【課題】基板上に処理液が存在するか否かについて、簡易な構造で検出し、製品の歩留まりの悪化を抑えること。
【解決手段】スピンチャック２に静電センサ５４Ａ〜５４Ｃを埋設する。静電センサ５４の静電容量は、基板であるウエハＷ上に処理液が存在すると、存在しない場合に比べて大きくなる。従って静電センサ５４Ａ〜５４Ｃにより、スピンチャック２上のウエハＷ上に処理液が存在するか否かについて検出することができる。従って所定のタイミングでウエハＷ上に処理液が存在するか否かについて検出することによって、処理液ノズル４からの処理液の吐出や、基板上における処理液の拡散の異常を速やかに検出できるため、これらの異常に直ちに対処でき、製品の歩留まりの悪化を抑えることができる。 （もっと読む）

【課題】二本のレールに沿って基板を移動する基板移動部の水平面上での回転方向の傾きを検出し補正できるように構成された吐出装置及び吐出方法を提供する。
【解決手段】本発明の吐出装置１０は、第一、第二の主干渉装置６２ａ、６２ｂと、第一、第二の主鏡装置６１ａ、６１ｂを有し、基板移動部２０の水平面上での回転方向の傾きを測定可能に構成されている。基板移動部２０の移動中、その測定結果から二本のレール上の移動量をそれぞれ制御して、前記傾きを移動開始前と同じにする。吐出装置１０は、第一、第二の副干渉装置６２ｃ、６２ｄと、副鏡装置６１ｃを有し、基板移動部２０のｘ軸方向の位置を測定可能に構成されている。基板移動部２０の移動中、その測定結果からヘッド３２の移動を制御して、ヘッド３２と基板移動部２０とのｘ軸方向の相対位置関係を、移動開始前と同じにすることにより、吐出口３５から吐出する吐出液を基板５０上の各着弾位置に着弾させることができる。 （もっと読む）

【課題】生産性の向上、表面処理領域に対する被処理物の搬入及び搬出動作のフレキシブル化並びにコストの低減化を図ることができる表面処理領域に対して被処理物を搬入及び搬出する装置を提供する。
【解決手段】ガイドレールに沿って移動可能な、被処理物Ｗを支持する複数のキャリア１、キャリア１の被牽引部材に係合する第１係合ドッグが取り付けられた通常速牽引駆動手段１１、前記被牽引部材に係合する第２係合ドッグが取り付けられた、通常速牽引駆動手段１１よりも牽引速度が速い高速牽引駆動手段１２、表面処理領域Ｃの左右片側に設置した、前記ガイドレールの一部を分割した分割レールを搬送方向右側から見て反時計回りに回転させる回転駆動手段１０、前記被牽引部材及び前記第１係合ドッグの係合を解除する第１係合解除手段、前記被牽引部材及び前記第２係合ドッグの係合を解除する第２係合解除手段を備えた。 （もっと読む）

【課題】大型基板又は二個の小型基板とヘッドとの位置合わせが可能に構成された吐出装置を提供する。
【解決手段】本発明の吐出装置１０は、第一、第二の載置台２４ａ、２４ｂを有している。第一の載置台２４ａは第二の載置台２４ｂより大きく、第一の載置台２４ａ上に第二の載置台２４ｂが配置される。基板５０を第一、第二の載置台２４ａ、２４ｂの両方に係るように載せると、第一の基板回転機構４２によって第一の載置台２４ａを基準面に平行に回転させ、ヘッド移動機構４５によってヘッド３２を移動することにより、基板５０とヘッド３２が位置合わせできる。第一、第二の基板５０ａ、５０ｂを第一、第二の載置台２４ａ、２４ｂ上にそれぞれ載せると、第一の基板５０ａを基板５０と同様に位置合わせした後、第二の基板位置合わせ機構によって第二の載置台２４ｂを基準面に平行に回転し、かつ移動することにより、第二の基板５０ｂとヘッド３２が位置合わせすることができる。 （もっと読む）

【課題】基板の周縁部の塗布状態を良好にすることが可能な塗布装置及び塗布方法を提供すること。
【解決手段】基板を立てた状態で回転させつつ前記基板の表面及び裏面にそれぞれ液状体を吐出するノズルを有する塗布機構と、前記基板の外周部における前記液状体の塗布状態を調整する調整機構とを備え、前記調整機構は、前記基板を回転させながら前記基板の外周部を溶解液に漬け込んで溶解させるディップ部と、前記溶解液に漬け込んだ後の前記基板の外周部近傍を吸引する吸引部とを有する。 （もっと読む）

【課題】複数コートを必要とするワークの塗装に際して、塗装ラインを小型化可能であるとともに、塗装時間の短縮を図ることを可能とする。
【解決手段】塗装領域４ａ又はセッティング領域４ｂに成り得る作業領域４を有した塗装テーブル３と複数の塗料噴射手段５を具備した塗装エリア２と、塗装後のワークを誘導加熱で乾燥する複数の乾燥エリア１８、１９と、ワークを移動する移動手段２８と、を具備し、未塗装のワークを塗装テーブル３に移動して一次塗装し、一次塗装後のワークを乾燥エリア１８で一次乾燥し、一次乾燥後のワークを塗装テーブル３に移動して二次塗装し、二次塗装後のワークを乾燥エリア１９で二次乾燥し、以後、ワークの塗装と乾燥を、必要数の塗装及び乾燥が終了するまで繰り返し、必要数の塗装及び乾燥が終了したワークをラインより取り外すことを可能にしたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は接着方法及び接着装置に係り、効率よく気泡の残留のない接着処理を行うことを課題とする。
【解決手段】第１パネル１１と第２パネル１２を接着剤３０を用いて接着する接着方法において、接着剤３０を第１及び第２のパネル１１，１２間に配設する配設工程と、上側装着台１６Ａを下側装着台１５Ａに移動させることにより第１及び第２のパネル１１，１２を加圧し、接着剤３０をこの加圧力により基板外側に向け押し広げる加圧工程と、この加圧の開始後に各装着台１５Ａ，１６Ａを回転させることにより、接着剤３０を遠心力により基板外側に向け広げる回転工程とを有する。また、加圧により接着剤３０が既定膜厚となったとき、各装着台１５Ａ，１６Ａの回転を第１の回転よりも速い第２の回転に変化させる。 （もっと読む）

少なくとも部分的に円筒形状を有する物体上に印刷するためのインクジェットプリンタが、移動ラインの上方に配置された１つ以上の印刷用ヘッドと、少なくとも部分的に円筒形状を有する物体を、その軸が移動ラインに揃うように保持し、該物体を上記印刷用ヘッドに対して相対的に配置し、該物体を上記１つ以上の印刷用ヘッドに対して相対的に回転させるように構成される移送台アッセンブリーとを備えている。このプリンタは、移動ラインにそって配置され、噴射された流体を硬化させるために適したエネルギーを放出するように構成される硬化装置をさらに備えている。
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【課題】基板の大型化に対し、基板保持機構の小型軽量化を実現可能とし、架台を含む装置全体の軽量化を実現可能とする。
【解決手段】架台１（図１）に設置されて基板を載置する基板保持機構８は、Ｕ字型部材３３ａ〜３３ｅ上に平板状の吸着プレート３４ａ〜３４ｅが載置された構成の複数の基板載置部材３２ａ〜３２ｅがＸ軸方向に等間隔で配置され、これらに直交し、かつ等間隔に配置された複数の連結部材３５ａ〜３５ｄがこれら基板載置部材３２ａ〜３２ｅの下面側に連結されており、これら基板載置部材３２ａ〜３２ｅと連結部材３５ａ〜３５ｄとで井桁状のテーブルをなしている。吸着プレート３４ａ〜３４ｅの上面が、吸着孔が設けられて、基板の載置面をなしている。かかる基板保持機構８は、複数のクロスローラ軸受３６，３６ａによってθ軸方向に回動し、直交軸受３７によってＸ，Ｙ軸方向に移動する。 （もっと読む）

【課題】基板上に効率よく塗布膜を形成し、塗布液の消費量を低減することのできる塗布膜形成装置及び塗布膜形成方法を提供する。
【解決手段】基板Ｗを保持し、前記基板を所定の回転数で回転させる基板回転手段３と、前記基板回転手段の駆動により回転する前記基板の被処理面に塗布液Ｒを吐出する第一のノズル１０と、前記基板の上方において前記第一のノズルよりも前記基板の外縁側に配置され、前記塗布液よりも表面張力の高い高表面張力液Ｇを吐出する第二のノズル２５と、前記第一のノズルと第二のノズルとを、前記基板の径方向に沿って前記基板の中心部から外縁側に向けて移動させるノズル移動手段１３とを備え、前記第一のノズルと第二のノズルとは、前記基板回転手段により回転する前記基板の上方を、前記ノズル移動手段により前記基板の中心部から外縁側に向けて移動する間、前記基板上に前記塗布液と前記高表面張力液とをそれぞれ吐出する。 （もっと読む）

対象物（２０４）を浸漬処理する設備（２００）は、公知の移送システム（２０６）で作動する。対象物（２０４）が、移動経路に隣接する硬い構造物と衝突することを回避するために、保持フレーム（２１２）に固定された対象物（２０４）の移動の各可能な自由度のために、絶対値を測定する位置トランスデューサ（２７４、２７４’、２７５、２７５’、２７６）が設けられている。メモリに、対象物（２０４）の移動経路に沿った硬い構造物の推移を再現する第１の境界面又は境界線（２７０）の推移が記憶されている。さらに、第１の境界面又は境界線（２７０）に対してある距離を置いて延びる、第２の境界面又は境界線（２７１）の推移が記憶されている。そして、保持フレーム（２１２）に固定された対象物（２０４）の推移を表す輪郭（２７３）の推移も記憶されている。制御装置（２３２）が、位置トランスデューサ（２７４、２７５、２７６）から供給される信号と、他の記憶されているデータから、保持フレーム（２１２）に固定された対象物（２０４）を表す輪郭（２７３）が、第２の境界面又は境界線（２７１）を横切ったか否かを計算し、横切った場合には、対象物（２０４）のそれ以上の移動を即座に禁止する。
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【課題】回転塗布時の基板上における物質層厚さの均一性を改善した基板塗布装置を提供する。
【解決手段】装置は、基板２を軸Ａの回りに保持し回転させる保持回転手段を含む。円板３が基板の下方に備えられる。円板は、基板に対して同軸に配置され、基板と少なくとも同じ直径を有し、基板と同期して回転できる。円板により、基板の塗布中、基板の縁部と下方における空気渦が防止される。その結果、均一な塗膜を得ることが可能となる。伝統的な把持システムによって装置への基板の出し入れをするために、出し入れの間、基板と円板の間隔が拡げられる。 （もっと読む）

【課題】基板の回転数を高くしかつ処理カップ内の排気を低排気量で行っても排気流の逆流を抑え、基板へのミストの再付着を低減できる液処理装置及び液処理方法を提供する。
【解決手段】下降気流が形成されている処理カップ３３にて回転しているウエハＷに対してレジスト液を塗布するレジスト塗布装置において、処理カップ３３のスピンチャック３１に保持されたウエハＷの外周近傍に隙間を介して当該ウエハＷを取り囲むように環状に設けられ、その内周面の縦断面形状が外側に膨らむように湾曲して下方に伸びる上側ガイド部７０と、前記ウエハＷの周縁部下方より外側下方へ傾斜した傾斜壁４１及びこの傾斜壁４１に連続し、下方へ垂直に伸びる垂直壁４２から構成された下側ガイド部４５と、を備える。 （もっと読む）

【課題】台タイヤのバフ面に対してセメントの塗布ムラや飛散を抑制して効率良くセメントを塗布するセメント塗布装置を提供する。
【解決手段】更生用トレッドが貼り付けられる台タイヤのバフ面にセメントを塗布するセメント塗布装置であって、前記セメント塗布装置が、前記台タイヤのバフ面の対面側に配置され、前記バフ面にセメントを塗布する塗布ガンを有するセンター部塗布手段と、前記センター部塗布手段をタイヤ径方向に駆動する駆動手段と、前記台タイヤの内径孔を貫通し、前記台タイヤを吊架して支持する水平ローラーにより前記台タイヤを周方向に回転させるタイヤ回転手段と、前記台タイヤのバフ面と前記水平ローラーとの間の距離を求めて前記台タイヤの断面高さを測定する測定手段とを備え、前記駆動手段が前記測定された台タイヤの断面高さに基づき前記センター部塗布手段を前記バフ面に対して所定の距離となるように駆動する。 （もっと読む）

【課題】水平回転軸まわりに被処理物を回転させて表面処理領域に対して搬入及び搬出することができる搬送装置において、水平カーブ状経路に沿ってキャリアを移動させることができる、ライン構築の自由度が高い搬送装置を提供する。
【解決手段】左ガイドレールＧＲ１に沿って移動する前後トロリ２Ａ，２Ｂが取り付けられた左移動体２、右ガイドレールＧＲ２に沿って移動する前後トロリ３Ａ，３Ｂが取り付けられた右移動体３、右移動体３により水平軸芯まわりに回転可能に一端部４Ａが支持され、左移動体２により、水平軸芯まわりに回転可能に、水平軸芯方向へスライド可能に、且つ、垂直軸まわりに回転可能に他端部４Ｂが支持された水平回転軸４、水平回転軸４に取り付けられた、被処理物Ｗを支持する支持部材５、水平回転軸４を回転させる回転駆動装置６、及び、右移動体３を駆動する走行駆動装置７，７を備えた。 （もっと読む）

【課題】必要とされる被膜性能に見合った膜厚のコーティングを一度に行うことができるようにする。
【解決手段】ディップ槽、ガラス容器を自転自在に把持して搬送する無端搬送コンベア、及び該コンベアのローラ部の外周面と接触してガラス容器を自転させる自転付与部を有するコーティング装置において、自転付与部に、回動可能なタイミングベルトと、該ベルトを回動させる駆動手段を設け、該ベルトの経路が自転付与部の上面をその長さ方向に移動する部分を有し、前記ローラ部の外周面が該ベルトと接触することでガラス容器を自転させるようにすることで、前記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】基板加熱工程において、基板へのパーティクル付着を低減するとともにインデックスを向上させる。
【解決手段】チャンバー２内に設置した熱板６に、溶媒を含む膜が塗布により形成されたウェハWを膜面を下向きにして近接配置して背面側から所定時間加熱する工程と、前記ウェハWの下方となる位置に配置した排気用ノズル７をウェハWの膜面に沿う方向に移動させながら、当該排気用ノズル７によってチャンバー２内を排気する工程と、を有する基板処理方法とする。 （もっと読む）

【課題】１軸方向に移動自在なステージを用いてガラス基板にシール剤を矩形状に能率良く塗布できるようにしたシール剤塗布装置を提供する。
【解決手段】ガラス基板Ｓを保持する１軸方向に移動自在なステージ３と、ステージ３の移動方向をＸ軸方向として、ステージ３の移動経路を跨ぐようにして配置した門型のフレーム５にＸ軸方向に直交するＹ軸方向に位置調整自在に配置したシール剤の塗布ヘッド６_１〜６_４と、ガラス基板ＳをＸ軸方向及びＹ軸方向に直交するＺ軸方向の軸線回りに回転させる回転機構１１とを備える。そして、回転機構１１でガラス基板Ｓを９０°回転することにより、ステージ３をＸ軸方向に移動させたときのガラス基板Ｓに対する塗布ヘッド６_１〜６_４の走査方向を９０°切り替える。 （もっと読む）

【課題】薄膜担持体上に薄膜材料を含む塗布液を塗布し、これを基板表面に転写させた後に薄膜担持体を剥離することによって基板上に薄膜を形成する薄膜形成システムおよび薄膜形成方法において、溶媒への引火を防止しながら効率よく薄膜形成を行う。
【解決手段】雰囲気管理された搬送空間ＴＰ２内をＸ方向に往復移動する主搬送ロボット７０の搬送経路の両側に複数の処理ユニットを並べて配置した薄膜形成システムである。溶媒蒸気が発生しうる塗布ユニット３４と、静電気が発生しうる剥離ユニット１０とが搬送空間ＴＰ２を挟んで互いに反対側となるようなレイアウトとする。これにより溶媒への引火が防止されるので、薄膜形成処理を効率よく行うことができる。 （もっと読む）

【課題】粘度が高く、チクソトロピ性を有する塗工液を、芯体の回転数を上げて塗工した場合においても塗布液への空気の巻き込みを抑制できる塗工装置等の提供。
【解決手段】芯体１０を、軸線が水平になるように支持するとともに、軸線の回りに回転させる保持部材１２と、保持部材１２によって支持された芯体１０の軸線に沿って前記芯体の一端から他端に向かって移動しつつ、芯体１０の外表面に塗工液を流下させるディスペンサ２０と、先端部が芯体１０の外表面に所定の押圧力で押圧された状態でディスペンサ２０と共に芯体１０の一端から他端に向かって移動しつつ、ディスペンサ２０から芯体１０の外表面に流下した塗工液を所定の厚みに均すブレード２２と、を備え、ブレード２２の先端部における芯体１０に接する側の面が、前記芯体の外表面の湾曲方向とは反対の方向に湾曲または屈曲するように形成されている塗工装置。 （もっと読む）