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Fターム[4F100AK45]の内容

積層体 (596,679) | 高分子材料 (104,134) | 有機高分子材料 (103,355) | 炭素−炭素不飽和結合以外の基が関与する重合体 (41,628) | ポリエステル (17,871) | ポリカーボネート (2,151)

Fターム[4F100AK45]に分類される特許

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本発明は、基材に結合された接着剤層の表面において直径500μmの円形領域につき少なくとも103μm3の容積を有する複数の溝を画定する、微細構造化接着剤層を含むシートなどの再帰反射物品に関する。
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この発明は、電気製品や自動車に装飾パネルとして用いられ、基板シートを覆うフィルム複合体を有する積層構造、に関する。この積層構造は、縦方向および横方向ともに高明度の画像を有し、これらの比率を1.0に近い値で有する。 (もっと読む)


【課題】 高適合性及び非移行性ポリマー状UV−吸収剤
【解決手段】 本発明は、高適合性ヒドロキシフェニルトリアジンUV−吸収剤に関し、そして、医薬品、化粧品、パーソナルケア製品、シャンプーなど、そしてとりわけ飲料、生鮮野菜又は精肉などの食品などの、透明プラスチック包装の内容物を紫外光の悪影響から特に保護するための、有機ポリマー中におけるそれらの使用に関する。特に、有用なのはUV吸収剤及び酸素捕捉剤の併用である。上記物質が保管される容器又はフィルムに配合されると、ある種の高適合性トリス−アリール−s−トリアジンは特にこの目的に対して効果的であるということが見出された。 (もっと読む)


静電気拡散性であり、光学材料中に埋設された静電気拡散層を備える光学構造物。 (もっと読む)


本発明は、一般式(I):RSiX4−n[式中、Rは炭素原子1〜20個を有する基を表し、Xは炭素原子1〜20個を有するアルコキシ基又はハロゲンを表し、かつnは0〜3の整数を表し、その際に異なる基X又はRはその都度同じか又は異なっていてよい]で示される有機ケイ素化合物及び/又はこれらから得ることができる前縮合物[その際に使用されるケイ素化合物の全質量に対してケイ素化合物の少なくとも50質量%が式RSiX(式中、R及びXは前記の意味を表す)により表されることができる]を、NMR分光法により測定されるRSiO1.5に対するRSiO(OH)の信号の比が0.6〜4の範囲内になるまで縮合させてポリシロキサンに変換し、かつこれらのポリシロキサン混合物に式(II):(R′′)Si(R′)(OR)(4−t−u)[式中、R′′はフッ素原子少なくとも3個を有する炭素原子1〜20個を有する基を表し、uは1又は2に等しく、かつtは0又は1に等しく、R及びR′は同じか又は異なり、かつ炭素原子1〜20個を有する基を表す]で示される化合物を添加することにより得ることができる落書き防止作用を有するコーティング剤に関する。さらに本発明は前記コーティング剤を用いて得ることができるコーティングを有するプラスチック体に関する。 (もっと読む)


レゾルシノールアリーレートポリエステル連鎖部分を含むポリマーからなる外層(2)、熱可塑性ポリマーからなる中間層(4)、カーボネートポリマー及び1種以上のアクリロニトリル−スチレン−アクリレートグラフトコポリマー(ASA)又はアクリロニトリル−ブタジエン−スチレングラフトコポリマー(ABS)からなるアクリロニトリル−スチレングラフトコポリマーを含む熱可塑性ポリマーからなる内側結着層(6)を含んでなる成形可能な熱可塑性多層積層体(10)が開示されており、前記中間層(4)は、前記外層(2)と前記内側結着層(6)の間にあって、前記外層(2)及び前記内側結着層(6)の両者と接触している。また、成形多層積層体(10)及びその多層積層体(10)を基材(8)に結合してなる物品も開示されている。その物品の製造方法も開示されている。 (もっと読む)


【課題】比重が低く、高クッション性で光学濃度が高く隠蔽性に優れ、耐折れじわ性に優れるとともに、従来に比較して長手方向の剛性を高めた白色二軸延伸ポリプロピレンフィルムを提供する。
【解決手段】空洞含有層であるA相の少なくとも片面に、ポリオレフィン系樹脂からなるB層が設置されてなり、比重が0.5〜0.85である積層フィルムであって、A層が230℃で測定したときの溶融張力(MS)とメルトフローレイト(MFR)との関係が、次式(1)
log(MS)>−0.61log(MFR)+0.52 (1)
を満たすポリプロピレンからなることを特徴とする白色二軸延伸ポリプロピレンフィルム。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、水蒸気バリア性、ガスバリア性に優れたプラスチックレンズ基板を用いて軽量、且つ長時間にわたり発光特性を維持することのできる電子デバイス、又は有機EL素子用プラスチック基板の製造方法、及び該方法により構成された電子デバイス、又は有機EL素子用プラスチック基板、又は有機EL素子を提供することを課題とする。
【解決手段】 水蒸気バリア層、及びガスバリア層を有する電子デバイス、又は有機EL素子用プラスチック基板の製造方法であって、水蒸気バリア層、及びガスバリア層を少なくとも一対の無機層と有機層とからなる無機/有機積層膜で形成し、且つ有機層を熱化学蒸着法、或いはプラズマ重合法を用いて形成することである。 (もっと読む)


【課題】 加工や熱膨張による基材の変形に対し、ガスバリア性被覆層の割れの発生を抑制した被覆体を提供する。
【解決手段】 基材表面の一部または全部に、アミノ基を分子内に有する有機化合物(I)と、アミノ基と反応し得る官能基を分子内に有する有機化合物(II)と、特定構造の有機ケイ素化合物(III)および/またはその加水分解縮合物を含む組成物から得られる被覆層を有する被覆体であって、被覆層を、加水分解縮合による架橋構造に基づく緻密部分の量の異なる2層からなる積層構造とし、緻密部分の量の少ない層を基材表面側として柔軟性を持たせると共に、該部分の量の多い層でガスバリア性を確保する構成である。 (もっと読む)


基体を被覆するための装置は、大気圧より低い圧力に維持された蒸着室、前記蒸着室に伴われた二つ以上の拡張性熱プラズマ源(14)を含む一つ以上の配列体、及び各配列体についてオリフィス(15)を含む少なくとも一つの注入器(13)を含む。基体を蒸着室中に配置し、各拡張性熱プラズマ源により中心軸を有するプラズマジェットを生じさせ、同時に注入器によりプラズマ中へ気化反応物を注入して基体上に蒸着された被覆を形成する。注入器オリフィスは、全体的に均一な被覆特性を有する被覆が一般に得られるように、拡張性熱プラズマ源から特定の距離以内に位置させる。
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プラスチック基板と選択不飽和を有するプラズマ重合したシクロシロキサンの結合層とからなる物品及びその形成方法。 (もっと読む)


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