【課題】本発明は、大サイズで、矩形形状又は、縦横比が１ではない曲面形状等の形状を有する基材の主面に高粘性の塗布液を塗布する場合であっても、均質な被膜を形成することを可能とする機能性被膜形成基材の製法を提供することを課題とする。
【解決手段】スピン成膜工程を有する機能性被膜形成基材の製法であり、該スピン成膜工程は、基材端部に堰を設ける工程、静止又は１０ｒｐｍ未満で回転中の基材に機能性被膜を形成させる塗布液を給液する工程、及びスピン回転の遠心力で塗布液を塗り広げる工程を有すること。 （もっと読む）

【課題】シート状基材（金属箔）に塗液（電極活物質を含む液体）を塗布する塗工装置において、塗層の厚みを縁部も含めて均一とするための技術を提案する。
【解決手段】シート状基材９が巻回された塗工バックアップローラ１３と、該塗工バックアップローラ１３上を搬送されるシート状基材９に塗液Ｌを塗り付けるダイコーター１２とを備えた塗工装置１０において、前記塗工バックアップローラ１３のうち、前記塗工バックアップローラのうち、巻き付けられたシート状基材９上で前記ダイコーター１２にて規定幅で塗液が塗布される部位（規定部Ｗ_１）の周面を円柱面で形成し、同じく塗布された塗液が流れて端部側へ拡がる部位（液流れ部Ｗ_２）の周面を前記円柱面と略同軸であって該塗工バックアップローラ１３の端部に向かい漸次縮径する円錐面で形成した。 （もっと読む）

【課題】最小単位の装置のブロック構成化を図ることにより装置の配置構成に自由度を向上させ、装置構成上の問題を伴うことなく装置全体の小型化が向上し装置全体のフットプリントを小さくすること。
【解決手段】被処理基板Ｇに対して所定の処理を施す処理部を一方向に複数配置して構成された処理部配置部２１〜２３と、この処理部配置部内に設けられ前記被処理基板を搬送する第１の搬送機構と、この処理部配置部外かつ前記一方のほぼ延長線上に固定してまたは前記一方向のほぼ延長線上に対して直交する方向に固定してまたは／及び前記一方向の延長線上と平行する線上を移動自在に設けられ前記第１の搬送機構に対して直接或いは間接的に前記被処理基板を受け渡し自在に構成された第２の搬送機構１１〜１５と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】基板を支持するユニットを提供する。
【解決手段】基板支持ユニットは、工程時に基板に旋回流を供給して基板をチャックプレート上から浮揚及び回転させる工程を行う。したがって、本発明は、基板を非接触方式でチャックプレートから浮揚させて支持し、工程速度で回転させる。 （もっと読む）

【課題】同一のヘッドで異なるパターンピッチに対応可能であり、装置規模及び費用的負担を軽減することを可能とするパターン形成装置を提供する。
【解決手段】ヘッドユニット１１は、回転装置１３によって回転可能なベース１４に複数のヘッド２１が設けられて構成される。ベース１４には、複数の移動軸２７が平行に設けられる。ヘッド２１は、複数のノズル２３を有する。ノズル２３は、例えば、インク吐出口である。ヘッド２１は、移動軸２７に沿って移動可能な固定治具２５に固定される。ヘッド２１は、予めノズル列方向と移動軸２７との間に角度４１（α）をつけて、固定治具２５に固定される。ヘッド２１は、固定治具２５と共に移動軸２７に沿って移動可能である。複数の移動軸２７に設けられるヘッド２１のノズル列方向は、互いに平行である。 （もっと読む）

【課題】内径部に溝を有する円筒形ワークの外周面の不必要な部位に封孔処理剤を付着させないで、かつセラミック溶射被膜内の空隙を確実に、生産性に優れた簡便な方法で充填することができる。
【解決手段】 内径部に溝を有する円筒形ワーク１の外周面に形成されたセラミック溶射被膜を液状の封孔処理剤４を用いて封孔処理するための封孔処理剤塗布装置であって、上記円筒形ワークの内径面を少なくとも１個以上の回転ローラ２で回転支持して円筒形ワークを回転させる手段と、上記回転ローラで回転支持された状態で上記セラミック溶射被膜部分を加熱する手段９と、上記円筒形ワークに対して上下方向に移動可能な封孔処理剤収容容器５を円筒形ワーク下部に配置し、上記封孔処理剤がエポキシ基含有成分と硬化剤とを含み、重合性ビニル基含有溶剤を含まない封孔処理剤である。 （もっと読む）

【課題】基板の回転角度及び加工精度を確保することを可能とする基板加工装置及び基板支持装置等を提供する。
【解決手段】吸着盤４ａは、配置可能領域５１の全部の領域を吸着盤の形態としたものである。吸着盤４ａの幅に関しては、回転軸中心から離れるに従い、Ｘ方向及びＹ方向共に幅が狭くなる。尚、吸着盤４ａは、最大回転角度５３ａまで回転させることができる。吸着盤４ａの回転角度を確保しつつ、エア浮上装置１１との間隔を小さくすることができる。これにより、吸着盤４ａとエア浮上装置１１との隙間における基板の撓みを防止し、基板に対する加工処理の精度を維持することができる。基板の回転角度及び加工精度を確保することができる。 （もっと読む）

【課題】加工対象基板の伸縮を抑制して加工精度を向上させることを可能とする基板加工装置及び基板支持装置等を提供する。
【解決手段】基板加工装置１は、Ｘ方向移動装置５、θ方向回転装置７、エア浮上装置１１等を備える。エア浮上装置１１は、エア流路５５を介してエア温度調整装置５３及びエア供給装置５１に接続される。エア供給装置５１は、エア温度調整装置５３にエアを供給する。エア温度調整装置５３は、エアの温度を一定温度に調整し、温度調整したエアをエア流路５５を介してエア浮上装置１１に送る。エア浮上装置１１は、基板３にエア５７を送って基板３をエア浮上させる。エア浮上装置１１は、エア温度調整装置５３により一定温度に調整されたエアを基板３に送るので、基板３の温度変化を抑制して基板３の伸縮を防止することができる。加工精度を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】加工精度を維持しつつ、装置重量及び費用的負担等を軽減することを可能とする基板加工装置及び基板支持装置等を提供する。
【解決手段】基板加工装置１は、Ｘ方向移動装置５、θ方向回転装置７、エア浮上装置１１等を備える。Ｘ方向移動装置５は、ベース２４のＸ方向中央部に設置される。θ方向回転装置７は、Ｘ方向移動装置５の上部に設けられ、Ｘ方向に移動可能である。θ方向回転装置７の上部には、吸着盤４が設けられる。エア浮上装置１１は、基板３を空気圧で押し上げあるいは吸引することにより、非接触に支持する装置である。吸着盤４のＹ方向長は、基板３のＹ方向長より小さい。基板加工装置１は、基板３の略全面を吸着盤４及びエア浮上装置１１により支持するので、撓みやばたつきが生じず、Ｚ方向精度を維持する。また、吸着盤４の大きさを小さくすることができるので、装置重量や装置製作費用を軽減することができる。 （もっと読む）

【課題】塗布膜形成用の単位ブロックに退避モジュールを設けることにより、インターフェイスアームの設置数を軽減して、製造コストの削減と装置のフットプリントの縮小化を図ること。
【解決手段】例えばＣＯＴ層Ｂ３に、塗布モジュールＣＯＴ１〜ＣＯＴ３の数よりも１枚多い枚数のウエハを退避することができる退避モジュールＢＦ３１〜３４を設ける。ＣＯＴ層Ｂ３では、温調モジュールＣＰＬ３、ＣＯＴ１〜ＣＯＴ３、加熱冷却モジュールＬＨＰ３、ＢＦ３１〜３４の搬送経路でウエハを搬送し、露光装置の処理速度がＣＯＴ層Ｂ３の処理速度よりも小さいときに、前記ＣＰＬ３の下流側のモジュールに置かれたウエハの総数が、前記ＣＰＬ３の次のモジュールから退避モジュールの前のモジュールまでの前記搬送経路の総モジュール数よりも１枚多い数になるように、メインアームによりウエハを搬送する。 （もっと読む）

【課題】塗布領域に塗布液を精度良く塗布する。
【解決手段】Ｘ方向にノズルヘッド５を移動させながらノズル４から塗布液をステージ２に載置された基板１に向けて吐出させて基板１上の溝１１に塗布液を塗布する塗布動作と、ステージ２をＹ方向にステップ状に移動させて基板１を位置決めするステップ移動を交互に繰り返す。制御部３は、ステージ２の各ステップ移動後に、該ステップ移動に続く塗布動作の実行前に該ステップ移動により生じたヨーイング誤差に対応した補正回転量を求めた上で該補正回転量だけ、ステージ移動機構２１を制御してＸ方向およびＹ方向に直交する直交軸Ｚ回りに（θ方向に）ステージ２を回転させる。 （もっと読む）

【課題】テープを介してフレームに支持されたウェーハの表面に保護膜を被覆する場合において、スピンナーテーブルを回転させその遠心力により爪部によってフレームを固定しても、爪部がフレームに接着されないようにすることにより、ウェーハをスピンナーテーブルから取り外せるようにする。
【解決手段】スピンナーテーブル４０の外周部に、スピンナーテーブル４００の回転時の遠心力によって錘部５００が外周側に振られることによりアーム部５０１を介して錘部５００と連結された爪部５０２がフレームＦを押さえる構成のフレーム押さえ手段４１を配設した樹脂被覆装置において、アーム部５０１と爪部５０２とを弾性体からなる連結部５０３によって連結する。スピンナーテーブル４００の回転停止時、連結部５０３が爪部５０２を移動させ、接着状態が解除されるため、スピンナーテーブル４０からフレームＦと共にウェーハを取り外すことができる。 （もっと読む）

【課題】基板裏面のレジスト付着による汚染を低減できるチャックを提供することを目的とする。
【解決手段】本発明のチャックは、チャックの最外周部分に凸型非接触面を設けたことを特徴とする。基板裏面と凸型非接触面との毛細管レベルのギャップにより、表面張力によってレジストがギャップ間に留まり、凸型非接触面より先にレジストが進入することを防ぐこと出来る。このため、基板裏面のレジストによる汚染を最小限にするという効果を奏する。基板の汚染を最小限に留めることで、例えば、半導体製造工程におけるレジストコートプロセスの歩留まり向上に寄与し、また、搬送ロボットをはじめとした各種装置への汚染防止効果も期待できる。 （もっと読む）

【課題】均一な現像処理を行なうことができる現像装置を提供する。
【解決手段】現像液吐出ノズル１１のノズル本体１６には、鉛直下向きに延びかつ底面１７で開口するスリット状吐出口１５が設けられる。スリット状吐出口１５の内壁面２１およびノズル本体部１５の底面１７は親水性材料により形成される。現像処理時に基板を基板保持部により静止状態で保持する。基板保持部により保持された基板外の一方側の移動開始位置から現像液吐出ノズル１１の移動を開始させた後、現像液吐出ノズル１１が基板保持部に保持された基板の一方側の端縁に到達するまでに現像液がスリット状吐出口１５に沿って連続的に帯状に垂下するように現像液吐出ノズル１１による現像液の吐出を開始させる。 （もっと読む）

【課題】 液状物質の滴下動作の高速化を図り、生産性を向上させること。
【解決手段】 液状物質滴下装置１０において、液状物質を蓄える容器４０と、容器４０から滴下量に応じた量の液状物質を取出す手段（取出しポート２１）と、取出した液状物質を一時的に蓄える手段（備蓄室２２）と、取出して蓄えられた液状物質を吐出する手段（吐出ポート２３）とを備えた液状物質供給装置２０と、基板１とを相対的に移動させる移動装置１２とを備えたもの。 （もっと読む）

【課題】個々の対象物のより柔軟な処理が可能な車輌の塗装システムを提供すること。
【解決手段】対象物が浸漬される処理液、特に塗料が存在する少なくとも１つの槽と、連続的または断続的な並進運動によりシステムを通して対象物を案内することができる搬送装置と、搬送装置と結合され、それぞれ１つの対象物を支持しまたその対象物を槽内に浸漬することができる多数の浸漬装置とを有するシステムにおいて、搬送装置が多数の独立した移送台車（５）を含み、移送台車が走行面（１３、１４）に案内されて移動し、また並進運動用のそれぞれ１つの別個の駆動部（３２、３３）と、駆動部とは無関係に作動する浸漬運動用の駆動部（１９、２０、２４、２５）とを具備する。 （もっと読む）

【課題】傾斜角が大きい光学部材に対して、均一な光学膜を再現性良く形成する方法及び装置並びにその光学膜を有する光学物品を提供する。
【解決手段】基板１を回転自在な治具20に取り付け、基板１を回転させながら、基板１に光学膜成分を含有する塗布液をノズル40から滴下し、得られた塗膜を乾燥させることにより、基板１上に光学膜を形成する方法であって、基板１を8,000 rpm以上のほぼ一定の速度で回転させながら、基板１に塗布液を滴下した後、治具20の軸ぶれを50μm以下に保持しながら、基板１を上記ほぼ一定の速度で回転させて塗膜を形成する方法。
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【課題】被加工物を支持する回転板の回転・停止が容易で、被加工物の両面処理できる装置を提供する。
【解決手段】円環状の回転板１と、該回転板１の下方に配置され、該回転板を磁気浮上させるための環状に配置された超伝導体６を有し、前記回転板１の下面には前記超伝導体６に対応して配置された浮上用永久磁石１ｃと、更に、前記回転板１に設けた浮上用永久磁石１ｃの外周側に回転用の永久磁石あるいは強磁性鋼板１ａ，１ｂと、該永久磁石に対応して回転磁界コイル４Ａを配置し、前記回転板１の永久磁石あるいは強磁性鋼板１ａ，１ｂと、前記回転磁界コイル４Ａとによって前記回転板１を非接触状態で回転駆動するように構成した磁気浮上回転処理装置。 （もっと読む）

【課題】３ｍｍ以上に及ぶ厚膜被覆における厚さ偏倚を許容レベル以内に抑える。
【解決手段】曲管１０を加熱してから流動浸漬槽１３で樹脂粉体１４を凝着させて仕掛り被覆付き金属条材１７にした後、その金属条材１７を流動浸漬槽１３から取り出して金属条材保持台座１８のところへ移送し、そこで金属条材１７を静置形態で経時させることで仕掛り被覆１６を母材１０の熱により完全溶融状態に到達させるとともに、該経時の間に進行する該仕掛り被覆１６の自重流下起因の厚さ偏倚を矯正すべく、金属条材保持台座１８によって金属条材１７の静置形態の姿勢を天地反転させることで仕掛り樹脂被覆１６の自重流下方向を逆流方向に切替え、次いで冷却する。 （もっと読む）

【課題】高分子有機ＥＬ素子の正孔輸送層を均一な膜厚に低コストで形成することができる正孔輸送層形成用塗布装置を提供する。
【解決手段】電極層が形成された有効画面１０１を有する基板１００を平らな状態に保持する保持面１１１を有する回転ステージ１１と、この回転ステージ１１を駆動するスピンモータ１３とを備え、保持面１１１に基板１００を保持した状態で回転ステージ１１を回転することにより電極層上に正孔輸送材料を含有するインキ組成物を塗布し熱処理等により溶媒成分を除去して正孔輸送層を形成する塗布装置であって、回転ステージ１１の保持面１１１を基板１００の平面視面積と同じ大きさの面積に構成した。 （もっと読む）