【課題】塗布システムの配線量を低減する。
【解決手段】ロールトゥロール方式の塗布システム１０は、メイン制御ユニット１２とコータ１４とを備える。コータ１４は、連続的に搬送される基材Ｆに塗布剤を塗布するための塗布ライン１８と、塗布ライン１８に沿って基材Ｆの搬送状態を計測するために設けられているセンサ４６、５０と、センサ４６、５０からの計測信号を集約してメイン制御ユニット１２へ中継するためのリモートＩ／Ｏ５６と、を備える。メイン制御ユニット１２は、コータ１４とは別体に設けられ離れて設置されており、リモートＩ／Ｏ５６は通信線３４によりメイン制御ユニット１２に接続されており、計測された基材Ｆの搬送状態を表す情報がリモートＩ／Ｏ５６から通信線３４を通じてメイン制御ユニット１２に伝送される。 （もっと読む）

【課題】吸着力によるレンズの変形を起こすことなく、レンズを吸着固定することができるレンズ保持治具及びレンズの保持方法を提供することを目的とする。
【解決手段】レンズの下方にレンズの下面との間に空隙を有して配設され、その下面が外部装置に吸着固定される移載台と、レンズのコバ面と移載台を把持する把持部材と、を備えたレンズ保持治具とする。 （もっと読む）

【課題】自動車の車体の塗装システムにおいて、搬送用走行体の上で前向き水平に支持した車体を、搬送させながら被処理液中に回転させて浸漬処理する手段として活用できる走行型浸漬処理装置を提供する。
【解決手段】搬送用走行体(1)に、浸漬処理浴槽(2)上を水平に横断する回転軸(11)と当該回転軸(11)を回転駆動する回転軸駆動手段(16)を設け、回転軸(11)に設けられたワーク支持手段(15)に支持された被処理ワーク(W)を回転軸(11)の回転により浸漬処理浴槽(2)内に浸漬できるようにした走行型浸漬処理装置において、搬送用走行体(1)上に、当該搬送用走行体(1)の走行方向の前後に往復移動自在な可動台(5)が設けられ、この可動台(5)に前記回転軸(11)が支持され、前記可動台(5)を搬送用走行体(1)に対して前後往復移動させる可動台駆動手段(20)が設けられた構成。 （もっと読む）

【課題】電極の塗工開始終了端の湾曲を抑制するに好適に塗工装置及び電極箔の製造方法を提供する。
【解決手段】シート状基材２０が巻掛けされたバックアップローラ８と、該バックアップローラ８上を搬送されるシート状基材２０に電極スラリー２１を塗り付けるダイコーター１０とを少なくとも備えた塗工装置２に関する。そして、前記バックアップローラ８のうち、巻掛けられたシート状基材２０の幅方向の両端部を支持する外側領域の外径を、当該外側領域間に挟まれる中央領域の外径より、大きい凹形状８Ａとした。 （もっと読む）

【課題】基板の回転数を高くしかつ処理カップ内の排気を低排気量で行っても排気流の逆流を抑え、基板へのミストの再付着を低減できる液処理装置及び液処理方法を提供する。
【解決手段】スピンコーティングを行うレジスト塗布装置において、ウエハＷの裏面の周縁部に近接した位置から外側下方へ向かって伸び出す下側ガイド部４５と、その上端面がウエハＷの表面とほぼ同じ高さに位置すると共に、下側ガイド部４５との間に気流を下方へガイドするための下側環状流路７９を形成する上側ガイド部７０と、上側ガイド部７０との間に環状空間７８を形成する外側カップ６０と、環状空間７８を途中で狭くするために外側カップ６０の下面から上側ガイド部７０の上面に向かって突出し、周方向に環状に形成された突出部１００と、を備え、環状空間７８と下側環状流路７９とを通ってきた気流が合流するように構成する。 （もっと読む）

【課題】基板が支持部に支持されることに起因する基板の未処理部分をなくすことができ、処理液のミストの発生も防止することができる液処理方法を提供する。
【解決手段】処理液により基板の下面を処理する液処理方法において、回転可能に設けられた、基板を下方より支持する支持部に支持されている基板を、支持部に対する基板の相対角度位置が変わらないように回転させ、回転する基板の下面に処理液を供給し、供給された処理液により基板の下面を処理する第１の処理工程Ｓ１１と、第１の処理工程Ｓ１１の後、支持部を回転させる回転部の回転数を変更することによって、相対角度位置を変更する位置変更工程Ｓ１４と、位置変更工程Ｓ１４の後、支持部に支持されている基板を、相対角度位置が変わらないように回転させ、回転する基板の下面に処理液を供給し、供給された処理液により基板の下面を処理する第２の処理工程Ｓ１５とを有する。 （もっと読む）

【課題】スピン塗布法を用いて塗布液を基板に塗布する場合において、塗布液の塗布量を少量にしつつ、塗布液を基板面内に均一に塗布する。
【解決手段】塗布処理方法は、ウェハを加速回転させた状態で、そのウェハの中心部にノズルからレジスト液を吐出して、ウェハ上にレジスト液を塗布する塗布工程Ｓ３と、その後、ウェハの回転を減速し、ウェハ上のレジスト液を平坦化する平坦化工程Ｓ４と、その後、ウェハの回転を加速して、ウェハ上のレジスト液を乾燥させる乾燥工程Ｓ５と、を有する。塗布工程Ｓ３では、ウェハの回転の加速度を第１の加速度、前記第１の加速度よりも大きい第２の加速度、前記第２の加速度よりも小さい第３の加速度の順に変化させ、当該ウェハを常に加速回転させる。 （もっと読む）

【課題】掠れやムラを生じさせず、所期の標識線を描くことができ、トレッド部をリボン製法で構成した場合でも、ゴムストリップの巻回層間の隙間に塗料が染み込んでしまうことがなく、製品タイヤの品質を高度に確保することができる、未加硫タイヤへの描線方法を提供する。
【解決手段】本発明の未加硫タイヤへの描線方法は、成型ドラムの回転軸と平行な軸を中心に回転可能且つ変位可能であり、温度制御可能なステッチングローラを有するステッチング手段を用いてタイヤのトレッド部の描線位置を平滑にした後、変位可能な描線手段を用いて、描線位置に標識線を描くことを特徴とする。また、本発明の未加硫タイヤへの描線装置は、上記ステッチング手段と上記描線装置とを具えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板上に塗布した塗布液を光により硬化させて電極などのパターンを形成するパターン形成装置において、アスペクト比の高いパターンを短時間で形成する。
【解決手段】吐出ノズル部５２下面の吐出口５２１から基板Ｗ上に塗布された塗布液Ｐに対し、ノズル走査移動方向（Ｘ方向）における左右両側から吐出ノズル部５２を挟むように設けた１対のライトガイド５５１，５５２からＵＶ光を照射する。ライトガイド５５１，５５２の光出射面５５１ａ，５５２ａが吐出口５２１から基板Ｗに鉛直方向に下ろした垂線の足Ｑを向く方向とされているので、光Ｌ1，Ｌ2は塗布液Ｐの側面にも照射される。 （もっと読む）

【課題】塗布液の省量化及び装置の小型化を図り、基板である半導体ウエハＷ上の塗布膜の膜厚について高い均一性を得ること。
【解決手段】ウエハＷを基板保持部であるスピンチャック２に略水平に保持させ、塗布ノズル４の吐出口４１を、前記ウエハＷに対して近接させた状態で相対的に移動させながら、前記吐出口４１から毛細管現象により塗布液を引き出してウエハＷに塗布する。毛細管現象を利用して塗布液を塗布しているので、塗布液の省量化及び装置の小型化を図ることができる。この後ウエハＷ上の塗布液がウエハＷから飛散しない回転数で当該ウエハＷを回転させることにより、ウエハＷ上の塗布膜の膜厚の面内均一性を向上させる。 （もっと読む）

【課題】 中心に穴の開けられた円盤状ディスク基板の表面にレジストを均一に塗布するスピンコート方法を提供する。
【解決手段】 中心に貫通穴を有する円盤状ディスク基板を回転させながら、ノズルから成膜材料を吐出して、基板上面に塗布するためのスピンコート方法において、吐出量が変動する吐出初期段階では、前記ノズルの内径中心を前記ディスクの塗布境界となるべき位置よりも半径方向外方側の位置（初期吐出半径位置）に配置させて前記成膜材料を吐出し、その後、吐出量が安定した段階で前記ノズルの内径中心を前記初期吐出半径位置から前記塗布境界近傍（安定後吐出半径位置）に移動させて配置し前記成膜材料を更に吐出するスピンコート方法。 （もっと読む）

【課題】生産効率を向上させる液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】ワーク５に液滴を吐出する前にワーク５に前処理を施す前処理部２０と、液滴を水平方向に吐出可能に取り付けられた液滴吐出ヘッドを備え、液滴吐出ヘッドから液滴を吐出して液滴をワーク５に塗布する液滴吐出部３０と、液滴が吐出されたワーク５に後処理を施す後処理部５０と、ワーク５を鉛直方向に吊り下げて把持可能なチャック部７８を有する搬送部７０と、を有し、前処理部２０と、液滴吐出部３０と、後処理部５０とが搬送部７０のチャック部７８の移動範囲６内において順に配置され、搬送部７０のチャック部７８がワーク５を把持した状態で前処理部２０と、液滴吐出部３０と、後処理部５０とを順次移動可能に構成する。 （もっと読む）

【課題】少ない液状樹脂量で効率良くワークに保護膜を形成すること。
【解決手段】本発明のある実施の形態の液状樹脂塗布装置１は、ワーク２を吸着保持する水平な保持面１１１を有する保持部１１と、鉛直方向を回転軸として保持部を回転させる回転部１２と、保持部１１の保持面１１１に保持されたワーク２の露出面２１に液状樹脂を供給する液状樹脂供給部１３と、露出面２１に供給された液状樹脂を露出面２１の全面に広げる塗広部材１４と、塗広部材１４を少なくとも水平方向に移動させる移動駆動部１５と、回転部１２を制御して保持部１１を回転させた状態で塗広部材１４を接触位置に位置付け、この接触位置からワーク２の外周位置まで塗広部材１４を水平移動させるように移動駆動部１５を制御する制御部１６とを備える。 （もっと読む）

本発明は、物８を搬送するためのコンベヤーシステムであって、特に、回転軸線４４を中心に回転され得る、少なくとも１つの耐荷重車輪４０を支持する車台２２を有した少なくとも１つのコンベヤー搬送部１８を具備する浸漬処理システム２において車体８を搬送するためのコンベヤーシステムに関する。少なくとも１つの物８が、枢動軸線３６中心に枢動可能な取付装置８４に取り付けられ得る。少なくとも１つの耐荷重車輪４０は、ガイドレール１４上を走行する。コンベヤー搬送部１８は、駆動手段６４を用いてガイドレール１４に沿って移動させられる。少なくとも１つの耐荷重車輪４０の回転軸線４４及び取付装置８４の枢動軸線３６は、互いに同軸線上に配置される。本発明は、更にこうしたコンベヤーシステム１０を具備する浸漬処理システム２に関する。
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【課題】ウエーハの裏面に所望の厚みの樹脂被膜を形成することができる液状樹脂の塗布装置および液状樹脂の塗布装置を装備した研削機を提供する。
【解決手段】ウエーハを保持し回転可能に構成された保持テーブルと、保持テーブルに保持されたウエーハに液状樹脂を塗布する液状樹脂塗布機構とを具備する液状樹脂の塗布装置であって、液状樹脂塗布機構は液状樹脂を収容する液状樹脂収容容器と、液状樹脂収容容器の下端に接続された噴霧ノズルとを具備し、噴霧ノズルは液状樹脂収容容器と連通する通路を備えたノズル本体と、ノズル本体の下側に設けられたノズル部とからなっており、ノズル部は通路に流入した液状樹脂を流出する液状樹脂流出口と、液状樹脂流出口の下側に形成され該液状樹脂流出口から流出された液状樹脂と空気とを混合する混合室と、混合室に開口し圧縮空気供給手段に連通する圧縮空気供給口と、混合室の下側に設けられ混合室によって圧縮空気と混合された液状樹脂を噴霧する液状樹脂噴霧口とを具備している。 （もっと読む）

【課題】被塗装物の周面にムラのない均一な塗膜を形成させる。
【解決手段】予備加熱工程Ｐ１に対応した予備加熱装置２０と、流動浸漬工程Ｐ２に対応した流動塗装装置３０と、事後加熱工程Ｐ３に対応した事後加熱装置４０とを経ることで被塗装物９０に流動浸漬法による塗装が施される。予備加熱装置２０は、誘導加熱手段としての誘導加熱コイル２１と、この誘導加熱コイル２１に高周波電流を流す高周波発振器２２と、被塗装物９０を軸体９２の軸心回りに回転させる回転機構２３とを備えている。流動塗装装置３０は、流動槽３１と、流動槽３１内の粉体塗料５０を流動状態にする送風機３２とを備えている。事後加熱装置４０は、予備加熱装置２０と同様の構成で被塗装物９０に事後加熱処理を施す。 （もっと読む）

【課題】基板の反りやうねりが大きいときにも、生産性良く基板に液滴を吐出する吐出方法を提供する。
【解決手段】ノズルと基板とを主走査方向に相対移動しながら、ノズルから液滴を基板の被塗布面に吐出する吐出方法にかかわる。複数の方向における被塗布面の凹凸形状を測定する反り測定工程と、凹凸形状の情報を用いて主走査方向に対する基板の向きを決定する配置方向判断工程と、決定した基板の向きに基板を移動する配置方向変更工程と、ノズルと基板とを相対移動しながら液滴を基板の被塗布面に吐出する吐出工程と、を有し、配置方向判断工程では、測定した複数の方向のうち被塗布面の凹凸の差の少ない方向を主走査方向に決定する。 （もっと読む）

【課題】従来のディッコーティング法では出来なかった、塗布対象物の全体の膜厚の変更を実現するディッコーティング装置を提供する。
【解決手段】把持部１１に試料を１２を把持し、把持部１１が有する回転ステージで角度を調整し、吐工液面に対して垂直ではなく角度を持たせて、斜め上方に引き上げ、垂直に引き上げる場合と違い、試料１２の全体に膜厚の差が発生する。また、低速で引き上げる場合には、試料１２の表面に粒子配列や結晶が形成できる。 （もっと読む）

【課題】塗布液の選択性を向上させ、多種多様な物性値を有する塗布液を用いても高精度の塗布処理を行うことができる回転塗布装置を提供する。
【解決手段】円形又は多角平面を塗布対象面とした被塗布物２に塗布液を塗布し、この被塗布物２を高速回転させることにより塗布液を拡散させて塗布膜を形成する回転塗布装置１において、被塗布物２を平行支持する平円板状の支持台３と、支持台３と離間を有するようにして平行に対向配置され、支持台３との離間に開放空間Ｓを形成する平円板状の平行平板４とを具備してなり、支持台３及び平行平板４がそれぞれ回転軸６０及び回転軸７０周りに独立して回転駆動される。 （もっと読む）

【課題】基板Ｓを載置するステージ本体３ａ上で基板をステージ本体３ａの垂直方向の軸線回りに回転可能とした回転機能付きステージであって、ステージ本体に前記軸線回りに回転自在に設けた、基板の裏面中央部に吸着自在な吸着手段１０と、吸着手段を回転駆動する回転駆動手段と、基板の裏面に向けて気体を噴出する気体噴出手段１２とを備えるものにおいて、基板が四角形の大型のものであってもこれをスムーズに回転できるようにする。
【解決手段】ステージ本体３ａの各辺に、基板Ｓの各辺よりも外方に張出す張出し部３ｅを形成する。張出し部３ｅは、基板Ｓの回転時における基板Ｓの各角部のステージ本体３ａからの最大はみ出し量が基板Ｓの対角線長さの３％以下になるように形成される。また、ステージ本体の各辺に沿わせて、気体噴出部を所定の高密度で配置し、基板のはみ出し部分の基端をステージ本体の各辺から浮上させるようにしてもよい。 （もっと読む）