【課題】歩留まりよくパターンを形成することができるパターン形成装置、パターン形成方法及びパターン形成用プログラムを提供する。
【解決手段】実施形態に係るパターン形成装置は、凹凸部を有するテンプレートを被転写物に押印し、凹凸部の形状が転写されたパターンを形成する装置である。パターン形成装置は、計算部と、調整部と、転写部と、を備える。計算部は、パターンの設計情報を用いてテンプレートをパターンから離型する際にパターンに加わる力の分布を計算する。調整部は、計算部で計算した力の分布を均一化するための形成条件及びパターンの設計情報の少なくともいずれかを調整する。転写部は、調整部で調整した形成条件及び設計情報の少なくともいずれかにより凹凸部の形状を被転写物に転写する。 （もっと読む）

【課題】実施形態によれば、下地段差に起因するパターン加工不良を抑制できるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、パターン形成方法は、被加工膜上に第１のインプリントレジストを形成し、第１のテンプレートの平坦面を第１のインプリントレジストの表面に接触させた状態で第１のインプリントレジストを硬化させ、第１のインプリントレジストの表面を平坦化する工程を備える。また、第１のインプリントレジストの平坦面上に形成された中間転写膜上に第２のインプリントレジストを形成し、第２のテンプレートの凹凸を第２のインプリントレジストに接触させた状態で第２のインプリントレジストを硬化させ、第２のインプリントレジストに凹凸パターンを形成する工程を備える。 （もっと読む）

【課題】テンプレートの洗浄時間を短縮できるテンプレート洗浄装置を提供すること。
【解決手段】実施形態のテンプレート洗浄装置は、表面に凹凸パターンおよび溝部が形成されているインプリント用のテンプレートの前記溝部のイメージを取得するためのイメージ取得手段１０を具備する。実施形態のテンプレート洗浄装置は、さらに、前記イメージ取得手段１０により取得された前記溝部のイメージと、予め取得しておいた基準イメージとを比較して、前記テンプレートの洗浄時間を決定する機能を含む洗浄時間決定手段１２を具備する。実施形態のテンプレート洗浄装置は、さらに、前記洗浄時間決定手段１２により決定された洗浄時間に基づいて、前記テンプレートを洗浄するための洗浄手段１３を具備する。 （もっと読む）

【課題】高精度で、且つ、低コストで半導体装置を製造するインプリント装置の動作方法を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、インプリント装置は、データ記憶手段と、制御手段と、転写手段とを有し、制御手段が、テンプレート毎に、データ記憶手段に記憶された、テンプレートの作製履歴データと、テンプレートの表面に形成されたパターンのパターンデータと、テンプレートを用いて硬化性樹脂に転写して得られたパターンの転写パターンデータとの少なくとも１つを読み出し、読み出されたデータに基づいて、あらかじめ準備した複数のグループの中から、テンプレートが紐付けられるべき１つのグループを選択し、あらかじめ準備した複数のインプリント条件の中から、選択されたグループに一対一対応するインプリント条件を選択し、転写手段により、選択されたインプリント条件に従って、テンプレートを用いて転写する。 （もっと読む）

【課題】インプリントパターンの欠陥の有無の検査を効率化する。
【解決手段】下地層１上に導電層２を形成し、導電層２上にインプリントパターン４を形成し、インプリントパターン４に電解液６を接触させ、電解液６に電極７を接触させ、導電層２と電極６との間に電圧を印加し、導電層２と電極７との間に流れる電流を計測し、その電流の計測結果に基づいてインプリントパターン４の欠陥の有無を判定する。 （もっと読む）

【課題】成形加工により成形された回折格子のシフト量を高精度に測定可能な成形型を提供する。
【解決手段】成形型５０は、回折光学素子を成形するための成形型であって、回折光学素子の形状を転写するのに対応する形状を有した第１転写面部５１と、当該第１転写面部５１の周辺部に設けられ、回折光学素子の検査に用いる検査用マークの形状を転写するのに対応する形状を有した円環状の第２転写面部５２とを有している。 （もっと読む）

【課題】型を複数回繰り返して使用することにより、平板状の基板の面に硬化した成型材料で構成された複数の凸部を設けてマスター型を製造するマスター型製造装置において、マスター型での不良の発生を防止する。
【解決手段】型Ｍ１を複数回繰り返して使用することにより、平板状の基板Ｗ１の面に硬化した成型材料で構成された複数の凸部Ｗ２を設けて、マスター型Ｍ２を製造するマスター型製造装置１において、凸部Ｗ２を形成するための型Ｍ１の凹部Ｍ３に供給された硬化前の成型材料を観察する硬化前観察カメラ１７を有する。 （もっと読む）

【課題】インプリント時の合わせずれについて精度の高い補正を可能とするナノインプリント法を提供すること。
【解決手段】実施の形態に係るナノインプリント法は、テンプレートを用いてインプリントし、第１の被転写基板上にパターンを形成する工程と、前記パターンの前記第１の被転写基板に対する合わせずれを計測する工程と、計測した前記合わせずれに基づいて合わせずれの補正を行ない、前記テンプレートから本番用テンプレートを作製する工程と、前記本番用テンプレートを用いてインプリントし、第２の被転写基板上にパターンを形成する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】凹凸形状を一側面に有する光制御板をより効率的に製造可能な光制御板の製造方法を提供する。
【解決手段】光制御板の製造方法では、押出し成形で形成した樹脂シートの一側面に形状ロールを利用して凹凸形状を付形して検査用光制御板１_Ｓを得て、検査用光制御板の凹凸形状が許容範囲内か否かを検査する。許容範囲内の場合、凹凸形状を有する樹脂シートを分割して光制御板とし、許容範囲内でない場合、形状ロールの温度及び樹脂シートの搬送速度の少なくとも一方を調整する。検査用光制御板を検査する工程では、凹凸形状の形成側と形成されていない側からそれぞれ光を入射した場合の第１及び第２の全光線透過率の少なくとも一方で規定されており凹凸形状を示す指標を取得し、基準光制御板に対する指標に基づいて、検査用光制御板に対する指標から、検査用光制御板の凹凸形状を評価する。 （もっと読む）

【課題】インプリント装置により形成された凹凸パターンの凹部の厚さの高精度な計測技術の提供。
【解決手段】分光エリプソメトリ法を用いてレジストの凹凸パターン凹部の厚さを決定する方法であって、前記凹凸パターンの凸部の厚さと前記凹部の厚さとの差分の厚さに対する計測精度と前記凹部の厚さに対する計測精度との差が大きい第１偏光状態の反射光の強度を複数の波長について計測する第１工程と、第１工程での計測の結果に基づいて前記凹部の厚さを第１精度で得る第２工程と、凹部の厚さに対する計測精度が優れた第２偏光状態の反射光の強度を前記複数の波長それぞれについて計測する第３工程と、第３工程での計測の結果に基づいて凹部の複数の厚さを第３精度で得る第４工程と、第４工程で得られた複数の厚さの中から前記第２工程で得られた厚さと前記第１精度とから定められた厚さの範囲内にある厚さを選択して前記凹部の厚さを得る第５工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】生産性が高く、テンプレートに欠陥が生じた場合に、欠陥の種類に応じて最適な歩留まりの管理を行うことができるインプリント方法、インプリント装置及びプログラムを提供する。
【解決手段】実施の形態のインプリント方法によれば、テンプレートに形成された凹凸パターンを基板上のインプリント材料に接触させて凹凸パターンをインプリント材料に転写する工程と、転写する工程の後にテンプレート又はインプリント材料に形成された凹凸パターンを撮像する工程とを複数回行う。次に、複数回の撮像する工程によって得られた複数の画像の経時的な変化に基づいて、テンプレートの欠陥の種類を判定する。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリント法では、ディスク基板のように中心部に開口部が形成された基板とモールドとの高精度な位置合わせが困難という問題がある。また、機械的接触による位置合わせマーク損傷による位置合わせ不良も問題となる。
【解決手段】微細な凹凸形状によりパターンを形成したモールドに、基板とモールドとの相対位置関係を決定するためのアライメントマークを同心円状に２箇所以上にする。更に、それぞれのマークの位置情報や形状から破損したマークを同定し、破損したマークを除いてモールドと樹脂膜が塗布された基板との位置合わせを行うことにより解決する。 （もっと読む）

【課題】超音波加工用ホーンに対する超音波の印加時間を可変するように制御して加工を行うことで、加工部材に対して正確な加工処理を行うことができる超音波加工装置を提供する。
【解決手段】超音波加工装置１は、導光板ワークを固定するワーク固定部と、前記導光板ワークに超音波加工を施す超音波加工用ホーンと、前記超音波加工用ホーンを移動させる移動機構９と、前記超音波加工用ホーンへの超音波の印加時間を前記導光板ワークに形成する凹部の深さに基づいて制御する制御手段とを有し、前記制御手段は、前記凹部の加工基準深さを得るための時間だけ前記超音波加工用ホーンに超音波を印加した後、所定の位置に移動してから、前記凹部の加工基準深さを得るための時間と前記凹部の加工基準深さから更に所定の深さを得るための時間とを足した時間だけ超音波を印加するように制御する。 （もっと読む）

【課題】摺動抵抗と強度のバランスがとれた摺動部材を提供すること。
【解決手段】多孔質フッ素樹脂膜を含む摺動部材であって、多孔質フッ素樹脂膜の孔に熱硬化性樹脂および潤滑剤を保持させたものを構成する。多孔質フッ素樹脂膜にエンボス加工を施してもよい。 （もっと読む）

【課題】 統一した基準でかつ1番目のショットからモールドによる成形の良否を判定できるインプリント装置を提供する。
【解決手段】 インプリント装置は、モールド10によって成形された樹脂を撮像する撮像部40と、前記撮像部により撮像された画像の少なくとも一部の領域を、前記撮像部による撮像に先立って予め設定された基準状態の画像と比較して、前記モールドによる成形の良否を判定する判定部である制御部100と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 熱プレス成形工程において成形素材の状態を精度よく判定することを課題とする。
【解決手段】 加熱した成形型２４，２８で成形素材３４を加圧する。超音波発振／受信装置４０は、成形型２８に超音波を発振し、成形型２８の表面で反射されて戻ってきた超音波反射エコーを受信する。制御部３２は、超音波発振／受信装置４０から供給される、超音波反射エコーの強度を表す信号に基づいて、成形型内における成形素材３４の状態を判定する。 （もっと読む）

【課題】モールドの汚染を簡単に検出することができるインプリント装置およびモールドの汚染検出方法を提供する。
【解決手段】インプリント装置によれば、基板２５の表面に保持される液状の樹脂材料２８に透明なモールド２９が重ね合わせられる。樹脂材料２８は、モールド２９の表面に規定されるナノパターン３１の形状に倣う。こうしたインプリント処理のたびにモールド２９の画像が撮影される。例えばモールド２９の表面に異物が付着すると、モールド２９および樹脂材料２８の間では異物の周囲に空気が溜まる。異物の周囲に空間が形成される。こういった空間は異物を拡大する。したがって、異物３２は画像上で簡単に検出される。こうした画像と基準画像とが比較されると、モールド２９の汚染は簡単に検出される。インプリント装置は常に清浄度の高いモールド２９を使用することができる。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリントを用いた被処理基板へのパターン形成時に、被処理基板に存在する凹凸や異物によってテンプレートが破損することを防止するパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】基板上に下地膜を形成する工程と、下地膜の表面に凹凸／異物が存在するか否かを検査する工程と、検査の結果を用いて、パターンを形成するショット領域に、凹凸／異物が存在するかを判定する工程と、ショット領域に凹凸／異物が存在しない場合には、第１のテンプレートをショット領域上の下地膜にレジスト剤を介して接近させてレジスト剤を固化させてマスクパターンを形成し、ショット領域に凹凸／異物が存在する場合には、第１のテンプレートとは異なる第２のテンプレートをショット領域上の下地膜にレジスト剤を介して接近させた状態でレジスト剤を固化する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】 従来の微細加工装置や方法においては、量産や実用用途に適用することは困難であった。
【解決手段】 原版を被加工物の表面に押し付けることにより、該被加工物に前記原板の凹凸のパターンを反転させて転写する微細加工方法は、前記被加工物に前記原版を押し付けることにより加工のための条件を決定する工程を有する。前記決定工程において決定される条件は、前記原版と前記被加工物との相対角度、および前記原版の温度の少なくとも一方を含む。 （もっと読む）

【課題】イトロ処理における添加剤の吐出量を調整して、適正で安定した燃焼状態を維持するようにしたイトロ添加剤吐出量制御装置を提供する。
【解決手段】燃料ガスおよび空気が供給されることによりワーク１１の火炎処理を行なうバーナー１３に対して、バルブから導入されるイトロ添加剤の添加量を調整するイトロ添加剤吐出量制御装置２０であって、バーナーの炎の色を撮像する撮像手段２１と、撮像手段２１からの撮像信号に基づいて、炎の色からイトロ添加剤の添加量を演算し、この演算結果であるイトロ添加剤の添加量に基づいて、イトロ添加剤の添加量が適正範囲内にあるかを判定する制御手段２２と、制御手段２２による判定結果に基づいて、バルブを調整することにより、イトロ添加剤の添加量を調整する調整手段と、を含んでいる。 （もっと読む）