてもよい、炭素数１〜１０の１価の炭化水素基、炭素数３〜２０の環状の１価の炭化水素基、又は炭素数３〜２０の環状の部分構造を有する１価の炭化水素基である。Ｍ^＋は有機カチオン又は金属カチオンである］。
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【課題】有機溶剤に可溶であり、カルボキシ基と反応する架橋剤であるβ−ヒドロキシアルキルアミドを提供する。さらには、有機溶剤可溶なβ−ヒドロキシアルキルアミドを含む樹脂組成物、その硬化物、有機溶剤可溶なβ−ヒドロキシアルキルアミドの製造方法を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表されることを特徴とする（Ｂ）β−ヒドロキシアルキルアミド。一般式（１）


ここで、Ｘは炭素、水素、酸素、窒素、硫黄、またはハロゲンから構成されるｎ価の基であり、脂環式炭化水素基、分岐脂肪族炭化水素基、または芳香族炭化水素基であり、Ｘ中のカルボニル基に直接結合する原子が炭素原子である。ｎは２〜６の整数であり、Ｒ₁およびＲ₂は、それぞれ独立に、水素原子、または置換基を表す。 （もっと読む）

【課題】新規な化学物質を資源として提供する。
【解決手段】本発明に係るキシログラニンＡとする。
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【課題】優れたラインエッジラフネスを有するレジストパターンを得ることができる塩、酸発生剤及びレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式中、Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基を表す；Ｌ^１及びＬ^２は、互いに独立に、２価の飽和炭化水素基を表し、該基を構成するメチレン基は、酸素原子等で置き換わっていてもよい；Ｚ^１は、単結合、メチレン基、エチレン基、、カルボニル基、酸素原子又は硫黄原子を表す；Ｒ^１はアルキル基を表し、該基を構成するメチレン基は、酸素原子等で置き換わっていてもよい；sは０〜２の整数；Ｙは、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基を表し、該基を構成しているメチレン基は、酸素原子、スルホニル基等で置き換わっていてもよい；Ｚ^＋は有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】 誘電率異方性（Δε）が負であってその絶対値が大きく、かつ化学的安定性に優れた液晶組成物及び表示素子を提供し、またΔεが負であってその絶対値が大きく、かつ化学安定性に優れた化合物を提供することである。
【解決手段】
一般式（Ｉ）
【化１】


で表されるフッ素化されたオキサビシクロノナン誘導体及びこれを含む液晶組成物及びこれを用いた表示素子を提供する。本発明の液晶組成物はΔεが負であってその絶対値が大きく、かつ化学的安定性に優れるという特徴を有し、当該組成物を用いた液晶表示素子はVA方式、IPS方式、PSA方式等に有用である。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用クエンチャーとして好適な化合物、該クエンチャーを含有するレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、下記一般式（ｃ１）で表される化合物（Ｃ１）を含む含窒素有機化合物成分（Ｃ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）（ただし、前記化合物（Ｃ１）を除く）を含有することを特徴とするレジスト組成物［式中、Ｒ^Ｎは置換基を有していてもよい含窒素複素環式基であり；Ｘ^０は炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐鎖状の２価の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の環状若しくは環状の部分構造を有する２価の脂肪族炭化水素基、又はこれらの水素原子の一部若しくは全てがフッ素原子で置換された基であり；Ｍ^＋は有機カチオンである。］。
［化１］
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【課題】高い収率で安価に５−オキソ−４−オキサ−５−ホモアダマンタン−２−オールを得る製造方法を提供する。
【解決手段】下記式（Ａ）で表されるｅｎｄｏ−ビシクロ［３．３．１］−６−ノネン−３−カルボン酸にギ酸と過酸化水素水を反応させる下記式（Ｉ）で表される５−オキソ−４−オキサ−５−ホモアダマンタン−２−オールの製造方法。
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