【課題】 基板に対するパーティクルの付着や傷付きを防止しつつ、基板を迅速に方向転換して搬送することができる基板搬送装置を提供する。
【解決手段】 基板を水平に保ちながら方向転換して搬送するための基板搬送装置Ａであって、基板の下面との間に空気圧による緩衝層を形成するエアステージ１と、エアステージ１に隣接して上下動作可能に設けられており、所定の上位置をとるとき、エアステージ１上における基板の側縁部を第１の水平方向Ｆ１に沿って移動しうるように支持する支持手段２Ａ，２Ｂと、エアステージ１の中央部において、上下動作可能かつ鉛直軸周りに回転可能に設けられており、所定の上位置をとるとき、エアステージ１上における基板の下面中央部を支持するとともに、鉛直軸周りに回転することで当該基板を第１の水平方向Ｆ１から異なる第２の水平方向Ｆ２に方向転換させる回転手段３とを備えている。 （もっと読む）

薬品（P）の処理機（１００）に関し、処理機は回転軸（X）を中心に回転するパン（２）、およびパン（２）内に設置された薬品（Ｐ）の塊（Ｍ）上にパン（２９）内で塗料を分与するように設計された分与ユニット（３）を含む。パン（２）は処理されるべき薬品（Ｐ）をパン（２）へ供給するための開口部（７）、および塗料により既に処理された薬品（ＰＴ）をパン（２）の外へ供給するための開口部（８）を有し、入口開口部（７）および出口開口部（８）は相互から分離独立である。パン（２）の内面の一部（Ｋ）は、パン（２）が第一回転方向（Ｆ１）へ自転するときで、入口開口部（７）からパン（２）への薬品供給時に、未処理薬品のパン（２）への流入（Ｆ３）を促進するように設計され、かつパン（２）が第一回転方向（Ｆ１）と反対の第二方向（Ｆ２）へ自転するときで、パン（２）から出口開口部（８）へ処理済薬品（ＰＴ）を供給する時に、処理済薬品（ＰＴ）のパン（２）からの流出（Ｆ４）を可能にする少なくとも一つの螺旋流調整フィン（４，５，６）を装備する。
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半導体基板処理動作中に流体を分配する装置。当該装置は、複数の流体源に結合された複数の分配ノズルを備える中央流体分配バンクと、中央流体分配バンクの第１の側に位置された第１の処理チャンバとを含む。また、当該装置は、中央流体分配バンクの第２の側に位置された第２の処理チャンバと、中央流体分配バンクと第１の処理チャンバと第２の処理チャンバとの間で並進するようになっている分配アームとを含む。 （もっと読む）

【課題】 処理ごとにカップ内の洗浄を行うことにより、乾燥固化が著しい処理液であっても確実に洗浄可能で、装置稼働率を低下させることがない回転塗布装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 基板Ｗの処理ごとにエッジリンスノズル２１に対する飛散防止カップ７及び整流板１７の位置を変えることによって、飛散防止カップ７の一部が少しずつ洗浄され、ある枚数の基板Ｗに対する処理を終えた時点でその全面を洗浄できる。したがって、ＳＯＧ液が飛散防止カップ７で固化してしまう前に洗浄するので、付着したＳＯＧ液を容易に除去でき、装置稼働率を低下させることがない。その上、飛散防止カップ７の全面を一度に洗浄するのではなく、一部を少しずつ洗浄してゆくので、洗浄液の気化に伴う雰囲気温度の著しい低下が抑制でき、膜厚の面内均一性を低下させることがない。 （もっと読む）

【課題】 ダメージを抑制しつつ基板に流体を供給することのできる流体吐出ノズルを提供する。また、この流体吐出ノズルを用いて基板への汚染物の再付着を抑制することのできる基板処理装置を提供する。
【解決手段】 気体流入口２と液体流入口３から流入された気体および液体は、混合部４で混合された後、導出路５の端部に設けられた噴射口６から半導体ウェハ７に向かって噴射される。噴射口６から導出路５の長手方向には湾曲部８が延設されていて、湾曲部８は、導出路５の中心軸１２から離れる方向に徐々に湾曲した形状を有する。導出路５は、長手方向に矩形状の断面を有するものとすることができる。 （もっと読む）

【課題】 粉体膜を形成するに際して特殊な制御や装置を必要とせず、かつ、極めて微小なサイズの粒子を用いて基板表面に均質な粉体膜を迅速に形成できる粉体膜形成装置を提供する。
【解決手段】 粉体原料ｍに、機械的外力を付与して微粒子Ｃを生成する微粒子生成手段５０と、微粒子Ｃを付着させて表面に粉体膜Ｆを形成する基板４を保持する基板保持手段４ａと、微粒子生成手段５０および基板保持手段４ａを内部に設けた処理室７０と、微粒子Ｃの基板４への搬送状態を制御する搬送制御手段４０を備える。 （もっと読む）

【課題】 ワークを１本毎、搬送する搬送装置を提供する。
【解決手段】 ワークを１本毎、搬送する搬送装置は、上流から下流に向けて下り傾斜状に適宜の間隔で配置の一対のフレームに回動可能な停止体１０を配列し、停止体１０は、回動軸１１に対して上流側に重心があるように幅広部１０ａと幅狭部１０ｂを形成してあり、上流側の停止体１０に物品を載置すると、下流側の停止体１０に物品がないときは下流側の停止体１０に転動する。 （もっと読む）

【課題】設備コストを減少させ、接着処理回数の減少を防止する接着剤硬化装置を提供する。
【解決手段】第２インデックステーブル８１はロータリーテーブルであり、断熱板８５の上部に固定されており、半径１３５ｍｍの円盤状をなしている。また、第２インデックステーブル８１の上面８１Ａ全域は平坦面をなしている。更に２インデックステーブル８１は、断熱板８５及び回転駆動部８４を介して図示せぬ駆動モータにより４８回の間欠回転動作によって一回転する。磁気コア２と板状コア３とが載置される第２インデックステーブル８１の中心から１３０ｍｍの位置は、回転動作時には６０ｍｍ／ｓｅｃの速度で回転する。また、第２インデックステーブル８１には、上面８１Ａを約１９０℃に加熱するヒータ８２が内蔵されている。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で、しかも低コストな装置により、ノズル１２からの流体の噴射状態を検出してその良否を判定する。
【解決手段】回転体１０の外周部に円周方向等間隔で複数のノズル１２が、また、各ノズル１２の下方に容器を支持するネックグリッパ１４が配置され、ノズル１２とネックグリッパ１４とが一体的に回転移動しつつノズル１２から過酸化水素ガスを噴射して容器を殺菌する。ノズル１２の移動経路内の容器が存在しない位置に、検出装置２０が設けられている。検出装置２０は、ノズル１２の移動経路の下方に配置された検出プレート３４と、この検出プレート３４に作用する荷重を検出するロードセル２２とを備えている。検出プレート３４にノズル１２から過酸化水素ガスが噴射されると、ロードセル２２がその重量を検出して制御装置４４に送り、比較判定部４８で、記憶部４６に記憶されている基準値と検出値とを比較する。 （もっと読む）

【課題】 シリコン等の被吸着基板の加工部位に傷や欠陥の発生しにくい真空チャック治
具及びこの真空チャック治具を使用した真空チャック方法、並びにこの真空チャック治具
を使用したエッチング精度の高い液滴吐出ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】 被吸着基板を吸着する吸着孔３を有し、該吸着孔３が、被吸着基板を吸着
する側の面の、中心から一定の範囲を占める中心部より外側の外周部に設けられているも
のである。また、外周部に設けられた吸着孔３以外に、被吸着基板を吸着する側の面の中
心に被吸着基板を吸着する吸着孔３が設けられているものである。さらに、吸着孔３が形
成された吸着部２が突設されており、吸着部２のみで、被吸着基板を保持可能としたもの
である。 （もっと読む）

【課題】 塗布膜形成成分を溶剤に溶かしてなる塗布液を基板の表面に塗布して成膜するにあたり、塗布後の基板に塗布むらの有無を速やかに検査すること
【解決手段】 基板例えばウエハＷを搬送アームＡにより筺体３内に搬入してスピンチャック３１に水平の保持し、塗布液ノズル５から塗布液を塗布して成膜する。そして塗布後のウエハＷを筺体３から搬出しているときに、当該ウエハＷの表面の画像データをラインセンサ７２により取得し、この画像データに基づいて塗布むらの有無を判定する構成とする。これによりウエハＷの表面の塗布むらを速やかに検出することができ、その結果を次に処理される後続のウエハＷに有効に反映させることができる。 （もっと読む）

【課題】気泡の発生を防止し得る塗膜形成方法を提供する。
【解決手段】一方の面における中央部位１４ａが突出形成された基材１４の一方の面に塗膜をスピンコートする際に、中央部位１４ａの外縁側に形成された円環状の段差部１４ｃの外周側から段差部１４ｃの内周側に亘る円環領域内に外周側から塗液Ｒを滴下した後に、基材１４を高速回転させて滴下した塗液Ｒを一方の面の全域に展延して塗膜を形成する。この塗膜形成方法により、塗液による空気の巻き込みを抑制することができる結果、塗膜内での気泡の発生が防止される。 （もっと読む）

１または複数の層を有する被覆物体（物品）を製造するために使用される方法および装置。当該層は浸漬被覆、スプレー被覆またはフロー被覆によって適用されることができる。当該装置および方法は、被覆されたプリフォームから、被覆された容器、好ましくは、ポリエチレン・テレフタテレートを含む容器を製造できる。ある装置構成において、当該装置および方法は、被覆の損傷の危険を低減し、それゆえ、最終的な容器の効力を増加させる、エネルギー的に効率の良い方法で被覆される容器またはプリフォームを製造することを可能にする。
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【課題】 塗布液の飛散を有効に防止し得る回転カップ式塗布装置を提供する。
【解決手段】 インナーカップ３上にはトレイ７を固定し、このトレイ７の各隅部からはドレイン誘導管１０が導出されている。ドレイン誘導管１０は先部１１が前記ドレイン回収通路３ａの底部に向かうように外側に向かって斜め下方に傾斜している。そして、先部１１の下端１１ａはインナーカップ３の底面３ｂよりも低くなっている。このためインナーカップ３とトレイ７を一体的に回転することで、板状被処理物Ｗの表面に供給された塗布液は遠心力で、庇状壁部９に形成した穴、ドレイン誘導管１０内の流路およびドレイン誘導管１０の先部１１を通って排出される際に、インナーカップ３の内周壁に直接衝突することがない。 （もっと読む）

本発明は、下端面の中心部にテーパーを有する突出部または溝を備えるキャップと、その中心部に、光ディスクの中心孔に挿まれる中心軸を備え、中心軸の末端部には、テーパー状の溝または突出部を備え、中心軸の溝または突出部は、キャップの突出部または溝と凹凸構造に噛み合うようになっている回転用のターンテーブルと、を備え、ターンテーブルの光ディスクの支持台上には、光ディスクを固定するための真空穴が形成されていることを特徴とする光ディスクスピンコーティング用の装置を提供する。これにより、キャップの装着時に、キャップの位置が光ディスクの中央に正確に合わなくても装着が容易であり、真空を利用することによりキャップの脱着が容易であるため、作業性が著しく改善され、光ディスクの製造工程の効率を向上させうる。
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基板処理装置は、基板保持機構（１４）の回転速度に応じて変化する保持力で基板（Ｗ）を保持する基板保持機構（１４）と、基板保持機構（１４）を回転させて基板保持機構（１４）により保持された基板（Ｗ）を回転させる基板回転機構（２２）と、基板保持機構（１４）により保持された基板（Ｗ）の任意の位置に処理液を供給する処理液供給機構（１２，１５，１９）とを備えている。
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【課題】処理容器の内側面を簡単かつ効果的に洗浄できるようにし、メンテナンス性や信頼性を向上させる。
【解決手段】回転カップ６０を洗浄するときは、基板Ｇの入っていない空のカップ本体６８に蓋体７０を被せた状態で、駆動部６６の回転駆動によりスピンチャック６２と回転カップ６０を適当な回転速度でスピン回転させる。そして、切換弁９０において回転支持軸６４側のポート９０ａを洗浄液供給源８８側のポート９０ｃに切り換えて、洗浄液供給源８８からの洗浄液を回転支持軸６４の流体通路６４ａを介してスピンチャック６２の流体通路９２に送り、スピンチャック６２の裏面側の洗浄液吐出口９４より回転カップ６０の内側面に向けて洗浄液を吐出させる。 （もっと読む）

【課題】 被処理基板の昇温速度を向上し、成膜時の被処理基板温度を均一化する。
【解決手段】 基板処理装置は、真空容器内で被処理基板Ｗを保持しつつ回転させる基板保持体２を備える。基板保持体２は、被処理基板Ｗを載置するリング状載置部１２を有する回転体１０と、回転体１０内に回転体とは非接触で設けられ、被処理基板Ｗを加熱するヒータ、ヒータ支持体、支持軸等を一体化したヒータ部５０とを有する。被処理基板Ｗを所定の温度に昇温させる際は、回転体１０に対して上昇させたヒータ部５０に被処理基板Ｗを接触保持させた状態で直接加熱する。昇温後、被処理基板Ｗを成膜処理する際には、回転体１０に対して下降させたヒータ部５０から被処理基板Ｗを離間させるとともに、リング状載置部１２に被処理基板Ｗを保持させた状態で、載置部１２に保持した被処理基板Ｗをヒータ部５０に対して相対的に回転させることにより被処理基板Ｗの処理を行う。 （もっと読む）