【課題】スタンパや被転写体を破損することなく、同一のスタンパで繰り返し転写を可能とする微細構造転写装置を提供する。
【解決手段】微細な凹凸パターン６が形成されたスタンパ２を被転写体１に接触させ、前記被転写体１の表面に前記スタンパ２の微細な凹凸パターンＰを転写する微細構造転写装置Ａ１において、前記被転写体１の外周部の全周を保持する保持機構３を備え、前記被転写体１と前記スタンパ２との距離に対して、前記保持機構３と前記スタンパ２との距離が略等しくなるか、又は前記保持機構３よりも前記被転写体１の方が前記スタンパ２寄りに位置するように、前記保持機構３が前記被転写体１を保持している。 （もっと読む）

型と振動源の間に位置付けされ得る基板を軟化させるために振動エネルギーを使用することができるタッチ締結システムにおいて、フックタイプのファスナーとして使用するための基板上に突起を形成する装置および方法を記載する。型は、複数のキャビティを有することができ、このキャビティの中へ軟化した基板が押し込められて、突起を形成することができる。この基板は、フィルム、シート、ウェブ、複合材料、積層材などを含むことができ、一時的なまたは永続的な締結のための取付けストリップとして有用であり得る。振動源は、超音波ホーンであってもよい。このような突起を形成する方法は、連続的、半連続的または断続的に行うことができる。
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【課題】
レーザ彫刻およびインモールド転写技術によりプラスチック製品上にレーザ彫刻パターンを形成する方法およびその製品を提供する。
【解決手段】
まず、透明薄膜２１を有する転写薄膜２０を製作し、透明薄膜２１の底面に１層の紫外線硬化透明ワニスを塗布して保護層２２を形成した後、保護層２２の下方に１層の印刷層２３を塗布する工程と、射出成形金型のキャビティ中に転写薄膜２０を配置し、金型のキャビティ中にプラスチックを注入してプラスチック射出成形物品１０を形成し、プラスチック射出成形物品１０の表面に転写薄膜２０を貼り付ける工程と、保護層２２が貼り付けられたプラスチック射出成形物品１０の表面に紫外線を照射し、保護層２２を硬化させる工程と、レーザ彫刻機が生成させるレーザビーム３１により、プラスチック射出成形物品１０の表面上にレーザ彫刻パターンを形成させる工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリント装置におけるインプリント時のレジスト層の残渣を無くして、微細なパターンの形成、高密度なビットパターンド媒体を製作する。
【解決手段】レジストの表面に微小な凹凸パターンを有するモールド４１を押し当てることによって、モールド４１上の突起部４７で凹凸をレジストの表面に転写するナノインプリント装置において、モールド４１の突起部４７の頂面に連続する溝部４８を設けておき、モールド４１をレジストに押し当てる時に、レジストの一部がこの溝部４８内に収容されるようにして、レジスタの残渣が少なくなるようにしたナノインプリント装置である。 （もっと読む）

【解決手段】 高スループット且つ低コストのサブミクロン３Ｄ構造製品を製造するための３Ｄ鋳型を製造するプロセスが開示される。このプロセスは、２光子レーザリソグラフィと３Ｄ書き込み技術との使用を統合して、３Ｄ構造製品の各層の３Ｄ鋳型を作り、次に、ナノインプリントを使用して、その層の上記３Ｄ鋳型から３Ｄ構造の各層のポリマー薄膜シートを形成する。次に、ポリマー薄膜シートの各層は、サブミクロン３Ｄ構造製品に製造される。高スループット且つ低コストのサブミクロン３Ｄ構造製品の各層の３Ｄ鋳型がさらに使用されて、マスタ鋳型が作られ、次に、マスタ鋳型を使用して、３Ｄ構造の各層のポリマー薄膜シートが形成されて、サブミクロン３Ｄ構造製品が製造される。このプロセスを使用する適用例も開示される。 （もっと読む）

【課題】加工成果を損なわずに熱影響ゾーンが拡大されるようにする、高エネルギー放射線を用いた材料の改良加工方法を提供すること。
【解決手段】ポリマーマトリックス（１）に高エネルギー放射線、特にレーザービーム（９）を照射し、この際、前記放射線を焦点（１１）に集束させ、前記焦点（１１）は、これが、前記ポリマーマトリックス（１）の前記放射線と向き合った表面（３）の後方に位置するように調節され、前記ポリマーマトリックス（１）の材料除去が引き起こされ、それにより前記ポリマーマトリックス（１）の内部に反応空間（１３）が形成されるようにする。 （もっと読む）

【課題】巻きズレを抑制しながらも、フィルム同士の貼り付き、巻き緩み、シワおよび折れの発生を十分に抑制する光学フィルムを提供すること。
【解決手段】幅手方向（ＴＤ）両端のエンボス領域１０はそれぞれ独立して、凸領域２の面積率が２０〜８０％であり、かつ、以下に示す（Ｉ）または（ＩＩ）の要件を満たす光学フィルム；（Ｉ）エンボス領域１０が凸領域２を搬送方向で間欠的に形成してなる間欠的凸列１のみを２列以上で有し、巻き込みエアの抜けを阻害するように、各間欠的凸列１の凸領域ユニット２の配置を、搬送方向で隣り合う任意の２つの凸領域ユニット間および幅手方向で隣り合う任意の２列の凸列間について制御する；（ＩＩ）エンボス領域が凸領域を搬送方向で連続的に形成してなる連続的凸例を１列以上で有する。 （もっと読む）

【課題】レーザー光の照射領域の樹脂成形品の表面とレーザー光を照射しない部分とで色目が異なる、意匠性に富んだレーザーエッチング品の製造方法を提供する。
【解決手段】レーザー光照射によりレーザー光３が照射された領域が変色する樹脂成形品１の上に加飾層２が積層された加飾成形品６に対し、表面に加飾層２が積層された側から加飾成形品６の一部にレーザー光３を照射して、レーザー光３が照射された領域の加飾層２を除去し、さらにレーザー光３の照射を継続してその領域の樹脂成形品表面を変色させることにより変色部４を形成する。 （もっと読む）

【課題】より高い平坦性を有する平坦化物が得られる平坦化物の製造方法、平坦化物、及び被処理面の平坦化方法を提供する。
【解決手段】少なくとも基材１を有する平坦化物の製造方法であって、近接場光４ａ，４ｂ，４ｃを用いて被処理面をエッチングする近接場エッチング処理工程を有する平坦化物の製造方法とする。また、平坦化物は、この平坦化物の製造方法で製造される。さらに、被処理面の平坦化方法は、近接場光を用いて被処理面をエッチングすることにより、この被処理面２の最大突起５ａ，５ｂ，５ｃ長（Ｒｍａｘ）を１０ｎｍ以下とする。 （もっと読む）

【課題】被転写基板の局所的な突起に追従して微細パターンの転写不良領域を縮減することができると共に、微細構造体の破損を防止することができるインプリント装置を提供する。
【解決手段】微細構造体１１１を有するヘッド部１０１が、微細な凹凸形状が形成された微細パターン形成層１０２と、微細パターン形成層１０２の凹凸形状が形成された面の反対側の面に配置された樹脂層１０４と、樹脂層１０４の微細パターン形成層１０２に接する面と反対側の面に配置された第一加圧基材１０６と、第一加圧基材１０６の樹脂層１０４と反対側の面に配置された第二加圧基材１０８とを有するインプリント装置であって、樹脂層１０４の弾性率が微細パターン形成層１０２の弾性率よりも小さく、第一加圧基材１０６の弾性率が、樹脂層１０４の弾性率よりも小さいことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】微細な転写パターンが形成されているか、もしくは、微細な転写パターンが転写されるシート状の部材の取り扱いを容易にするシート状部材の保持具、シート状部材設置装置、及びシート状部材設置方法を提供する。
【解決手段】微細な転写パターンが形成されているか、もしくは、微細な転写パターンが転写されるシート状の部材Ｗを保持するシート状部材保持具１において、シート状の部材Ｗの少なくとも周辺部を、シート状部材保持手段１９のシート状部材保持体２７、２９と、ベース部材１７の斜面２３、２５とにより挟み込むことにより、シート状の部材Ｗを保持する。 （もっと読む）

【課題】低粘度で高い転写パターン精度を有しつつ、表面硬度、耐傷性に優れたナノインプリントリソグラフィ用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）で表され、分子量が５００以下である(メタ)アクリレート化合物を含む、光ナノインプリント用硬化性組成物。


（一般式（１）中のＲは、ぞれそれ、水素原子またはメチル基を表す。ｎは０以上の整数を表し、ｍは１以上の整数を表す。ＸおよびＹは、それぞれ、有機基である。但し、ｎが０のとき、Ｘは、水素原子であってもよい。） （もっと読む）

【課題】微小凹凸部分と絵柄層との見当を合わせることが容易で、かつ表面樹脂層の離型性の問題が生じず、また、ナノインプリント工程のスループットを向上できる加飾成形品の製造方法を提供する。
【解決手段】表面樹脂層２が形成された加飾成形品１１０を作製した後、表面樹脂層２にナノインプリント金型２０を押圧して微小凹凸を形成し、ナノインプリント金型２０を前記表面樹脂層２から引き離した後、前記微小凹凸が形成された表面樹脂層２に電離放射線２５を照射する。 （もっと読む）

【課題】微小凹凸部分と絵柄層との見当を合わせることが容易で、かつ表面樹脂層の離型性の問題が生じず、また、ナノインプリント工程のスループットを向上できる加飾成形シートの製造方法を提供する。
【解決手段】表面樹脂層２が形成された加飾成形シート１１０を作製した後、表面樹脂層２にナノインプリント金型２０を押圧して微小凹凸を形成し、ナノインプリント金型１１０を前記表面樹脂層２から引き離した後、前記微小凹凸が形成された表面樹脂層２に電離放射線２５を照射する。 （もっと読む）

【課題】光学フィルムの製造方法において、フィルム端部の切断加工において、レーザー強度が多少変動しても、切断面が乱れず、また、フィルムの膜厚に応じて、エンボス部の凹凸の高さを変化させる調整に時間を要することのない光学フィルムの製造方法を提供すること。
【解決手段】光学フィルムの製造方法において、レーザー光の波長を吸収する化合物を含有する光学フィルムに、前記レーザー光を照射して、前記光学フィルムを加工する工程を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ナノインプリントと乾式エッチング工程とを用いて多様な形態のナノインプリント用のレプリカモールドを製作する方法と製作されたナノインプリント用のレプリカモールドでナノインプリント工程を用いて多段パターンや微細パターンを成形する方法を提供する。
【解決手段】 金属パターンがパターニングされている基板のモールド用レジンをナノインプリントと乾式エッチング工程とを用いて、ナノインプリント工程を適用する上で難が多かった様々な形態のモールドを容易に製作し、複雑な工程を数回行うことなく、製作されたモールドでナノインプリント工程を用いてナノ級パターンや複雑な３次元形状の微細パターンの成形を可能にする工程方法を提供する。これにより、大面積微細パターンの成形及び半導体工程の数十ナノパターンへの適用が可能になり、工程費用の低減、工程時間の短縮及び製造収率の向上が図られる。 （もっと読む）

【課題】 ナノインプリント工程を用いて３次元微細パターンや多段パターンを成形する方法とこのようなパターンを成形するためのモールドの製作方法を提供する。
【解決手段】 紫外線を遮断できる遮断膜がパターニングされている基板上にモールド用ポリマーをパターニングすることによって、ナノインプリント工程を適用する上で難が多かった多段インプリント用のモールドを１段形態に容易に製作し、製作された１段形態のモールドを用いて、複雑な工程を数回行うことなく容易に多段形態のパターンを成形することによって、大面積微細パターンの成形、平板ディスプレイに使われる大面積パターンの成形、さらには半導体工程の数十ナノパターンに適用し、工程コスト低減、工程時間短縮及び製造収率向上に寄与できる工程方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】透過性に優れた硬化物が得られるナノインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）少なくとも２種類の反応性の異なる硬化性官能基を同一分子内に有する単量体と、（Ｃ）酸化防止剤とを含有するナノインプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】樹脂基材との間の密着性が高いＵＶナノインプリント成型体を得ることができるＵＶナノインプリント成型体の製造方法を提供すること。
【解決手段】ＵＶ硬化樹脂３は、樹脂全体に対して水酸基を含む樹脂を２５重量％〜６０重量％含有する。本発明の方法により得られたＵＶナノインプリント成型体は、図２に示すように樹脂基材２とＵＶ硬化樹脂３とが結合していると考えられる。すなわち、樹脂基材２、例えばＰＥＴフィルムの表面には、酸素で終端された分子が存在する。本発明の方法で用いるＵＶ硬化樹脂３は、樹脂全体に対して水酸基を含む樹脂を２５重量％〜６０重量％含有するので、図２に示すように、水酸基（ＯＨ基）が多く存在する。このため、樹脂基材２表面の酸素とＵＶ硬化樹脂３の水酸基との間で水素結合が形成されることとなる。これにより、樹脂基材２とＵＶ硬化樹脂３との間の密着性が高いＵＶナノインプリント成型体を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 積層構造を有する構造体の二層目以降に確実にレーザマーキングを施して、マーキング部分の傷つき、汚れ、改ざん、抹消を防止するとともに、多彩な色でマーキングを施すことを可能とする。
【解決手段】 内層１２と外層１１を積層した構造の構造体１０であって、内層１２が、特定の波長に対して不透過性を示す樹脂で形成され、外層１１が、特定の波長に対して透過性を示す樹脂で形成され、内層１２の表面１３のうち外層１１に対向する面の少なくとも一部に、光分解の生起により形成された凹凸形状の微細周期構造１４を有した。 （もっと読む）