説明

Fターム[4F209PA15]の内容

曲げ・直線化成形、管端部の成形、表面成形 (35,147) | 表面成形の区分 (2,868) | 非機械的手段によるもの (189) | 波動エネルギー、粒子線照射を利用するもの (147)

Fターム[4F209PA15]に分類される特許

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【課題】 ナノインプリント技術により記録媒体を製造する方法において、モールドとディスク基板との位置合わせが、モールドに突起物を取り付けなくても行えるようにする。
【解決手段】 凹凸パターン2が形成されたモールド1に、ディスク基板4と位置合わせするときに使用するアライメントマーク3を形成しておく。このアライメントマークを利用して、モールド1とディスク基板4との位置合わせを行い、その後、レジストが塗布されたディスク基板にモールドを押し付けて、レジスト膜8にモールド1の凹凸パターンを転写する。以降、このレジストパターンをマスクとするエッチング工程を経て、ディスク基板の記録面に記録層を形成する。本発明により、アライメントマークを利用した、モールドとディスク基板との位置合わせ方法を確立できた。 (もっと読む)


【課題】プラスチック成形品に生じている歪を、短時間で容易かつ精度よく除去できるようにする。
【解決手段】プラスチック成形品2を、ベース治具5と固定治具6とで挾持して位置固定する。この状態で、プラスチック成形品2の歪発生部に、レーザ光源4からのレーザ光3を照射する。これにより、歪に伴ない発生していたプラスチック成形品2の変位量Dが次第に少なくなるので、これをセンサ7で確認し、歪が除去されて変位量Dが零になった時点で、レーザ光3の照射を停止させる。 (もっと読む)


本発明は、箔が1μm〜1000μmの厚さDを有しており、箔の中に少なくとも1つの中空構造があり、中空構造の外径dは箔の厚さDの少なくとも2倍の値を有しており、中空構造の高さhは外径dの高々2倍の値をとり、中空構造の壁強度bは箔の厚さDの0.02倍から箔の厚さDまでの間にあり、中空構造の局所的曲率rは壁強度bの0.2倍から5倍までの間にあり、前記箔と前記少なくとも1つの中空構造が多数の有利には統計的に分布した細孔を有しており、細孔の直径が好ましくは10nm〜10μmであるような、箔から成る成形体に関するものである。
本発明はさらに、上記成形体を形成する方法と、上記成形体の、マイクロ構造化された部材のハウジングとしての使用、無機分子または有機分子、生体分子、原核細胞または真核細胞の固定化のための使用、原核細胞または真核細胞の培養のための使用、バイオセンサまたはバイオリアクタとしての使用にも関するものである。
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【課題】樹脂を硬化させることにより所望の凹凸パターンを備えたフィルムを製造する製造装置であって、不完全形状の生じにくいフィルム製造装置を提供する。
【解決手段】所望の形状が表面に刻まれた型ロール14と押しロール17との間に未硬化の樹脂層22を通過させ樹脂層22を前記形状に成型するフィルムの製造方法であって、樹脂層の幅を型ロール14の幅よりも狭く、厚さを型ロール14と押しロール17との間隔よりも厚く形成しておくことにより、型ロール14と押しロール17との会合部に樹脂層を構成する樹脂が滞留しながら幅方向に押し広げられる滞留部23を形成する。この滞留部において、気泡が脱気されるため、不完全形状が生じにくい。 (もっと読む)


【課題】大面積かつ軽量であり、ナノサイズ程度の微細凹凸も可能な凹凸パターンを有するフィルム構造体及びその形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】モールド3の凹凸パターン4をフィルム10の表面に転写して凹凸パターンを形成するフィルム構造体20の形成方法であって、モールド3の凹凸パターン4又はその近傍、もしくはフィルム10の表面又はその近傍に、選択的に光を吸収する光吸収層5を設け、フィルム10をモールド3と加圧手段2との間に配置し、加圧手段2を加圧した状態で光Lを照射して、モールド2の表面の温度を上昇せしめ、フィルム10の表面に凹凸パターンを形成する。 (もっと読む)


細長い線状ポリマー層を含む事前フォーマット済み線状光データ記憶媒体を製造するための機器。この機器は、回転軸のまわりを回転するように取り付けられたドラムを含んでおり、そのドラムは、細長い線状ポリマー層がドラム上に巻き付けられるときに、光学的可読エンボスの少なくとも1つのパターンをその層内にエンボス加工するための、突起の所定のパターンを有する周外面を含んでいる。また、この機器は、細長い線状ポリマー層がドラムの外面の突起から取り除かれる前に、その層のエンボスを加熱するための、ドラムに隣接して配置される熱放射源も含んでいる。
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マイクロレンズなどの光学的微細構造体が、放射線感応層をその上に含むシリンダ形プラットフォームをその軸の周りに回転させ、それと同時に放射線感応層の少なくとも一部分にわたって放射線ビームを軸方向にラスタ走査することによって形成される。シリンダ形プラットフォームはまたそれが回転している間にそれと同時に軸方向に並進させられる。放射線ビームの振幅はラスタ走査している間に連続に変えられる。放射線感応層内に結像した光学的微細構造体はマイクロレンズを複製するためのマスタ型を提供するために現像されることが可能である。

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