【課題】敵対的熱環境で使用されるように設計された構成要素（１０）の遮熱コーティング（１２）を修理する化学組成物（２４）および方法を提供する
【解決手段】この方法は、遮熱コーティング（１２）への局所化された損傷をこうむった構成要素（１０）の遮熱コーティング（１２）を修理する。局所化された破砕によって露出された構成要素（１０）の表面区域を洗浄した後に、バインダの中にセラミック粉末およびナノサイズのセラミック材料を含み、さらに反応促進剤を含むセラミック組成物（２４）のペースト様混合物を、構成要素（１０）の表面（２２）に塗布し、任意選択として、機械的手段を使用して平滑化する。組成物（２４）を、乾燥させ、硬化させて、ポリマー特性を有する乾燥した修理コーティング（２６）を形成する。後続加熱時に、乾燥したコーティング（２６）が反応して、ガラス状のセラミック修理コーティング（２６）を形成する。 （もっと読む）

【課題】各種紫外線硬化型樹脂等からなるいずれの塗膜との間でも、優れた密着力が得られる固体物質の表面改質方法、および表面改質された固体物質を提供する。
【解決手段】引火点が０〜１００℃の範囲であって、沸点が１０５〜２５０℃の範囲である気体状態の特定のケイ素含有化合物を含む改質剤化合物（ただし、アルコール化合物は含まない。）を燃料ガス中に混合し、燃焼させて生じた火炎を、固体物質の表面に対して、全面的または部分的に吹き付け、ケイ酸化炎処理を施す。 （もっと読む）

本発明は、基材（Ｓ）、一又はそれ以上の耐引掻性層（ＳＲ）及び防曇性トップ層（Ｔ）を含んで成る層システムの製造方法に関し、その方法によって製造される層システム及びその使用に関する。 （もっと読む）

各種紫外線硬化型樹脂等からなるいずれの塗膜との間でも、優れた密着力が得られる固体物質の表面改質方法、および表面改質された固体物質を提供する。そのため、引火点が０〜１００℃の範囲であって、沸点が１０５〜２５０℃の範囲であるヘキサメチルジシラザン、ビニルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリオロメトキシシラン、３−クロロプロピルトリオロメトキシシラン等の特定のケイ素含有化合物を含む燃料ガスの火炎を、固体物質の表面に対して、全面的または部分的に吹き付け、ケイ酸化炎処理を施す。
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本発明は、無機又は有機基材上への強接着性コーティングの製造方法であって、第一の工程ａ）において、低温プラズマ、コロナ放電、又は火炎を、無機又は有機基材上に作用させ、第二の工程ｂ）において、１種以上の定義された光開始剤、又は定義された光開始剤と少なくとも１個のエチレン性不飽和基を含有するモノマーとの混合物、あるいは前述の物質の溶液、懸濁液、又はエマルションを、好ましくは常圧で、無機又は有機基材に塗布し、第三の工程ｃ）において、適切な方法を用いて、これら前述の物質を乾燥するか、かつ／又は電磁波を照射し、そして場合により、第四の工程ｄ）において、そのように前処理した基材上に更なるコーティングを塗布する方法に関する。 （もっと読む）

【課題】基材上の塗膜が有機クリヤー塗料又は有機エナメル塗料のいずれで形成されていても耐雨垂れ汚染性を高めることができる塗装基材の製造方法を提供する。
【解決手段】ケイ酸を含む無機化合物及び／又は加水分解性シリル基を有する化合物を有機クリヤー塗料又は有機エナメル塗料に配合する。次いでこの塗料を基材に塗布して乾燥させることによって塗膜を形成する。その後、この塗膜に加熱処理を行う。 （もっと読む）

本発明は、ａ）低温プラズマ、コロナ放電、強烈な照射および／または火炎処理を無機または有機基材上に作用させ、ｂ）１）活性化可能な開始剤１種以上、または２）活性化可能な開始剤１種以上とエチレン性不飽和化合物１種以上を、溶融物、溶液、懸濁液またはエマルションの形態で、無機または有機基材に適用し、これにより、処理した基材の望ましい表面特性を調整する機能調整基１種以上を、活性化可能な開始剤および／またはエチレン性不飽和の化合物に組み入れ、次いでｃ）被覆した基材を加熱および／または電磁波照射して、基材がこれにより望ましい表面特性を得る、無機または有機基材上に機能層を形成する方法に関する。本発明は、この方法にしたがって被覆した基材、およびこの基材の使用にも関する。 （もっと読む）

酸化法を使用してシリコーンへの接着剤の塗布を可能にする。この方法は、制御され、シリコーン構造への選択的酸化処理を可能にし、管状構造の内側への処理を可能にする。
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【課題】
簡単な設備で製造が容易で、燃料バリア性の優れる燃料容器等の燃料系統部品を得る。
【解決手段】
２つ以上の部材を該部材の周縁部で接合して一体化させた燃料系統部品であって、該部材の少なくとも１つが、予め成形された熱可塑性ポリマー樹脂製成形部品の少なくとも一部の表面に表面処理を施した上で燃料バリア性塗料を塗装して燃料バリア層を形成させたものであることを特徴とする燃料系統部品。
無 （もっと読む）

本発明は、基材(S)、耐引掻性層(K)及び被覆層(DE)を含んでなる層状系、及び該層状系の製造方法に関する。 （もっと読む）

【目的】 透過性シートの全体にわたって一様に液体含浸剤を塗布する連続法及びその装置を提供する。
【構成】 連続して進行している透過性シートの第１表面に液体含浸剤のほぼ層状に流れるカーテンを塗布し、その第２表面に、液体含浸剤のカーテンを塗布する位置の近傍にて、真空を加え、透過性シートを通して液体含浸剤の相当な量を吸引し、透過性シートの全体にわたって液体含浸剤のほぼ一様な分布を生じさせ、液体を含浸した透過性シートを乾燥させる。その結果、透過性シートの内部に向けて、液体含浸剤の一様な或いは制御された分布を実現し、過剰含浸剤のシート内の滞留時間を最小化することができる。 （もっと読む）

本発明は、基体（S）、耐引掻層（K）及びカバー層（D）を含む塗膜系の製造方法、並びに前記方法により製造した塗膜系に関する。 （もっと読む）

本発明はコーティング組成物の製造方法およびこの方法により得られた組成物に関する。本発明はまた、基質（Ｓ）、耐引掻性レイヤー（Ｋ）、および本発明のコーティング組成物から製造したコーティングレイヤー（Ｄ）を含むレイヤーシステム（layer systems）、およびこれらのレイヤーシステムの製造方法に関する。 （もっと読む）

本発明は、透明パネル及び透明パネルと一体に形成された導電性のヒータ・グリッドを有するウインドウ・アセンブリを提供する。導電性のヒータ・グリッドは、第１の群のグリッド線及び第２の群のグリッド線を有し、各群の両側の端部が第１及び第２のバスバーに接続されている。第２の群のグリッド線は、第１の群の隣接するグリッド線の間に間隔を置いて配置され、第２の群のグリッド線それ自体の幅が第１の群のグリッド線幅より狭くなっている。
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遊離−ＯＨ基と反応可能な疎水性成分が含まれる外側コーティング及び無機ゾル−ゲルコーティングである内側コーティングから成る二重コーティングが施されることにより容易に洗浄可能となる表面を備えた構造体であって、
前記外側疎水性コーティングが高くても１００℃までの穏やかな温度で乾燥された極めて反応性の高い内側ゾル−ゲルコーティングへ処理され、及び前記疎水性コーティングが縮合反応によって前記ゾル−ゲルコーティングへ化学的に強固に固定され、及び前記構造体表面上の前記二重コーティングが５０℃を越える温度で焼成されることを特徴とする前記構造体。 （もっと読む）

本発明は、無機又は有機の基材に強く付着している金属コーティングを製造する方法であって、（ａ）無機又は有機の基材上に、低温プラズマ処理、コロナ放電処理又は火炎処理を実施し；（ｂ）無機又は有機の基材に、１種類以上の光開始剤、又は少なくとも１つのエチレン性不飽和基を含んでいるモノマー若しくは／及びオリゴマーと光開始剤との混合物、或いは前記物質の溶液、懸濁液若しくは乳濁液を適用し；（ｃ）ステップ（ｂ）の層を場合により乾燥させ、そして、ステップ（ｂ）の層に電磁波を照射し；そして（ｄ）光開始剤でプレコーティングした基材に、気相から、金属、半金属又は金属酸化物を堆積させる方法に関する。 （もっと読む）

本発明は、無機又は有機の金属化基材に強く付着しているコーティングを製造する方法であって、第一のステップにおいて、（ａ）無機又は有機の基材上に、低温プラズマ処理、コロナ放電処理又は火炎処理を実施し；第二のステップにおいて、（ｂ）無機又は有機の金属化基材に、１種類以上の光開始剤、又は少なくとも１つのエチレン性不飽和基を含んでいるモノマー若しくは／及びオリゴマーと光開始剤との混合物、或いは前記物質の溶液、懸濁液若しくは乳濁液を適用し；そして、第三のステップにおいて、（ｃ）適切な方法を用いて、前記物質を乾燥させ、及び／又は、前記物質に電磁波を照射し、場合により第四のステップにおいて、（ｄ）このように前処理した基材にコーティングを付し、コーティングを硬化させ及び／又は乾燥させる方法。 （もっと読む）

無機又は有機基体上の強力接着性被覆の製造方法であって、ａ）無機又は有機基体上に、低温プラズマ処理、コロナ放電処理又は火炎処理を行い、ｂ）無機又は有機基体上に、１つ以上の光開始剤、又は光開始剤と少なくとも１個のエチレン性不飽和基を含むモノマー若しくは／及びオリゴマーとの混合物、あるいは前述の物質の溶液、懸濁液又は乳濁液を適用し、そして場合により、ｃ）適切な方法を用いて、これら前述の物質を乾燥するか、かつ／又は電磁波で照射する方法において、式（Ｉ）、（II）、（III）及び／又は（IV）：ＩＮ−Ｌ−ＲＧ （Ｉ）、ＩＮ−Ｌ−ＲＧ₁−Ｌ₁−Ｈ （II）、ＩＮ−Ｌ−ＲＧ₁−Ｌ₁−ＩＮ₁ （III）、ＩＮ−Ｌ−ＲＧ₁−Ｌ₁−ＲＧ₂−Ｌ₂−ＩＮ₁ （IV）［式中、ＩＮ及びＩＮ₁は、それぞれ他と独立に、モノアシルホスフィン、モノアシルホスフィンオキシド又はモノアシルホスフィンスルフィド光開始剤基であり；Ｌ、Ｌ₁及びＬ₂は、単結合又はスペーサー基であり；ＲＧは、少なくとも１個のエチレン性不飽和なＣ＝Ｃ結合を有する１価ラジカルであり；そしてＲＧ₁及びＲＧ₂は、それぞれ他と独立に、少なくとも１個のエチレン性不飽和なＣ＝Ｃ結合を有する２価ラジカルである］で示される化合物を使用するのが有利であると判明した。 （もっと読む）