【課題】立体構造物に均一なコーティング剤の皮膜を形成する立体構造物のコーティング装置およびコーティング方法を提供する。
【解決手段】収容室２１にコーティング剤を供給して半導体装置４０を浸漬した後、収容室２１からコーティング剤を回収して半導体装置４０コーティング剤を塗布する。その後、回転駆動部３８によりコーティング剤を塗布した半導体装置４０を所望のコーティング剤の膜厚ごとに予め設定されている回転数で収容タンク１１とともに回転駆動する。 （もっと読む）

【課題】基板の下面を効率良く洗浄することができる液処理装置を提供する。
【解決手段】基板洗浄装置（１０）は、基板保持機構に保持された基板（Ｗ）の下面の下方に位置して基板の下面に処理液を吐出するノズル（６０）を備える。ノズルは基板の中央部に対向する位置から基板の周縁部に対向する位置の間に配列された複数の第１の吐出口（６１）を有している。第１吐出口は、基板の下面に向けて吐出される処理液の吐出方向が基板の回転方向の成分を持つように形成されている。 （もっと読む）

【課題】歩留まりの低下を防ぐこと。
【解決手段】基板を立てた状態で回転可能に保持する回転部ＳＣ１，ＳＣ２と、前記回転部ＳＣ１，ＳＣ２に保持される前記基板の外周を囲むように配置され、前記基板の第一面及び第二面をそれぞれ露出する開口部ＯＰ１，ＯＰ２を有するカップ部ＣＰと、前記開口部ＯＰ１，ＯＰ２を介して前記基板の前記第一面及び前記第二面に液状体を吐出するノズル５２を有する塗布部ＮＺと、前記基板の前記第一面側及び前記第二面側に設けられ、前記開口部ＯＰ１，ＯＰ２を開閉する蓋部ＬＤ１，ＬＤ２とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板上に塗布される液状体の状態を改善することが可能な塗布装置を提供すること。
【解決手段】所定の塗布位置において基板を立てた状態で回転させつつ前記基板の表面及び裏面にそれぞれ液状体を吐出するノズルを有する塗布機構と、前記基板を基板搬入位置、前記塗布位置及び基板搬出位置の間で搬送する搬送機構と、前記基板搬入位置、前記塗布位置及び前記基板搬出位置とは異なる位置であって前記搬送装置が接続可能な保持位置でダミー基板を保持するダミー基板保持機構とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板の周縁部の塗布状態を良好にすることが可能な塗布装置及び塗布方法を提供すること。
【解決手段】基板を立てた状態で回転させつつ前記基板の表面及び裏面にそれぞれ液状体を吐出するノズルを有する塗布機構と、前記基板の外周部における前記液状体の塗布状態を調整する調整機構とを備え、前記調整機構は、前記基板を回転させながら前記基板の外周部を溶解液に漬け込んで溶解させるディップ部と、前記溶解液に漬け込んだ後の前記基板の外周部近傍を吸引する吸引部とを有する。 （もっと読む）

【課題】台タイヤのバフ面に対してセメントの塗布ムラや飛散を抑制して効率良くセメントを塗布するセメント塗布装置を提供する。
【解決手段】更生用トレッドが貼り付けられる台タイヤのバフ面にセメントを塗布するセメント塗布装置であって、前記セメント塗布装置が、前記台タイヤのバフ面の対面側に配置され、前記バフ面にセメントを塗布する塗布ガンを有するセンター部塗布手段と、前記センター部塗布手段をタイヤ径方向に駆動する駆動手段と、前記台タイヤの内径孔を貫通し、前記台タイヤを吊架して支持する水平ローラーにより前記台タイヤを周方向に回転させるタイヤ回転手段と、前記台タイヤのバフ面と前記水平ローラーとの間の距離を求めて前記台タイヤの断面高さを測定する測定手段とを備え、前記駆動手段が前記測定された台タイヤの断面高さに基づき前記センター部塗布手段を前記バフ面に対して所定の距離となるように駆動する。 （もっと読む）

【課題】被加工体の両面に流動性材料を塗布できる生産効率が良いスピンコート装置、これを用いたスピンコート方法及び情報記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】スピンコート装置１０は、回転軸線Ｘに対し同軸的に配置された筒状部１２Ｂを有し筒状部１２Ｂにおける回転軸線Ｘの方向の先端部１２Ａから回転軸線Ｘの方向の途中の部分までスリット１２Ｃが形成されたコレットと、コレット１２の筒状部１２Ｂを径方向の外側に付勢して筒状部１２Ｂの外径を拡大可能である拡径器１４と、を備え、中心孔１６Ａを有する板状の被加工体１６の両面が露出するように被加工体１６を中心孔１６Ａにおいてコレット１２の筒状部１２Ｂで保持して被加工体１６の両面に流動性材料１８を塗布可能である。 （もっと読む）

【課題】レンズの反転操作が確実で位置ずれするおそれがなく、回転台に対して確実に装着することができる光学レンズのコーティング装置を提供する。
【解決手段】レンズの外周を保持するリング状のレンズ保持用治具１６と、このレンズ保持用治具１６が装着される回転台を備えた塗布容器１２と、回転台を駆動する回転台用駆動装置と、レンズ２の被塗布面にコーティング溶液を適下するコーティング溶液滴下装置２０と、レンズ保持用治具１６を反転させる治具用反転装置１７とを備えている。治具用反転装置１７のハンド１１０は、レンズ保持用治具１６の環状体の外周を径方向両側から把持する一対の把持部１１０Ａ、１１０Ｂを有している。 （もっと読む）

【課題】薬液を両面に塗布する両面塗布装置であって、ウエハ上の有効チップ面を覆うようなウエハチャックを有する装置において、裏面洗浄機構を省略出来るようにする。
【解決手段】ウエハチャックを有する両面塗布装置において、ウエハ上の有効チップ面を覆うような形状のウエハチャックを有するとともに、ウエハチャックが円形であり、チャック面の半径寸法を着工ウエハの半径寸法に対して小さくして、その差が１ｍｍから１０ｍｍであるようにする。 （もっと読む）

【課題】被処理基板の両面に均一に塗液を塗布することができ、被処理基板の両面に均一な塗膜を形成できる両面塗布装置を提供する。
【解決手段】被処理基板２の厚み方向が水平方向となるように被処理基板２を保持する保持機構３ａと、被処理基板２を周回りに回転させる回転駆動機構と、被処理基板２の一方の主面２ａに塗液を噴出する第１塗液用ノズル１８ａと、被処理基板２の他方の主面２ｂに塗液を噴出する第２塗液用ノズルとを備え、第１塗液用ノズル１８ａと第２塗液用ノズルとが、被処理基板２の厚み中心面に対して対称に配置されている両面塗布装置１とする。 （もっと読む）

【課題】塗液を塗布してからエッジリンスを行うまでの時間を被処理基板の両主面において一定とすることができる両面塗布装置を提供する。
【解決手段】被処理基板２の厚み方向が水平方向となるように被処理基板２を保持する保持機構３ａと、被処理基板２を周回りに回転させる回転駆動機構と、被処理基板２の両主面２ａに同時に塗液を噴出する塗液用ノズルと、塗液の塗布された被処理基板２の両主面２ａの外縁部に付着した塗液を除去するエッジリンス手段４０とを備え、エッジリンス手段４０は、リンス液の収容された容器４１を備えたものであり、容器４１の上面からリンス液の液面が露出されており、回転している被処理基板２の外縁部がリンス液に浸漬される位置に、容器が移動自在に配置されている両面塗布装置１とする。 （もっと読む）

【課題】複数枚の被処理基板に対して塗布した場合であっても、塗布量のばらつきが少なく、塗布量を高精度で制御できる両面塗布装置および塗液の両面塗布方法を提供する。
【解決手段】被処理基板２の厚み方向が水平方向となるように被処理基板２を保持する保持機構３ａと、被処理基板２を周回りに回転させる回転駆動機構と、被処理基板２の両主面２ａに塗液を噴出する塗液用ノズル１８ａと、リンス液を噴出させて塗液用ノズル１８ａを洗浄するヘッドリンス用ノズル１９ａとを備える両面塗布装置１とする。 （もっと読む）

【解決手段】 非接触型エッジコーティング装置は、太陽電池用基板（８０１）のエッジにコーティング材料を塗布する塗布部（８２１）と、塗布部（８２１）を駆動する制御システム（９００）とを備える。当該制御システム（９００）は、基板（８０１）のエッジにコーティング材料をコーティングするべく基板（８０１）を回転させる場合に、基板（８０１）のエッジとの間に距離を維持するべく軸に沿って塗布部（８２１）を駆動するとしてよい。塗布部（８２１）は、コーティングのために基板（８０１）のエッジが挿入される凹部（８２５）を有しているとしてよい。例えば、塗布部（８２１）は、溝を有するローラであってよい。コーティング材料は、基板（８０１）のエッジに塗布されるべく、溝に供給されるとしてよい。当該装置では、さまざまなコーティング材料を利用するとしてよく、そのようなコーティング材料には、ホットメルトインクおよびＵＶ硬化性メッキレジストが含まれる。 （もっと読む）

【課題】中心開口部を有する被処理基板の両面に、中心開口部に塗液が侵入するのを防止しつつ、簡易な工程で均一に塗液を塗布することができる塗布装置を提供する。
【解決手段】本発明の塗布装置１は、中心開口部２ａを有する被処理基板２の両主面に塗液を塗布する塗布装置であって、被処理基板２を、その中心開口部２ａを閉塞して保持するチャッキング部１１を有する回転駆動機構３と、被処理基板２の一方の主面に塗液を噴出する第１の塗液用ノズル１８と、これを被処理基板２の一方の主面に沿って走査するように移動操作する第１の旋回駆動機構１７と、被処理基板２の他方の主面に塗液を噴出する第２の塗液用ノズル２８と、これを被処理基板３の他方の主面に沿って走査するように移動操作する第２の旋回駆動機構３１と、第１の塗液噴出口２３における塗液の噴出量と、第２の塗液噴出口２９における塗液の噴出量を独立に制御する機能を有する。 （もっと読む）

【課題】中心開口部を有する被処理基板の両面に、中心開口部に塗液が侵入するのを防止しつつ、簡易な工程で均一に塗液を塗布することができる塗布装置を提供する。
【解決手段】本発明の塗布装置１は、中心開口部２ａを有する被処理基板２の両主面に塗液を塗布する塗布装置であって、被処理基板２を、その中心開口部２ａを閉塞して保持するチャッキング部１１を有する回転駆動機構３と、被処理基板２の一方の主面に塗液を噴出する第１の塗液用ノズル１８と、これを被処理基板２の一方の主面に沿って走査するように移動操作する第１の旋回駆動機構１７と、被処理基板２の他方の主面に塗液を噴出する第２の塗液用ノズル２８と、これを被処理基板３の他方の主面に沿って走査するように移動操作する第２の旋回駆動機構３１と、第１の塗液噴出口２３における塗液の噴出量と、第２の塗液噴出口２９における塗液の噴出量を独立に制御する機能を有する。 （もっと読む）

【課題】 簡単な構造で塗布対象液体の基板裏面への廻り込みを防ぐことができるスピンコータを提供する。
【解決手段】 スピンコータは、長方形の基板１を下方から保持するためのものであり、基板１の下方に完全に隠れ得る大きさの吸着部５と、吸着部５を取り囲んで広がり、基板１の下面とほぼ同一高さの上面６ｕを有する整流板６と、吸着部５および整流板６を回転させるための回転駆動部５１と、吸着部５に保持された基板１の上面１ｕに塗布対象液体を供給するための供給機構５２と、整流板６の上面６ｕのうち、吸着部５に基板１を設置したときに基板１の長辺に隣接する領域において、長辺の一部に沿うように配置された廻り込み防止板８とを備える。 （もっと読む）