【課題】レーザ光の集光位置を安定化する。
【解決手段】このアライメントシステムは、ガイドレーザ光を出力するガイドレーザ装置と、レーザ光及びガイドレーザ光の少なくとも一方の進行方向を調節する調節機構と、レーザ光及びガイドレーザ光の進行方向を実質的に一致させる光路結合部と、光路結合部の下流側に配置され、レーザ光及びガイドレーザ光を検出する第１の光検出部と、第１の光検出部による検出結果に基づいて、調節機構を制御する第１の制御部と、光路結合部の下流側に配置され、レーザ光及びガイドレーザ光の進行方向を調節するビームステアリング機構と、ビームステアリング機構の下流側に配置され、少なくともガイドレーザ光を検出する第２の光検出部と、第２の光検出部による検出結果に基づいて、ビームステアリング機構を制御する第２の制御部と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】露光特性を向上させる。
【解決手段】陰極および陽極間に電圧を印加し、陰極と陽極との間において、所定の原子をプラズマ励起させることによりＥＵＶ光を生じさせ、このＥＵＶ光を、露光部に導き、露光部内において基板の上方に形成された感光膜を露光する工程を、冷却機構により、陰極１０３の先端部１０３ｂを構成する金属部の融点未満の温度に冷却しつつ行なう。例えば、陰極１０３は、支持部１０３ａと、先端部１０３ｂとを有し、冷却機構は、支持部内に冷却溶媒を循環させる機構である。また、支持部１０３ａは、銅よりなり、先端部１０３ｂを構成する金属部は、タングステンよりなり、冷却機構の支持部１０３ａ側の端部からタングステン端部までの距離（Ｄ１）を７ｍｍ以下とする。 （もっと読む）

【課題】本発明のＥＵＶ光源装置は、ＥＵＶ光以外の他の光を取り除き、ＥＵＶ光のみを露光機に供給することができる。
【解決手段】ＥＵＶ集光ミラー１３０の表面１３１には、Ｍｏ／Ｓｉの多層膜が設けられており、この多層膜にブレーズド溝１３３が形成される。プラズマ２０１から放射された光２０２は、ＥＵＶ集光ミラー１３０に入射し、反射または回折する。ＥＵＶ反射光２０３（ＥＵＶ回折光を含む）は、中間集光点ＩＦに向けて進む。他の波長の光は、反射角度または回折角度が異なるため、ＩＦから外れた位置に進む。ＩＦには、開口部１５１を有するＳＰＦ用アパーチャ１５０が設けられている。従って、ＥＵＶ光のみが開口部１５１を通過して露光機に供給され、他の光はアパーチャ１５０により遮光される。 （もっと読む）

【課題】複数の異なるエネルギーのＸ線を放射すると共に、生成したＸ線のエネルギーのばらつきを抑制する。
【解決手段】Ｘ線検査装置１０に備えられるＸ線発生装置１４は、粒子加速装置２０が複数の異なるエネルギーのＸ線を発生させるための荷電粒子ビームを生成し、ターゲット２２に荷電粒子ビームが照射されることによってＸ線を放射する。単一エネルギー制御装置は、ターゲット２２に荷電粒子ビームが照射されることによって、ターゲット２２に流れる電流の計測値及びターゲット２２から放射されるＸ線の線量の計測値から求められる単位ターゲット電流当たりのＸ線線量に基づいて、異なるエネルギーのＸ線毎に粒子加速装置２０を制御する。 （もっと読む）

【課題】極端紫外光の生成において変換効率を向上させる。
【解決手段】極端紫外光生成方法は、チャンバ内にターゲット物質を供給するステップ（ａ）と、ターゲット物質にレーザビームを照射することにより、プラズマを生成して極端紫外光を生成するステップ（ｂ）と、を備える。レーザビームの空間的な光強度分布は、ビーム軸の中心から所定距離の位置における光強度よりも低い光強度を有する低強度領域が前記ビーム軸の中心から前記所定距離の範囲内に存在する空間的な光強度分布を有してもよい。 （もっと読む）

【課題】ほぼ均一な強度で所望のパルス幅を実現できるドライバレーザを用いて、効率的にＥＵＶ光を得ることができる極端紫外光源装置を提供する。
【解決手段】この極端紫外光源装置は、ターゲットにレーザビームを照射することにより極端紫外光を発生するレーザ生成プラズマ型極端紫外光源装置であって、極端紫外光の生成が行われるチャンバと、チャンバ内の所定の位置に液体又は固体の金属ターゲットを供給するターゲット供給手段と、互いに異なる遅延を伴う複数のパルスレーザビームを合成して強度が略均一の単一パルスレーザビーム又はパルス列レーザビームを生成し、ターゲット供給手段によって供給されるターゲットに該レーザビームを照射することによりプラズマを生成するレーザビーム生成部と、プラズマから放射される極端紫外光を集光して出射するコレクタミラーとを具備する。 （もっと読む）

【課題】紫外線レーザを用いるタイプのＸ線発生装置は内視鏡に組み込んで生体内へ挿入可能であり、かかる使用時において新たな用途の開発が求められる。
【解決手段】紫外線レーザ発生装置５１から放出される紫外線レーザを電子線放出素子の紫外線レーザ受光面２１に照射し、電子線放出素子において紫外線レーザ受光面と異なる電子線放出面２３から放出される電子線を金属片へ照射し、該金属片からＸ線を発生させるＸ線発生方法において、紫外線レーザとして、単位パルス強度を１０００μジュール以下とし、単位パルスの幅を１００ｎｓ以下のものを使用し紫外線レーザ受光面の物質の変性を防止する。かかるＸ線発生装置とともにＸ線照射部位から放出される各種の光を検出する検出器を備える。 （もっと読む）

【課題】紫外線レーザを用いるタイプのＸ線発生装置は内視鏡に組み込んで生体内へ挿入可能であり、かかる使用時において安全性を確保する。
【解決手段】紫外線レーザ発生装置から放出される紫外線レーザを電子線放出素子１０３の紫外線レーザ受光面に照射し、電子線放出素子において紫外線レーザ受光面と異なる電子線放出面から放出される電子線を金属片１０４へ照射し、該金属片からＸ線を発生させるＸ線発生方法において、紫外線レーザとして、単位パルス強度を１０００μジュール以下とし、単位パルスの幅を１００ｎｓ以下のものを使用し紫外線レーザ受光面の物質の変性を防止する。電子線放出素子をアースすることによりＸ線の発生を停止できる。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶを放射するレーザ生成プラズマを生成するための光源集光モジュールを提供する。
【解決手段】ＥＵＶを放射するレーザ生成プラズマ（ＬＰＰ）を生成するための光源集光モジュール（ＳＯＣＯＭＯ）１００と、入射端３および出射端５を有し、ＬＰＰ２４に相対配置される斜入射集光器（ＧＩＣ）ミラーＭＧとに関する。ＬＰＰ２４は、光源部およびターゲット部を備えるＬＰＰターゲットシステムを使用して形成される。光源部からのパルスレーザ光線は、ターゲット部のＳｎ蒸気源からの蒸気Ｓｎを照射する。ＧＩＣミラーＭＧは、ＬＰＰ２４に相対配置され、入射端３でＥＵＶを受光し、受光したＥＵＶを、出射端５に隣接する中間焦点ＩＦに集束する。中間焦点ＩＦに供給されるＥＵＶの量を増加させるために、放射集光強化装置を使用してもよい。また、ＳＯＣＯＭＯを利用するＥＵＶリソグラフィシステムについても開示される。 （もっと読む）

【課題】エネルギー変換効率を改善する。
【解決手段】ターゲット物質にプリパルスレーザ光Ｌ１を照射することによって拡散ターゲットＰＰを生成し、メインパルスレーザ光Ｌ２を該拡散ターゲットＰＰに照射することによってプラズマ化し、当該プラズマＰＲから放射された極端紫外光Ｌ３を出力する極端紫外光を生成する装置１は、プリパルスレーザ光Ｌ１の偏光状態を制御する第１偏光制御部１０、または、メインパルスレーザ光Ｌ２の偏光状態を制御する第２偏光制御部６１０のいずれか一方の偏光制御部、または両方の偏光制御部を備える。 （もっと読む）

【課題】簡素な構成でありながら、加速管で後ろ向きに加速された電子によるビーム出射手段の損傷等を防止できる電子加速器及びこれを備えたＸ線発生装置を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明に係る電子加速器１１は、電子ビームＢを出射するビーム出射手段１３と、電子ビームＢの進行方向を前記電子ビームＢの進行方向に対し所定の方向に偏向する偏向磁場を形成する磁場形成手段１４と、偏向磁場により偏向された電子ビームＢが入射する位置に配置され、この入射した電子ビームＢを高周波により加速可能な加速管１５とを備え、偏向磁場は、加速管１５から戻ってきた電子の経路上に形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶリソグラフィシステムにＳＯＣＯＭＯシステムを組み込む場合に、より安価で、単純で堅牢なシステムを提供する。
【解決手段】ＬＰＰターゲットシステム４０は、Ｓｎペレット（液滴）源２０を備える。Ｓｎペレット（液滴）源２０は、上述のＳｎペレット（液滴）２２を吐出する。Ｓｎペレット（液滴）２２は、比較的低質量のペレットであって、レーザ光線１３が照射されると、略等方性のＥＵＶ３０を生成する。このため、ＬＰＰ２４と中間焦点ＩＦとの間に光学軸Ａ１に沿って多層シェル型ＧＩＣミラーＭＧを配置することができる。レンズ１７は、レーザ光線１３を焦点Ｆ１３に収束させる。 （もっと読む）

【課題】エネルギービームの照射により発生させたプラズマを、高い密度を維持した状態で、プラズマの発生地点よりも離れた領域に供給できるようにすること。
【解決手段】タ一ゲットチャンバー１１内のターゲット１３にレーザビームを集光照射しターゲット１３からプラズマを発生させる。発生したプラズマはレーザビームが照射される方向に広がり、加速空洞２１に供給されて加速される。ターゲット１３の表面は、レーザビームの集光点よりも入射側にずらして配置されており、プラズマは指向性がよくかつ高い密度を保ちながら、プラズマの発生地点よりも離れた領域まで輸送される。また、本発明を、放電領域外に配置された極端紫外光放射種にレーザビームを照射し、発生したプラズマを放電領域に供給して、極端紫外光（ＥＵＶ）を発生させるＥＵＶ光源装置にも適用でき、プラズマを高い密度を維持した状態で放電領域に供給することができる。 （もっと読む）

【課題】イオン回収装置のイオン衝突面および／またはイオン衝突面に堆積した物質のスパッタリングによる再拡散を防止することができる極端紫外光光源装置を提供する。
【解決手段】ターゲットである溶融ＳｎのドロップレットＤにレーザ光を照射してプラズマを生成し該プラズマから極端紫外光を発生し、この極端紫外光の発生とともに生成されるイオンの流れ方向を磁場または電場によって制御する極端紫外光光源装置において、前記イオンを回収するイオン回収筒２０を設け、イオン回収筒２０のイオン衝突面Ｓａ，Ｓｂに、前記イオンによるスパッタ率が１原子／イオン未満となる金属であるＳｉを配置またはコートする。 （もっと読む）

【課題】実用的に十分な極端紫外光の出力を確保することのできるＥＵＶ光源装置を提供すること。
【解決手段】エネルギービーム照射機１１から第１のレーザービームを放電電極２ｂ上の原料Ｍの表面に照射し原料Ｍの表面に凹所を形成する。制御部６は、スイッチＳＷをＯＮし、パルス電力供給部３のコンデンサＣ２を充電し、放電電極２ａ，２ｂ間の電圧を立ち上げる。その後エネルギービーム照射機１１から第２のレーザービームを上記凹所に照射し、原料Ｍを気化させる。気化した原料が放電電極２ａに到達すると、放電電極２ａ，２ｂ間で放電が開始してプラズマが加熱され、高温プラズマから波長１３．５ｎｍのＥＵＶ光が放射される。凹所に対してレーザビームを照射しているので、プラズマの空間的な広がりを小さくすることができ、ＥＵＶ光の出力を高いものとすることができる。 （もっと読む）

本発明は、移動面（１０）上に合焦する、第１の波長（λ_１）の第１の光ビームを放射する一次光源（Ｆ_１）から二次源を発生させる装置に関し、前記第１のビームは、二次ビーム（Ｆ_２）を発生させるために本装置と相互作用し、本装置はさらに、前記移動面上の、前記二次源の放射点の向きおよび位置を測定するために前記移動面の向きおよび位置を制御する光学素子を備えることを特徴とし、干渉計型測定によって移動面（１０）の向きおよび位置を制御する上記光学素子は、
− ２つの分岐に分割される制御レーザビーム（１１）であって、一方の分岐は、固定された基準ビームであり、他方の分岐は、移動面から反射される移動解析ビーム（１２）である、制御レーザビーム（１１）と、
− 前記基準ビームと前記解析ビームとを干渉させて干渉縞を発生させる手段と、
− 前記移動面の向きおよび位置に関する情報を搬送する干渉縞を撮像するカメラ型手段（１６）と、
− 前記干渉画像を解析する手段（１７）と、
− 前記情報搬送信号の解析に基づいて前記移動面の向きおよび位置を制御するフィードバックループを発生させる手段（１８）と、を含むことを特徴とする。
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【課題】本発明のＥＵＶ光源装置は、高い熱負荷状態において、可飽和吸収体を安定して連続的に使用することができる。
【解決手段】可飽和吸収体（ＳＡ）装置３３は、自励発振光や寄生発振光あるいは戻り光のような微弱な光を吸収するために、レーザビームライン中に設けられる。ＳＡガスボンベ３３４（１）からのＳＡガスとバッファガスボンベ３３４（２）からのバッファガスとは混合されて、混合ガスとなる。混合ガスは、供給管路３３３（１）を介して、ＳＡガスセル３３０に供給され、レーザ光Ｌ１に含まれる微弱光を吸収する。混合ガスは、排出管路３３３（２）を介して排出され、熱交換器３３２に送られる。熱交換器３３２で冷却された混合ガスは、循環ポンプ３３１（１）により、再びＳＡガスセル３３０に送られる。 （もっと読む）

【課題】高い変換効率を維持しつつ、長期間にわたって安定した信頼性の高い極端紫外光を生成することができる極端紫外光源装置を提供すること。
【解決手段】液体金属であるドロップレットＤにプリパルスＰ１を照射した後にメインパルスＰ２を照射してＥＵＶ光を生成する極端紫外光源装置において、プリパルスＰ１をドロップレットＤ１に照射しドロップレットＤ１の一部を残してプリパルスレーザ光照射側の該ドロップレットＤ１空間外の異なる空間にプリプラズマ１の空間を生成するプリパルスレーザと、プリプラズマ１の空間にメインパルスＰ２を照射してＥＵＶ光を生成するメインパルスレーザと、を備える。 （もっと読む）

【課題】放電領域におけるプラズマ原料のガスの密度を適切な状態にすることが可能なＥＵＶ光源装置、並びに、ＥＵＶ発生方法を提供すること。
【解決手段】放電電極上の高温プラズマ原料２１に第１のエネルギービーム２３を照射して気化させる。気化した原料が対向する電極に到達し放電が開始するまでの間に、第２のエネルギービーム２４を再び高温プラズマ原料２１に照射する。放電により第２のエネルギービーム２４照射によって発生した密度の高い原料ガスが圧縮加熱されるため、ピンチの効率が高まり、高い変換効率のＥＵＶ光放射が得られる。第２のエネルギービーム２４を野照射のタイミングを適宜設定することにより、原料ガスの密度を適切な状態にすることができる。 （もっと読む）

【課題】集光反射鏡４を交換したりアパーチャー部材５を交換する際の作業を簡易に行うことのでき、コストを低減することが可能な極端紫外光光源装置を提供すること。
【解決手段】高温プラズマ用の原料に対し、エネルギービーム照射機５０からレーザービームが照射され、気化したＬｉまたはＳｎが放電電極２０ａと２０ｂとの間の放電領域に到達する。この状態で、制御部８から高電圧パルス発生部１１に指令が送信されと、高温プラズマが発生し、高温プラズマから放射されたＥＵＶ光は、集光反射鏡４に反射されることによってアパーチャー部材５の開口５ａに導入されＥＵＶ光出射部６から出射する。アパーチャー部材５は、集光反射鏡４に対して光学的に位置決めされた状態で、支持部材７により固定されユニット化されている。このため、集光反射鏡４のみを光学的に最適な場所に位置決めするだけで、アパーチャー部材５も最適な場所に位置決めされる。 （もっと読む）