セメント塗布装置
【課題】台タイヤのバフ面に対してセメントの塗布ムラや飛散を抑制して効率良くセメントを塗布するセメント塗布装置を提供する。
【解決手段】更生用トレッドが貼り付けられる台タイヤのバフ面にセメントを塗布するセメント塗布装置であって、前記セメント塗布装置が、前記台タイヤのバフ面の対面側に配置され、前記バフ面にセメントを塗布する塗布ガンを有するセンター部塗布手段と、前記センター部塗布手段をタイヤ径方向に駆動する駆動手段と、前記台タイヤの内径孔を貫通し、前記台タイヤを吊架して支持する水平ローラーにより前記台タイヤを周方向に回転させるタイヤ回転手段と、前記台タイヤのバフ面と前記水平ローラーとの間の距離を求めて前記台タイヤの断面高さを測定する測定手段とを備え、前記駆動手段が前記測定された台タイヤの断面高さに基づき前記センター部塗布手段を前記バフ面に対して所定の距離となるように駆動する。
【解決手段】更生用トレッドが貼り付けられる台タイヤのバフ面にセメントを塗布するセメント塗布装置であって、前記セメント塗布装置が、前記台タイヤのバフ面の対面側に配置され、前記バフ面にセメントを塗布する塗布ガンを有するセンター部塗布手段と、前記センター部塗布手段をタイヤ径方向に駆動する駆動手段と、前記台タイヤの内径孔を貫通し、前記台タイヤを吊架して支持する水平ローラーにより前記台タイヤを周方向に回転させるタイヤ回転手段と、前記台タイヤのバフ面と前記水平ローラーとの間の距離を求めて前記台タイヤの断面高さを測定する測定手段とを備え、前記駆動手段が前記測定された台タイヤの断面高さに基づき前記センター部塗布手段を前記バフ面に対して所定の距離となるように駆動する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、更生用トレッドを貼り付ける台タイヤのバフ面に対してセメントを塗布するセメント塗布装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、更生タイヤは、使用済みタイヤのトレッド部分をバフがけして台タイヤを形成して、台タイヤのバフ面に接着用のセメントを塗布して更生用トレッドを貼り付けることにより製造される。
例えば台タイヤは、新品タイヤのクラウン形状（トレッド踏面の形状）を仮想的に模倣して使用済みタイヤをその形状にバフがけされる。新品タイヤのクラウン形状は所定の曲率を有するため、台タイヤのバフ面は、タイヤのショルダー部がクラウン部よりもタイヤ径方向に低くなるように円弧状にバフがけされる。
バフがけされた台タイヤは、セメント塗布装置の回転機構に配置され、バフ面に対して複数の塗布ガン又は一つの塗布ガンをタイヤの幅方向に移動させてセメントが塗布される。
例えば、台タイヤにセメントを塗布して更生タイヤを製造する技術が特許文献１に公開されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平５−１３８７６４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１の方法では、塗布ガンを移動させてセメントを塗布しているため、セメントの塗布むらや塗布ガンの移動による飛散が生じてしまう。塗布むらは、更生用トレッドの貼り付け不良の原因となり、飛散は、作業環境を悪化させる原因となり、いずれにおいてもセメントの無駄な消費がなされてしまう。
【０００５】
本発明は、上記課題を解決するため、台タイヤのバフ面に対してセメントの塗布むらや飛散を抑制して効率良くセメントを塗布して生産性を向上させるセメント塗布装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の第１の構成として、更生用トレッドが貼り付けられる台タイヤのバフ面にセメントを塗布するセメント塗布装置であって、セメント塗布装置が、台タイヤのバフ面の対面側に配置され、バフ面にセメントを塗布する塗布ガンを有するセンター部塗布手段と、センター部塗布手段をタイヤ径方向に駆動する駆動手段と、台タイヤの内径孔を貫通し、台タイヤを吊架して支持する水平ローラーにより台タイヤを周方向に回転させるタイヤ回転手段と、台タイヤのバフ面と水平ローラーとの間の距離を求めて台タイヤの断面高さを測定する測定手段とを備え、駆動手段が測定された台タイヤの断面高さに基づきセンター部塗布手段をバフ面に対して所定の距離となるように駆動する構成とした。
本構成によれば、セメント塗布装置が、台タイヤのバフ面の対面側に配置され、バフ面にセメントを塗布する塗布ガンを有するセンター部塗布手段と、センター部塗布手段をタイヤ径方向に駆動する駆動手段と、台タイヤの内径孔を貫通し、台タイヤを吊架して支持する水平ローラーにより台タイヤを周方向に回転させるタイヤ回転手段と、台タイヤのバフ面と水平ローラーとの間の距離を求めて台タイヤの断面高さを測定する測定手段とを備え、駆動手段が測定された台タイヤの断面高さに基づきセンター部塗布手段をバフ面に対して所定の距離となるように駆動することにより、回転する台タイヤのバフ面に対してセンター部塗布手段を所定の距離となるように移動させてセメントをむらなく塗布することができる。
【０００７】
本発明の第２の構成として、塗布ガンが台タイヤの幅方向に複数配置され、測定手段が台タイヤの幅寸法を測定し、台タイヤの幅寸法に基づいて、複数の塗布ガンを選択的に駆動する切り替え手段を備える構成とした。
本構成によれば、塗布ガンが台タイヤの幅方向に複数配置され、測定手段が台タイヤの幅寸法を測定し、台タイヤの幅寸法に基づいて、複数の塗布ガンを選択的に駆動する切り替え手段を備えることにより、上記第１の構成の効果に加え、台タイヤの幅寸法に必要な塗布ガンを複数の塗布ガンの中から選択的に駆動させることで、バフ面に対して効率良くセメントを塗布することができる。
【０００８】
本発明の第３の構成として、セメント塗布装置が台タイヤのバフ面の左右ショルダー部にセメントを吹き付け塗布するサイド部塗布手段と、サイド部塗布手段をタイヤ幅方向に駆動する駆動手段とをさらに備え、駆動手段が台タイヤの幅寸法に基づきサイド部塗布手段を左右ショルダー部に対して所定の距離となるように駆動する構成とした。
本構成によれば、セメント塗布装置が台タイヤのバフ面の左右ショルダー部にセメントを吹き付け塗布するサイド部塗布手段と、サイド部塗布手段をタイヤ幅方向に駆動する駆動手段とをさらに備え、駆動手段が台タイヤの幅寸法に基づきサイド部塗布手段を左右ショルダー部に対して所定の距離となるように駆動することにより、セメントを台タイヤのバフ面の左右ショルダー部に最も効率よく塗布されるようにサイド部塗布手段を移動させてセメントを塗布することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の実施形態に係る更生タイヤの製造装置の概略斜視図。
【図２】本発明の実施形態に係る塗布機構の拡大図。
【図３】本発明の実施形態に係る拡縮機構の概略斜視図。
【図４】本発明の実施形態に係る測定手段としての測定器による測定概念図。
【図５】本発明の実施形態に係る測定器による台タイヤの測定概念図。
【図６】本発明の実施形態に係る制御装置のブロック図。
【００１０】
以下、発明の実施形態を通じて本発明を詳説するが、以下の実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではなく、また実施形態の中で説明される特徴の組み合わせのすべてが発明の解決手段に必須であるとは限らず、選択的に採用される構成を含むものである。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明について説明する。
本発明は、台タイヤＴのバフ面に更生用トレッドを貼り付けるためのセメントを塗布するセメント塗布装置１０であって、バフ面のセンター部Ｔ１にセメントを塗布するセンター部塗布手段としての複数の塗布ガン１１Ａ〜１１Ｈと、バフ面のサイド部にセメントを塗布するサイド部塗布手段としての複数の塗布ガン１５Ａ，１５Ｂを設けて、測定手段としての複数の距離センサー４１によりバフ面のセンター部Ｔ１までの距離Ｌ４及び台タイヤＴの幅Ｌ５を測定し、その測定結果に基づき、バフ面のセンター部Ｔ１にセメントを塗布するセンター部塗布手段から選択的に使用する塗布ガンを選び、さらに、センター部塗布手段とサイド部塗布手段をバフ面に対して所定の距離に位置するように移動させて、センター部塗布手段から選択された塗布ガンとサイド部塗布手段の塗布ガンの吐出口から台タイヤＴのバフ面にセメントを吹き付けて塗布するものである。
【００１２】
図１は、台タイヤＴにセメントを塗布する更生タイヤの製造装置１の概略斜視図である。
以下、台タイヤにセメントを塗布する更生タイヤの製造装置１について詳述する。図１に示すように、更生タイヤの製造装置１は、概略、タイヤ回転機構５０、昇降機構３０、塗布機構１０、拡縮機構２０、測定器４０及び制御装置１００を備える。
【００１３】
タイヤ回転機構５０は、概略、基台部５２とローラー支持壁５３と回転モーター５４と回転ローラ５１，５１からなる。
基台部５２は、工場などの床面に固定され、上面側には、ローラー支持壁５３と回転モーター５４が設けられる。
【００１４】
ローラー支持壁５３は、中空四角形状の横断面を有し、床面に対してほぼ垂直となるように基台部５２の上面に立設される。ローラー支持壁５３の中空内部には図外の回転機構が組み込まれる。ローラー支持壁５３の下側には、回転入力部が設けられ、上側には回転出力部が設けられる。回転機構としては例えば、回転入力部と回転出力部にプーリーなどを取り付けてベルトを介して回転を伝達すれば良い。
【００１５】
回転モーター５４は、ローラー支持壁５３の回転入力部と結合し基台部５２に固定される。なお、回転モーター５４は、後述の制御装置１００が出力する信号に基づき回転の開始及び終了がなされる。
【００１６】
回転ローラー５１，５１は、ローラー支持壁５３から水平方向に延長するように２本、かつ、互いが平行となるように回転出力部に取り付けられる。
上記構成により、台タイヤＴは、回転ローラー５１，５１が内径孔Ｔ４を貫通して、回転ローラーの外周面５１ａ，５１ａと台タイヤＴのビード部Ｔ３が当接するように設置され、回転モーター５４が回転することで、回転ローラー５１，５１を介し周方向に回転する。
なお、タイヤ回転機構５０の構成は上記構成に限らず、所定の位置で台タイヤＴを回転させるものであれば良い。
【００１７】
次に、昇降機構３０は、タイヤ回転機構５０の近傍に上下方向に立設される昇降支柱３１と前記昇降支柱上を上下に移動する昇降部３２で構成される。
昇降支柱３１は、立設方向に一部切り欠き部が形成され、支柱上部３１ａには昇降モーター３３、支柱内部には図外のボールネジとボールナットからなるボールネジ機構を備える。
支柱内部に設けられるボールネジ機構は、ボールネジが支柱の立設方向に設けられ、一端が支柱下部３１ｂで回転可能に支持され、他端が支柱上部３１ａの昇降モーター３３と結合する。
ボールナットは、ボールネジに取り付けられ、ボールネジを回転させることによりボールナットが立設方向に移動する。このボールナットは、昇降支柱３１の切り欠き部を介して昇降部３２と結合する。
昇降部３２は、外周面の一部に平面状の支持面３２ａが形成され、後述の塗布ガン支持部材２１と測定器４０が取り付けられる。
すなわち、昇降機構３０は、昇降モーター３３を回転させることにより昇降部３２が、昇降支柱３１に沿って上下方向に移動する。
なお、昇降部３２を昇降させる機構にボールネジ機構を用いたが、油圧装置など他の直動機構を用いても良い。
【００１８】
図２は、塗布機構１０の拡大図を示し、図３は、拡縮機構２０の概略斜視図を示す。
図２，図３に示すように塗布ガン支持部材２１は、チャンネル材のような直線状の中空のほぼ四角形状の断面かつ延長方向に一部開口する切り欠き面２１ａを備えた剛性を有する部材からなる。塗布ガン支持部材２１は、延長方向が水平かつ、切り欠き面２１ａが下方を向くように昇降部３２の支持面３２ａに一端が固定される。
【００１９】
塗布ガン支持部材２１の中空内部には、拡縮機構２０が内蔵される。
図３に示す拡縮機構２０は、２組の駆動モーター２３Ａ，２３Ｂとスクリューシャフト２５Ａ，２５Ｂと、枢支部材２４Ａ，２４Ｂによって構成される。
駆動モーター２３Ａ，２３Ｂは、塗布ガン支持部材２１の両端に配置され、互いの出力軸が塗布ガン支持部材２１の中央方向に向くように取り付けられる。
また、枢支部材２４Ａ，２４Ｂは、塗布ガン支持部材２１の中央付近にそれぞれ固定される。
駆動モーター２３Ａ，２３Ｂと枢支部材２４Ａ，２４Ｂの間には、それぞれスクリューシャフト２５Ａ，２５Ｂが配設される。
具体的には、スクリューシャフト２５Ａの一端が駆動モーター２３Ａと結合し、他端が枢支部材２４Ａによって枢支される。同様にスクリューシャフト２５Ｂの一端が、駆動モーター２３Ｂと結合し、他端が枢支部材２４Ｂによって枢支される。
【００２０】
また、スクリューシャフト２５Ａ，２５Ｂには、サイドピラー２２Ａ，２２Ｂが取り付けられる。サイドピラー２２Ａ，２２Ｂは、上下方向に延長するように取り付けられ、一端が切り欠き２１ｃを介して塗布ガン支持部材２１内部にそれぞれ突出する。突出した端部は、それぞれネジ孔を備え、このネジ孔にスクリューシャフト２５Ａ，２５Ｂが貫通しつつ螺入される。
【００２１】
サイドピラー２２Ａ，２２Ｂの他端側には、サイド塗布手段の塗布ガン１５Ａ，１５Ｂが取り付けられる。
塗布ガン１５Ａ，１５Ｂは、吐出方向が互いに対向し、台タイヤＴのサイド部分、具体的には台タイヤの左右ショルダー部Ｔ２にそれぞれ吐出口を向けてセメントを塗布するように取り付けられる。
なお、塗布ガン１５Ａ，１５Ｂは、サイドピラー２２Ａ，２２Ｂに沿って移動できるようにしても良い。
【００２２】
上記構成により、例えば、駆動モーター２３Ａが回転するとスクリューシャフト２５Ａが回転し、サイドピラー２２Ａを切り欠き２１ｃに沿って進退させることができる。同様に、駆動モーター２３Ｂが回転するとスクリューシャフト２５Ｂを回転し、サイドピラー２２Ｂを切り欠き２１ｃに沿って進退させることができる。
駆動モーター２３Ａ，２３Ｂを個別に制御すれば、塗布ガン１５Ａ，１５Ｂを個別に移動させることができる。なお、駆動モーター２３Ａ，２３Ｂは後述の制御装置１００に接続される。
【００２３】
また、塗布ガン支持部材２１の切り欠き面２１ａと隣接する塗布ガン取り付け面２１ｂには、センター部塗布手段の複数の塗布ガン１１Ａ〜１１Ｈが取り付けられる。
塗布ガン１１Ａ〜１１Ｈは、塗布ガン支持部材２１の延在方向に沿って、所定の間隔に均等間隔Ｄで一列に配置され、塗布ガン１１Ａ〜１１Ｈのそれぞれの吐出口が下方、すなわち台タイヤＴのセンター部に対してほぼ直角方向となるように取り付けられる。
本構成により、複数の塗布ガン１１Ａ〜１１Ｈが一列に配置されるため様々なサイズの台タイヤＴに対して適用でき、また台タイヤＴが回転ローラー５１に対して常に一定の位置に載せられなくても対応することができる。
【００２４】
上記すべての塗布ガン１１Ａ〜１１Ｈ及び塗布ガン１５Ａ，１５Ｂには、それぞれ、バルブ１２Ａ〜１２Ｈ、バルブ１６Ａ，１６Ｂが取り付けられる。
バルブ１２Ａ〜１２Ｈ，１６Ａ，１６Ｂは、塗布ガン１１Ａ〜１１Ｈ及び塗布ガン１５Ａ，１５Ｂからのセメントの吹き付け塗布を選択的にオン・オフすることを可能にする切替え手段である。バルブには、例えばソレノイドなどの電磁バルブが用いられ、後述の制御装置１００によって個別に制御される。
【００２５】
塗布ガン１１Ａ〜１１Ｈ及び塗布ガン１５Ａ，１５Ｂは、上記バルブ１２Ａ〜１２Ｈ，１６Ａ，１６Ｂを介してセメントを流通させるための配管が接続される。
配管は、コモンチューブ１３ａとフレキシブルチューブ１４Ａ，１４Ｂからなる。
コモンチューブ１３ａは、延長方向両端を開口させ、延長方向周面に複数のデリバリーパイプ１３ｂを備え、さらに周面の一部に流入口１３ｃが形成される。
複数のデリバリーパイプ１３ｂは、それぞれバルブ１２Ａ〜１２Ｈと接続される。
コモンチューブ１３ａの開口する両端には、撓みを有するフレキシブルチューブ１４Ａ，１４Ｂが接続される。フレキシブルチューブ１４Ａ，１４Ｂは、バルブ１６Ａ，１６Ｂと接続される。
つまり、セメントの供給源から加圧されて供されるセメントが、コモンチューブ１３ａの流入口１３ｃから流入することにより、複数のデリバリーパイプ１３ｂ及びフレキシブルチューブ１４Ａ，１４Ｂから各バルブ１２Ａ〜１２Ｈ，１６Ａ，１６Ｂに分配されて、各塗布ガン１１Ａ〜１１Ｈ，１５Ａ，１５Ｂにそれぞれ供給される。
【００２６】
図４は、測定手段としての測定器４０による測定概念を示す。図５は、測定器４０による台タイヤＴの測定概念図を示す。
測定器４０は、延在方向が塗布ガン支持部材２１及び回転ローラー５１の回転軸と平行、かつ、測定方向が一方の回転ローラー５１の外周面５１ａと台タイヤのビード部Ｔ３との当接部分を向くように、支持面３２ａに一端が固定される。
【００２７】
図５に示すように測定器４０は、例えば、複数の距離センサー４１ａ〜４１ｊの１０個からなり、互いの測定方向が平行かつ、互いの測定方向の中心距離が距離Ｄの等間隔に離間するように延長方向に棒状に配列される。
【００２８】
すなわち、塗布機構１０の塗布ガン１１Ａ〜１１Ｈが配置された間隔と、距離センサー４１ａ〜４１ｊの配置された間隔は等しく、特に塗布ガン１１Ａ〜１１Ｈと距離センサ４１ａ〜４１ｈが、塗布ガン１１Ａと距離センサー４１ａのようにそれぞれ１対１で対応する。
つまり、測定器４０の距離センサーと塗布機構１０の塗布ガンとの関係は、図２に示す塗布ガン１１Ａの塗布中心ＰＣと図５に示す距離センサー４１ａの測定中心ＳＣとが一致して、センター部塗布手段の塗布ガン一つに対して距離センサーが一つ対応する。
【００２９】
例えば、距離センサー４１ａ〜４１ｊには、２次元のレーザー距離センサーが用いられ、それぞれの２次元レーザー距離センサーが照射する帯状の照射光が、直線的に測定器４０の延在方向に一列となるように距離センサー４１ａ〜４１ｊが配置される。
さらに、測定器４０の測定範囲は、少なくとも塗布ガン１１Ａから塗布ガン１１Ｈが塗布する幅方向の全範囲以上に設定される。
【００３０】
なお、距離センサーは、より好ましくは、測定範囲全体を同時に測定できる測定範囲全幅タイプのセンサーを用いると良いが、いずれの方法であっても良く、少なくともセンター部塗布手段の塗布ガンの数量に対応する数量の距離センサーを用意し、一列に配置すれば良い。
【００３１】
以上構成により、測定器４０が、回転ローラー５１に設けられた台タイヤＴを測定することで、回転ローラー５１の外周面５１ａまでの距離Ｌ１と台タイヤＴのバフ面のセンター部Ｔ１までの距離Ｌ４に基づいて台タイヤＴの高さ寸法Ｌ６と幅方向寸法Ｌ５が測定される。
高さ寸法Ｌ６は、外周面５１ａまでの距離Ｌ１からセンター部Ｔ１までの距離Ｌ４に基づき、例えば距離Ｌ１から距離Ｌ４を減じることで得られる。
幅方向寸法Ｌ５は、外周面５１ａまでの距離Ｌ１を測定した距離センサーと隣接し、センター部Ｔ１までの距離Ｌ４を測定した距離センサーとの関係から幅方向寸法Ｌ５を得ることができる。
【００３２】
なお、測定寸法や各部の距離の処理方法は上記に限らず、測定距離に基づいて画像処理をすれば、回転ローラー５１を含む台タイヤＴの形状及び台タイヤの各部位の距離及び寸法を詳細に得ることもできる。
また、本実施形態では、センター部塗布手段のみに対応するように測定器４０を配置したが、サイド部塗布手段に対しても個別に距離センサーを設けて、サイド部塗布手段が個別に移動するようにしても良い。
また、測定器４０を昇降装置３０に設けたが、タイヤ回転装置５０に設けても良い。
【００３３】
図６は、制御装置１００のブロック図を示す。
以下、図６のブロック図を用いてセメントの塗布工程について説明する。なお、適宜、図２，図３，図５を合わせて用いる。
制御装置１００は、入力部１０１、処理部１０２、記憶部１０３及び出力部１０４を有する。制御装置１００には、例えばコンピューターなどを用いれば良い。
【００３４】
入力部１０１は、測定器４０と接続し、測定器４０によって測定された測定器４０からセンター部Ｔ１までの距離Ｌ４と回転ローラー５１の外周面５１ａまでの距離Ｌ１が測定信号として入力される。
記憶部１０３は、測定器４０によって測定された測定器４０からセンター部Ｔ１までの距離Ｌ４と測定器４０から回転ローラー５１の外周面５１ａまでの距離Ｌ１を記憶する。
また、センター部塗布手段の塗布ガン１１Ａ〜１１Ｈがセンター部Ｔ１に対してセメントを塗布するのに最適な距離Ｌ２と、サイド部の塗布ガン１５Ａ，１５Ｂが左右ショルダー部Ｔ２，Ｔ２にセメントを塗布するのに最適な距離Ｌ３を記憶する。
出力部１０４は、駆動モーター２３Ａ，２３Ｂ、昇降モーター３３、バルブ１２Ａ〜１２Ｈ，１６Ａ，１６Ｂ、回転モーター５４と接続し、処理部１０２によって処理された信号を出力する。
なお、処理部１０２については、以下の塗布工程の説明とともに説明する。
【００３５】
セメントの塗布工程は、まず、バフがけが終了した台タイヤＴを回転ローラー５１の外周面５１ａに左右のリム部Ｔ３，Ｔ３を掛けるように載せられる。
次に、回転ローラー５１に載せられた台タイヤＴに対して、測定器４０が、回転ローラー５１までの距離Ｌ１及びセンター部Ｔ１までの距離Ｌ４を測定する。測定された距離Ｌ１及びＬ４は、入力部１０１に測定信号として出力される。
【００３６】
次に、処理部１０２は、入力部１０１を介して入力された測定信号に基づいてセンター部Ｔ１までの距離Ｌ４と、台タイヤＴの高さ寸法Ｌ６及び幅方向寸法Ｌ５を求める。
まず、幅方向寸法Ｌ５に基づきセンター部Ｔ１を塗布するために使用する塗布ガンをセンター部塗布手段から選択し、さらにサイド部塗布手段の塗布ガン１５Ａと塗布ガン１５Ｂが左右ショルダー部Ｔ２にセメントを吹き付け塗布するのに最適な位置について処理をする。
また、高さ寸法Ｌ６とセンター部Ｔ１までの距離に基づき、センター部塗布手段を昇降させて、塗布ガン１１Ａ〜１１Ｈがセンター部Ｔ１に対してセメントを吹き付け塗布するのに最適な位置について処理をする。
【００３７】
例えば図５に示す場合には距離センサー４１ｃ，４１ｄ，４１ｅ，４１ｆがセンター部Ｔ１までの距離Ｌ４を測定し、この測定信号に基づいて記憶部１０３の記憶するセンター部Ｔ１までの距離Ｌ４と塗布ガン１１Ａ〜１１Ｈがセメントを塗布するのに最適な距離Ｌ２との関係に基づき、処理部１０２は、昇降モーター３３に移動信号を出力し、塗布ガン１１Ｃ，１１Ｄ，１１Ｅ，１１Ｆの使用を決定する。
ここで、センター部塗布手段の塗布ガン１１Ａ〜１１Ｈがセメントを塗布するのに最適な距離Ｌ２とは、図２に示すように各塗布ガン、例えば塗布ガン１１Ｄのタイヤ幅方向の塗布範囲Ｇ１からＧ２と隣接する塗布ガン１１Ｅのタイヤ幅方向の塗布範囲Ｇ１からＧ２が交差する交差位置ＧＰがちょうど台タイヤＴのセンター部Ｔ１の表面となる位置である。
【００３８】
また、センター部Ｔ１を検出した距離センサー４１ｃ及び４１ｆと、隣接する距離センサー４１ｂ及び４１ｇが、回転ローラー５１までの距離Ｌ１を測定したことにより、タイヤ幅Ｌ５が決定される。
これにより、処理部１０２は、塗布ガン１５Ａ，１５Ｂのそれぞれを塗布するのに最適な位置を算出し、駆動モーター２３Ａ，２３Ｂに駆動信号をそれぞれ出力し、サイドピラー２２Ａ，２２Ｂを個別に移動させて、塗布ガン１５Ａ，１５Ｂを左右ショルダー部Ｔ２から所定の距離Ｌ３の位置まで移動させる。
すなわち、測定器４０によって測定された台タイヤＴのセンター部Ｔ１までの距離Ｌ４と回転ローラー５１の外周面５１ａまでの距離Ｌ１に基づいて、センター部Ｔ１にセメントを塗布するセンター部塗布手段（塗布ガン１１Ａ〜１１Ｈ）と、左右ショルダー部Ｔ２，Ｔ２にセメントを塗布するサイド部塗布手段（塗布ガン１５Ａ，１５Ｂ）とが所定の距離Ｌ２と、距離Ｌ３となるように移動する。
【００３９】
次に塗布機構１０のセンター部塗布手段の塗布ガン１１Ａ〜１１Ｈとサイド部塗布手段の塗布ガン１５Ａ，１５Ｂが所定の位置に配置されたのち、上記処理部１０２において決定された塗布ガン１１Ｃ〜１１Ｆ，１５Ａ，１５Ｂに取り付けられたバルブ１２Ａ〜１２Ｈ，１６Ａ，１６Ｂにバルブの開放信号と、回転モーター５４の回転開始信号を出力部１０４を介して出力する。
上記開放信号と回転開始信号により周方向に回転する台タイヤＴのバフ面に対して塗布ガン１１Ｃ〜１１Ｆ，１５Ａ，１５Ｂからのみセメントが吹き付け塗布される。所定回数回転することにより、バフ面全体にセメントが吹き付け塗布される。
【００４０】
次に、台タイヤＴが所定の回数を回転したのち回転モーター５４に回転停止信号を出力して一連の塗布工程が終了される。セメントの塗布が終了すると、処理部１０２は、駆動モーター２３Ａ，２３Ｂと昇降モーター３３に駆動信号を出力し塗布機構１０のサイドピラー２２Ａ，２２Ｂ，塗布ガン支持部材２１を所定の位置に待機させる。
【００４１】
以上説明したセメント塗布装置によれば、選択された塗布ガンからのみセメントを塗布し、またセメントを塗布する塗布ガンの距離が、それぞれの塗布ガンの塗布範囲に重ならないように設定されるため、効率良く台タイヤＴのバフ面のセンター部Ｔ１及び左右ショルダー部Ｔ２に対してセメントを塗布することができる。
【００４２】
以下、本発明の効果を調べるために飛散量及び塗布量のバラツキ（塗布むら）の塗布試験を行った。
試験方法
塗布試験は、塗布ガンから噴霧したセメント量と、実際にタイヤに付着したセメント量を従来の塗布方法と本発明による方法とを比較した。具体的には、所定の大きさに裁断された複数のマスク紙をバフ面に貼り付けて覆い、セメント塗布後にバフ面を覆ったマスク紙を剥がして重量を測定することにより行われる。
飛散量についての試験は、セメント塗布後のマスク紙すべての重さを加算し、その重さからセメント塗布前のマスク紙の重さを減じ、塗布ガンから噴霧された量で除することにより飛散量を求めた。
また、塗布量のバラツキ（塗布むら）についての試験は、従来の方法により塗布された台タイヤと本発明により塗布された台タイヤの同一個所に貼り付けられたマスク紙の単位面積あたりの重さを算出してバラツキの評価を行った。
【００４３】
試験結果
飛散量は、従来の塗布方法に対して５０％の減少が得られた。
塗布量のバラツキは、従来の塗布方法に対して３０％の減少が得られた。
上記試験結果を考察すると、飛散量が５０％減少したことにより、セメントの塗布工程における作業環境を十分に向上させることが分かる。さらに、飛散量を低減させたことにより、無駄なセメントが使用されないため生産性が向上することも分かった。
また、塗布量のバラツキが、従来の塗布方法に対して３０％減少したことにより、良質なセメントの塗布が行われ、セメントの塗布による不良の発生を抑制でき生産性を向上させることが分かった。
以上まとめると、本発明のセメントの塗布装置は、更生タイヤを製造するときのセメントの塗布工程における作業環境の向上と生産性の向上に十分な効果が得られる。
【００４４】
なお、本実施形態では、セメントの塗布装置としたが、タイヤの製造工程においては、例えば、最終工程でのタイヤワックスの塗布などに用いることもできる。
【符号の説明】
【００４５】
１ セメント塗布装置、１０ 塗布機構、１１ 塗布ガン、１２Ａ〜Ｈ バルブ、
１５ 塗布ガン、１６Ａ，Ｂ バルブ、２０ 拡縮機構、２３ 駆動モーター、
３０ 昇降機構、３２ 昇降部、３２ａ 支持面、３３ 昇降モーター、４０ 測定器、
４１ 距離センサー、５０ タイヤ回転機構、５１ 回転ローラー、
５４ 回転モーター、１００ 制御装置、Ｔ タイヤ、Ｔ１ センター部、
Ｔ２ 左右ショルダー部、Ｔ３ ビード部、Ｔ４ 内径孔、Ｌ５ 幅方向寸法、
Ｌ６ 高さ寸法。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、更生用トレッドを貼り付ける台タイヤのバフ面に対してセメントを塗布するセメント塗布装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、更生タイヤは、使用済みタイヤのトレッド部分をバフがけして台タイヤを形成して、台タイヤのバフ面に接着用のセメントを塗布して更生用トレッドを貼り付けることにより製造される。
例えば台タイヤは、新品タイヤのクラウン形状（トレッド踏面の形状）を仮想的に模倣して使用済みタイヤをその形状にバフがけされる。新品タイヤのクラウン形状は所定の曲率を有するため、台タイヤのバフ面は、タイヤのショルダー部がクラウン部よりもタイヤ径方向に低くなるように円弧状にバフがけされる。
バフがけされた台タイヤは、セメント塗布装置の回転機構に配置され、バフ面に対して複数の塗布ガン又は一つの塗布ガンをタイヤの幅方向に移動させてセメントが塗布される。
例えば、台タイヤにセメントを塗布して更生タイヤを製造する技術が特許文献１に公開されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平５−１３８７６４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１の方法では、塗布ガンを移動させてセメントを塗布しているため、セメントの塗布むらや塗布ガンの移動による飛散が生じてしまう。塗布むらは、更生用トレッドの貼り付け不良の原因となり、飛散は、作業環境を悪化させる原因となり、いずれにおいてもセメントの無駄な消費がなされてしまう。
【０００５】
本発明は、上記課題を解決するため、台タイヤのバフ面に対してセメントの塗布むらや飛散を抑制して効率良くセメントを塗布して生産性を向上させるセメント塗布装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の第１の構成として、更生用トレッドが貼り付けられる台タイヤのバフ面にセメントを塗布するセメント塗布装置であって、セメント塗布装置が、台タイヤのバフ面の対面側に配置され、バフ面にセメントを塗布する塗布ガンを有するセンター部塗布手段と、センター部塗布手段をタイヤ径方向に駆動する駆動手段と、台タイヤの内径孔を貫通し、台タイヤを吊架して支持する水平ローラーにより台タイヤを周方向に回転させるタイヤ回転手段と、台タイヤのバフ面と水平ローラーとの間の距離を求めて台タイヤの断面高さを測定する測定手段とを備え、駆動手段が測定された台タイヤの断面高さに基づきセンター部塗布手段をバフ面に対して所定の距離となるように駆動する構成とした。
本構成によれば、セメント塗布装置が、台タイヤのバフ面の対面側に配置され、バフ面にセメントを塗布する塗布ガンを有するセンター部塗布手段と、センター部塗布手段をタイヤ径方向に駆動する駆動手段と、台タイヤの内径孔を貫通し、台タイヤを吊架して支持する水平ローラーにより台タイヤを周方向に回転させるタイヤ回転手段と、台タイヤのバフ面と水平ローラーとの間の距離を求めて台タイヤの断面高さを測定する測定手段とを備え、駆動手段が測定された台タイヤの断面高さに基づきセンター部塗布手段をバフ面に対して所定の距離となるように駆動することにより、回転する台タイヤのバフ面に対してセンター部塗布手段を所定の距離となるように移動させてセメントをむらなく塗布することができる。
【０００７】
本発明の第２の構成として、塗布ガンが台タイヤの幅方向に複数配置され、測定手段が台タイヤの幅寸法を測定し、台タイヤの幅寸法に基づいて、複数の塗布ガンを選択的に駆動する切り替え手段を備える構成とした。
本構成によれば、塗布ガンが台タイヤの幅方向に複数配置され、測定手段が台タイヤの幅寸法を測定し、台タイヤの幅寸法に基づいて、複数の塗布ガンを選択的に駆動する切り替え手段を備えることにより、上記第１の構成の効果に加え、台タイヤの幅寸法に必要な塗布ガンを複数の塗布ガンの中から選択的に駆動させることで、バフ面に対して効率良くセメントを塗布することができる。
【０００８】
本発明の第３の構成として、セメント塗布装置が台タイヤのバフ面の左右ショルダー部にセメントを吹き付け塗布するサイド部塗布手段と、サイド部塗布手段をタイヤ幅方向に駆動する駆動手段とをさらに備え、駆動手段が台タイヤの幅寸法に基づきサイド部塗布手段を左右ショルダー部に対して所定の距離となるように駆動する構成とした。
本構成によれば、セメント塗布装置が台タイヤのバフ面の左右ショルダー部にセメントを吹き付け塗布するサイド部塗布手段と、サイド部塗布手段をタイヤ幅方向に駆動する駆動手段とをさらに備え、駆動手段が台タイヤの幅寸法に基づきサイド部塗布手段を左右ショルダー部に対して所定の距離となるように駆動することにより、セメントを台タイヤのバフ面の左右ショルダー部に最も効率よく塗布されるようにサイド部塗布手段を移動させてセメントを塗布することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の実施形態に係る更生タイヤの製造装置の概略斜視図。
【図２】本発明の実施形態に係る塗布機構の拡大図。
【図３】本発明の実施形態に係る拡縮機構の概略斜視図。
【図４】本発明の実施形態に係る測定手段としての測定器による測定概念図。
【図５】本発明の実施形態に係る測定器による台タイヤの測定概念図。
【図６】本発明の実施形態に係る制御装置のブロック図。
【００１０】
以下、発明の実施形態を通じて本発明を詳説するが、以下の実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではなく、また実施形態の中で説明される特徴の組み合わせのすべてが発明の解決手段に必須であるとは限らず、選択的に採用される構成を含むものである。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明について説明する。
本発明は、台タイヤＴのバフ面に更生用トレッドを貼り付けるためのセメントを塗布するセメント塗布装置１０であって、バフ面のセンター部Ｔ１にセメントを塗布するセンター部塗布手段としての複数の塗布ガン１１Ａ〜１１Ｈと、バフ面のサイド部にセメントを塗布するサイド部塗布手段としての複数の塗布ガン１５Ａ，１５Ｂを設けて、測定手段としての複数の距離センサー４１によりバフ面のセンター部Ｔ１までの距離Ｌ４及び台タイヤＴの幅Ｌ５を測定し、その測定結果に基づき、バフ面のセンター部Ｔ１にセメントを塗布するセンター部塗布手段から選択的に使用する塗布ガンを選び、さらに、センター部塗布手段とサイド部塗布手段をバフ面に対して所定の距離に位置するように移動させて、センター部塗布手段から選択された塗布ガンとサイド部塗布手段の塗布ガンの吐出口から台タイヤＴのバフ面にセメントを吹き付けて塗布するものである。
【００１２】
図１は、台タイヤＴにセメントを塗布する更生タイヤの製造装置１の概略斜視図である。
以下、台タイヤにセメントを塗布する更生タイヤの製造装置１について詳述する。図１に示すように、更生タイヤの製造装置１は、概略、タイヤ回転機構５０、昇降機構３０、塗布機構１０、拡縮機構２０、測定器４０及び制御装置１００を備える。
【００１３】
タイヤ回転機構５０は、概略、基台部５２とローラー支持壁５３と回転モーター５４と回転ローラ５１，５１からなる。
基台部５２は、工場などの床面に固定され、上面側には、ローラー支持壁５３と回転モーター５４が設けられる。
【００１４】
ローラー支持壁５３は、中空四角形状の横断面を有し、床面に対してほぼ垂直となるように基台部５２の上面に立設される。ローラー支持壁５３の中空内部には図外の回転機構が組み込まれる。ローラー支持壁５３の下側には、回転入力部が設けられ、上側には回転出力部が設けられる。回転機構としては例えば、回転入力部と回転出力部にプーリーなどを取り付けてベルトを介して回転を伝達すれば良い。
【００１５】
回転モーター５４は、ローラー支持壁５３の回転入力部と結合し基台部５２に固定される。なお、回転モーター５４は、後述の制御装置１００が出力する信号に基づき回転の開始及び終了がなされる。
【００１６】
回転ローラー５１，５１は、ローラー支持壁５３から水平方向に延長するように２本、かつ、互いが平行となるように回転出力部に取り付けられる。
上記構成により、台タイヤＴは、回転ローラー５１，５１が内径孔Ｔ４を貫通して、回転ローラーの外周面５１ａ，５１ａと台タイヤＴのビード部Ｔ３が当接するように設置され、回転モーター５４が回転することで、回転ローラー５１，５１を介し周方向に回転する。
なお、タイヤ回転機構５０の構成は上記構成に限らず、所定の位置で台タイヤＴを回転させるものであれば良い。
【００１７】
次に、昇降機構３０は、タイヤ回転機構５０の近傍に上下方向に立設される昇降支柱３１と前記昇降支柱上を上下に移動する昇降部３２で構成される。
昇降支柱３１は、立設方向に一部切り欠き部が形成され、支柱上部３１ａには昇降モーター３３、支柱内部には図外のボールネジとボールナットからなるボールネジ機構を備える。
支柱内部に設けられるボールネジ機構は、ボールネジが支柱の立設方向に設けられ、一端が支柱下部３１ｂで回転可能に支持され、他端が支柱上部３１ａの昇降モーター３３と結合する。
ボールナットは、ボールネジに取り付けられ、ボールネジを回転させることによりボールナットが立設方向に移動する。このボールナットは、昇降支柱３１の切り欠き部を介して昇降部３２と結合する。
昇降部３２は、外周面の一部に平面状の支持面３２ａが形成され、後述の塗布ガン支持部材２１と測定器４０が取り付けられる。
すなわち、昇降機構３０は、昇降モーター３３を回転させることにより昇降部３２が、昇降支柱３１に沿って上下方向に移動する。
なお、昇降部３２を昇降させる機構にボールネジ機構を用いたが、油圧装置など他の直動機構を用いても良い。
【００１８】
図２は、塗布機構１０の拡大図を示し、図３は、拡縮機構２０の概略斜視図を示す。
図２，図３に示すように塗布ガン支持部材２１は、チャンネル材のような直線状の中空のほぼ四角形状の断面かつ延長方向に一部開口する切り欠き面２１ａを備えた剛性を有する部材からなる。塗布ガン支持部材２１は、延長方向が水平かつ、切り欠き面２１ａが下方を向くように昇降部３２の支持面３２ａに一端が固定される。
【００１９】
塗布ガン支持部材２１の中空内部には、拡縮機構２０が内蔵される。
図３に示す拡縮機構２０は、２組の駆動モーター２３Ａ，２３Ｂとスクリューシャフト２５Ａ，２５Ｂと、枢支部材２４Ａ，２４Ｂによって構成される。
駆動モーター２３Ａ，２３Ｂは、塗布ガン支持部材２１の両端に配置され、互いの出力軸が塗布ガン支持部材２１の中央方向に向くように取り付けられる。
また、枢支部材２４Ａ，２４Ｂは、塗布ガン支持部材２１の中央付近にそれぞれ固定される。
駆動モーター２３Ａ，２３Ｂと枢支部材２４Ａ，２４Ｂの間には、それぞれスクリューシャフト２５Ａ，２５Ｂが配設される。
具体的には、スクリューシャフト２５Ａの一端が駆動モーター２３Ａと結合し、他端が枢支部材２４Ａによって枢支される。同様にスクリューシャフト２５Ｂの一端が、駆動モーター２３Ｂと結合し、他端が枢支部材２４Ｂによって枢支される。
【００２０】
また、スクリューシャフト２５Ａ，２５Ｂには、サイドピラー２２Ａ，２２Ｂが取り付けられる。サイドピラー２２Ａ，２２Ｂは、上下方向に延長するように取り付けられ、一端が切り欠き２１ｃを介して塗布ガン支持部材２１内部にそれぞれ突出する。突出した端部は、それぞれネジ孔を備え、このネジ孔にスクリューシャフト２５Ａ，２５Ｂが貫通しつつ螺入される。
【００２１】
サイドピラー２２Ａ，２２Ｂの他端側には、サイド塗布手段の塗布ガン１５Ａ，１５Ｂが取り付けられる。
塗布ガン１５Ａ，１５Ｂは、吐出方向が互いに対向し、台タイヤＴのサイド部分、具体的には台タイヤの左右ショルダー部Ｔ２にそれぞれ吐出口を向けてセメントを塗布するように取り付けられる。
なお、塗布ガン１５Ａ，１５Ｂは、サイドピラー２２Ａ，２２Ｂに沿って移動できるようにしても良い。
【００２２】
上記構成により、例えば、駆動モーター２３Ａが回転するとスクリューシャフト２５Ａが回転し、サイドピラー２２Ａを切り欠き２１ｃに沿って進退させることができる。同様に、駆動モーター２３Ｂが回転するとスクリューシャフト２５Ｂを回転し、サイドピラー２２Ｂを切り欠き２１ｃに沿って進退させることができる。
駆動モーター２３Ａ，２３Ｂを個別に制御すれば、塗布ガン１５Ａ，１５Ｂを個別に移動させることができる。なお、駆動モーター２３Ａ，２３Ｂは後述の制御装置１００に接続される。
【００２３】
また、塗布ガン支持部材２１の切り欠き面２１ａと隣接する塗布ガン取り付け面２１ｂには、センター部塗布手段の複数の塗布ガン１１Ａ〜１１Ｈが取り付けられる。
塗布ガン１１Ａ〜１１Ｈは、塗布ガン支持部材２１の延在方向に沿って、所定の間隔に均等間隔Ｄで一列に配置され、塗布ガン１１Ａ〜１１Ｈのそれぞれの吐出口が下方、すなわち台タイヤＴのセンター部に対してほぼ直角方向となるように取り付けられる。
本構成により、複数の塗布ガン１１Ａ〜１１Ｈが一列に配置されるため様々なサイズの台タイヤＴに対して適用でき、また台タイヤＴが回転ローラー５１に対して常に一定の位置に載せられなくても対応することができる。
【００２４】
上記すべての塗布ガン１１Ａ〜１１Ｈ及び塗布ガン１５Ａ，１５Ｂには、それぞれ、バルブ１２Ａ〜１２Ｈ、バルブ１６Ａ，１６Ｂが取り付けられる。
バルブ１２Ａ〜１２Ｈ，１６Ａ，１６Ｂは、塗布ガン１１Ａ〜１１Ｈ及び塗布ガン１５Ａ，１５Ｂからのセメントの吹き付け塗布を選択的にオン・オフすることを可能にする切替え手段である。バルブには、例えばソレノイドなどの電磁バルブが用いられ、後述の制御装置１００によって個別に制御される。
【００２５】
塗布ガン１１Ａ〜１１Ｈ及び塗布ガン１５Ａ，１５Ｂは、上記バルブ１２Ａ〜１２Ｈ，１６Ａ，１６Ｂを介してセメントを流通させるための配管が接続される。
配管は、コモンチューブ１３ａとフレキシブルチューブ１４Ａ，１４Ｂからなる。
コモンチューブ１３ａは、延長方向両端を開口させ、延長方向周面に複数のデリバリーパイプ１３ｂを備え、さらに周面の一部に流入口１３ｃが形成される。
複数のデリバリーパイプ１３ｂは、それぞれバルブ１２Ａ〜１２Ｈと接続される。
コモンチューブ１３ａの開口する両端には、撓みを有するフレキシブルチューブ１４Ａ，１４Ｂが接続される。フレキシブルチューブ１４Ａ，１４Ｂは、バルブ１６Ａ，１６Ｂと接続される。
つまり、セメントの供給源から加圧されて供されるセメントが、コモンチューブ１３ａの流入口１３ｃから流入することにより、複数のデリバリーパイプ１３ｂ及びフレキシブルチューブ１４Ａ，１４Ｂから各バルブ１２Ａ〜１２Ｈ，１６Ａ，１６Ｂに分配されて、各塗布ガン１１Ａ〜１１Ｈ，１５Ａ，１５Ｂにそれぞれ供給される。
【００２６】
図４は、測定手段としての測定器４０による測定概念を示す。図５は、測定器４０による台タイヤＴの測定概念図を示す。
測定器４０は、延在方向が塗布ガン支持部材２１及び回転ローラー５１の回転軸と平行、かつ、測定方向が一方の回転ローラー５１の外周面５１ａと台タイヤのビード部Ｔ３との当接部分を向くように、支持面３２ａに一端が固定される。
【００２７】
図５に示すように測定器４０は、例えば、複数の距離センサー４１ａ〜４１ｊの１０個からなり、互いの測定方向が平行かつ、互いの測定方向の中心距離が距離Ｄの等間隔に離間するように延長方向に棒状に配列される。
【００２８】
すなわち、塗布機構１０の塗布ガン１１Ａ〜１１Ｈが配置された間隔と、距離センサー４１ａ〜４１ｊの配置された間隔は等しく、特に塗布ガン１１Ａ〜１１Ｈと距離センサ４１ａ〜４１ｈが、塗布ガン１１Ａと距離センサー４１ａのようにそれぞれ１対１で対応する。
つまり、測定器４０の距離センサーと塗布機構１０の塗布ガンとの関係は、図２に示す塗布ガン１１Ａの塗布中心ＰＣと図５に示す距離センサー４１ａの測定中心ＳＣとが一致して、センター部塗布手段の塗布ガン一つに対して距離センサーが一つ対応する。
【００２９】
例えば、距離センサー４１ａ〜４１ｊには、２次元のレーザー距離センサーが用いられ、それぞれの２次元レーザー距離センサーが照射する帯状の照射光が、直線的に測定器４０の延在方向に一列となるように距離センサー４１ａ〜４１ｊが配置される。
さらに、測定器４０の測定範囲は、少なくとも塗布ガン１１Ａから塗布ガン１１Ｈが塗布する幅方向の全範囲以上に設定される。
【００３０】
なお、距離センサーは、より好ましくは、測定範囲全体を同時に測定できる測定範囲全幅タイプのセンサーを用いると良いが、いずれの方法であっても良く、少なくともセンター部塗布手段の塗布ガンの数量に対応する数量の距離センサーを用意し、一列に配置すれば良い。
【００３１】
以上構成により、測定器４０が、回転ローラー５１に設けられた台タイヤＴを測定することで、回転ローラー５１の外周面５１ａまでの距離Ｌ１と台タイヤＴのバフ面のセンター部Ｔ１までの距離Ｌ４に基づいて台タイヤＴの高さ寸法Ｌ６と幅方向寸法Ｌ５が測定される。
高さ寸法Ｌ６は、外周面５１ａまでの距離Ｌ１からセンター部Ｔ１までの距離Ｌ４に基づき、例えば距離Ｌ１から距離Ｌ４を減じることで得られる。
幅方向寸法Ｌ５は、外周面５１ａまでの距離Ｌ１を測定した距離センサーと隣接し、センター部Ｔ１までの距離Ｌ４を測定した距離センサーとの関係から幅方向寸法Ｌ５を得ることができる。
【００３２】
なお、測定寸法や各部の距離の処理方法は上記に限らず、測定距離に基づいて画像処理をすれば、回転ローラー５１を含む台タイヤＴの形状及び台タイヤの各部位の距離及び寸法を詳細に得ることもできる。
また、本実施形態では、センター部塗布手段のみに対応するように測定器４０を配置したが、サイド部塗布手段に対しても個別に距離センサーを設けて、サイド部塗布手段が個別に移動するようにしても良い。
また、測定器４０を昇降装置３０に設けたが、タイヤ回転装置５０に設けても良い。
【００３３】
図６は、制御装置１００のブロック図を示す。
以下、図６のブロック図を用いてセメントの塗布工程について説明する。なお、適宜、図２，図３，図５を合わせて用いる。
制御装置１００は、入力部１０１、処理部１０２、記憶部１０３及び出力部１０４を有する。制御装置１００には、例えばコンピューターなどを用いれば良い。
【００３４】
入力部１０１は、測定器４０と接続し、測定器４０によって測定された測定器４０からセンター部Ｔ１までの距離Ｌ４と回転ローラー５１の外周面５１ａまでの距離Ｌ１が測定信号として入力される。
記憶部１０３は、測定器４０によって測定された測定器４０からセンター部Ｔ１までの距離Ｌ４と測定器４０から回転ローラー５１の外周面５１ａまでの距離Ｌ１を記憶する。
また、センター部塗布手段の塗布ガン１１Ａ〜１１Ｈがセンター部Ｔ１に対してセメントを塗布するのに最適な距離Ｌ２と、サイド部の塗布ガン１５Ａ，１５Ｂが左右ショルダー部Ｔ２，Ｔ２にセメントを塗布するのに最適な距離Ｌ３を記憶する。
出力部１０４は、駆動モーター２３Ａ，２３Ｂ、昇降モーター３３、バルブ１２Ａ〜１２Ｈ，１６Ａ，１６Ｂ、回転モーター５４と接続し、処理部１０２によって処理された信号を出力する。
なお、処理部１０２については、以下の塗布工程の説明とともに説明する。
【００３５】
セメントの塗布工程は、まず、バフがけが終了した台タイヤＴを回転ローラー５１の外周面５１ａに左右のリム部Ｔ３，Ｔ３を掛けるように載せられる。
次に、回転ローラー５１に載せられた台タイヤＴに対して、測定器４０が、回転ローラー５１までの距離Ｌ１及びセンター部Ｔ１までの距離Ｌ４を測定する。測定された距離Ｌ１及びＬ４は、入力部１０１に測定信号として出力される。
【００３６】
次に、処理部１０２は、入力部１０１を介して入力された測定信号に基づいてセンター部Ｔ１までの距離Ｌ４と、台タイヤＴの高さ寸法Ｌ６及び幅方向寸法Ｌ５を求める。
まず、幅方向寸法Ｌ５に基づきセンター部Ｔ１を塗布するために使用する塗布ガンをセンター部塗布手段から選択し、さらにサイド部塗布手段の塗布ガン１５Ａと塗布ガン１５Ｂが左右ショルダー部Ｔ２にセメントを吹き付け塗布するのに最適な位置について処理をする。
また、高さ寸法Ｌ６とセンター部Ｔ１までの距離に基づき、センター部塗布手段を昇降させて、塗布ガン１１Ａ〜１１Ｈがセンター部Ｔ１に対してセメントを吹き付け塗布するのに最適な位置について処理をする。
【００３７】
例えば図５に示す場合には距離センサー４１ｃ，４１ｄ，４１ｅ，４１ｆがセンター部Ｔ１までの距離Ｌ４を測定し、この測定信号に基づいて記憶部１０３の記憶するセンター部Ｔ１までの距離Ｌ４と塗布ガン１１Ａ〜１１Ｈがセメントを塗布するのに最適な距離Ｌ２との関係に基づき、処理部１０２は、昇降モーター３３に移動信号を出力し、塗布ガン１１Ｃ，１１Ｄ，１１Ｅ，１１Ｆの使用を決定する。
ここで、センター部塗布手段の塗布ガン１１Ａ〜１１Ｈがセメントを塗布するのに最適な距離Ｌ２とは、図２に示すように各塗布ガン、例えば塗布ガン１１Ｄのタイヤ幅方向の塗布範囲Ｇ１からＧ２と隣接する塗布ガン１１Ｅのタイヤ幅方向の塗布範囲Ｇ１からＧ２が交差する交差位置ＧＰがちょうど台タイヤＴのセンター部Ｔ１の表面となる位置である。
【００３８】
また、センター部Ｔ１を検出した距離センサー４１ｃ及び４１ｆと、隣接する距離センサー４１ｂ及び４１ｇが、回転ローラー５１までの距離Ｌ１を測定したことにより、タイヤ幅Ｌ５が決定される。
これにより、処理部１０２は、塗布ガン１５Ａ，１５Ｂのそれぞれを塗布するのに最適な位置を算出し、駆動モーター２３Ａ，２３Ｂに駆動信号をそれぞれ出力し、サイドピラー２２Ａ，２２Ｂを個別に移動させて、塗布ガン１５Ａ，１５Ｂを左右ショルダー部Ｔ２から所定の距離Ｌ３の位置まで移動させる。
すなわち、測定器４０によって測定された台タイヤＴのセンター部Ｔ１までの距離Ｌ４と回転ローラー５１の外周面５１ａまでの距離Ｌ１に基づいて、センター部Ｔ１にセメントを塗布するセンター部塗布手段（塗布ガン１１Ａ〜１１Ｈ）と、左右ショルダー部Ｔ２，Ｔ２にセメントを塗布するサイド部塗布手段（塗布ガン１５Ａ，１５Ｂ）とが所定の距離Ｌ２と、距離Ｌ３となるように移動する。
【００３９】
次に塗布機構１０のセンター部塗布手段の塗布ガン１１Ａ〜１１Ｈとサイド部塗布手段の塗布ガン１５Ａ，１５Ｂが所定の位置に配置されたのち、上記処理部１０２において決定された塗布ガン１１Ｃ〜１１Ｆ，１５Ａ，１５Ｂに取り付けられたバルブ１２Ａ〜１２Ｈ，１６Ａ，１６Ｂにバルブの開放信号と、回転モーター５４の回転開始信号を出力部１０４を介して出力する。
上記開放信号と回転開始信号により周方向に回転する台タイヤＴのバフ面に対して塗布ガン１１Ｃ〜１１Ｆ，１５Ａ，１５Ｂからのみセメントが吹き付け塗布される。所定回数回転することにより、バフ面全体にセメントが吹き付け塗布される。
【００４０】
次に、台タイヤＴが所定の回数を回転したのち回転モーター５４に回転停止信号を出力して一連の塗布工程が終了される。セメントの塗布が終了すると、処理部１０２は、駆動モーター２３Ａ，２３Ｂと昇降モーター３３に駆動信号を出力し塗布機構１０のサイドピラー２２Ａ，２２Ｂ，塗布ガン支持部材２１を所定の位置に待機させる。
【００４１】
以上説明したセメント塗布装置によれば、選択された塗布ガンからのみセメントを塗布し、またセメントを塗布する塗布ガンの距離が、それぞれの塗布ガンの塗布範囲に重ならないように設定されるため、効率良く台タイヤＴのバフ面のセンター部Ｔ１及び左右ショルダー部Ｔ２に対してセメントを塗布することができる。
【００４２】
以下、本発明の効果を調べるために飛散量及び塗布量のバラツキ（塗布むら）の塗布試験を行った。
試験方法
塗布試験は、塗布ガンから噴霧したセメント量と、実際にタイヤに付着したセメント量を従来の塗布方法と本発明による方法とを比較した。具体的には、所定の大きさに裁断された複数のマスク紙をバフ面に貼り付けて覆い、セメント塗布後にバフ面を覆ったマスク紙を剥がして重量を測定することにより行われる。
飛散量についての試験は、セメント塗布後のマスク紙すべての重さを加算し、その重さからセメント塗布前のマスク紙の重さを減じ、塗布ガンから噴霧された量で除することにより飛散量を求めた。
また、塗布量のバラツキ（塗布むら）についての試験は、従来の方法により塗布された台タイヤと本発明により塗布された台タイヤの同一個所に貼り付けられたマスク紙の単位面積あたりの重さを算出してバラツキの評価を行った。
【００４３】
試験結果
飛散量は、従来の塗布方法に対して５０％の減少が得られた。
塗布量のバラツキは、従来の塗布方法に対して３０％の減少が得られた。
上記試験結果を考察すると、飛散量が５０％減少したことにより、セメントの塗布工程における作業環境を十分に向上させることが分かる。さらに、飛散量を低減させたことにより、無駄なセメントが使用されないため生産性が向上することも分かった。
また、塗布量のバラツキが、従来の塗布方法に対して３０％減少したことにより、良質なセメントの塗布が行われ、セメントの塗布による不良の発生を抑制でき生産性を向上させることが分かった。
以上まとめると、本発明のセメントの塗布装置は、更生タイヤを製造するときのセメントの塗布工程における作業環境の向上と生産性の向上に十分な効果が得られる。
【００４４】
なお、本実施形態では、セメントの塗布装置としたが、タイヤの製造工程においては、例えば、最終工程でのタイヤワックスの塗布などに用いることもできる。
【符号の説明】
【００４５】
１ セメント塗布装置、１０ 塗布機構、１１ 塗布ガン、１２Ａ〜Ｈ バルブ、
１５ 塗布ガン、１６Ａ，Ｂ バルブ、２０ 拡縮機構、２３ 駆動モーター、
３０ 昇降機構、３２ 昇降部、３２ａ 支持面、３３ 昇降モーター、４０ 測定器、
４１ 距離センサー、５０ タイヤ回転機構、５１ 回転ローラー、
５４ 回転モーター、１００ 制御装置、Ｔ タイヤ、Ｔ１ センター部、
Ｔ２ 左右ショルダー部、Ｔ３ ビード部、Ｔ４ 内径孔、Ｌ５ 幅方向寸法、
Ｌ６ 高さ寸法。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
更生用トレッドが貼り付けられる台タイヤのバフ面にセメントを塗布するセメント塗布装置であって、
前記セメント塗布装置が、
前記台タイヤのバフ面の対面側に配置され、前記バフ面にセメントを塗布する塗布ガンを有するセンター部塗布手段と、
前記センター部塗布手段をタイヤ径方向に駆動する駆動手段と、
前記台タイヤの内径孔を貫通し、前記台タイヤを吊架して支持する水平ローラーにより前記台タイヤを周方向に回転させるタイヤ回転手段と、
前記台タイヤのバフ面と前記水平ローラーとの間の距離を求めて前記台タイヤの断面高さを測定する測定手段とを備え、
前記駆動手段が前記測定された台タイヤの断面高さに基づき前記センター部塗布手段を前記バフ面に対して所定の距離となるように駆動することを特徴とするセメント塗布装置。
【請求項２】
前記塗布ガンが前記台タイヤの幅方向に複数配置され、
前記測定手段が前記台タイヤの幅寸法を測定し、
前記台タイヤの幅寸法に基づいて、前記複数の塗布ガンを選択的に駆動する切り替え手段を備えることを特徴とする請求項１に記載のセメント塗布装置。
【請求項３】
前記セメント塗布装置が前記台タイヤのバフ面の左右ショルダー部にセメントを吹き付け塗布するサイド部塗布手段と、
前記サイド部塗布手段をタイヤ幅方向に駆動する駆動手段とをさらに備え、
前記駆動手段が前記台タイヤの幅寸法に基づき前記サイド部塗布手段を前記左右ショルダー部に対して所定の距離となるように駆動することを特徴とする請求項２に記載のセメント塗布装置。
【請求項１】
更生用トレッドが貼り付けられる台タイヤのバフ面にセメントを塗布するセメント塗布装置であって、
前記セメント塗布装置が、
前記台タイヤのバフ面の対面側に配置され、前記バフ面にセメントを塗布する塗布ガンを有するセンター部塗布手段と、
前記センター部塗布手段をタイヤ径方向に駆動する駆動手段と、
前記台タイヤの内径孔を貫通し、前記台タイヤを吊架して支持する水平ローラーにより前記台タイヤを周方向に回転させるタイヤ回転手段と、
前記台タイヤのバフ面と前記水平ローラーとの間の距離を求めて前記台タイヤの断面高さを測定する測定手段とを備え、
前記駆動手段が前記測定された台タイヤの断面高さに基づき前記センター部塗布手段を前記バフ面に対して所定の距離となるように駆動することを特徴とするセメント塗布装置。
【請求項２】
前記塗布ガンが前記台タイヤの幅方向に複数配置され、
前記測定手段が前記台タイヤの幅寸法を測定し、
前記台タイヤの幅寸法に基づいて、前記複数の塗布ガンを選択的に駆動する切り替え手段を備えることを特徴とする請求項１に記載のセメント塗布装置。
【請求項３】
前記セメント塗布装置が前記台タイヤのバフ面の左右ショルダー部にセメントを吹き付け塗布するサイド部塗布手段と、
前記サイド部塗布手段をタイヤ幅方向に駆動する駆動手段とをさらに備え、
前記駆動手段が前記台タイヤの幅寸法に基づき前記サイド部塗布手段を前記左右ショルダー部に対して所定の距離となるように駆動することを特徴とする請求項２に記載のセメント塗布装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【公開番号】特開２０１０−１９４４０１（Ｐ２０１０−１９４４０１Ａ）
【公開日】平成２２年９月９日（２０１０．９．９）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−３９２９８（Ｐ２００９−３９２９８）
【出願日】平成２１年２月２３日（２００９．２．２３）
【出願人】（０００００５２７８）株式会社ブリヂストン (11,469)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年９月９日（２０１０．９．９）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年２月２３日（２００９．２．２３）
【出願人】（０００００５２７８）株式会社ブリヂストン (11,469)
【Ｆターム（参考）】
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