【課題】 粒径数μｍ程度の単結晶粒子からなるアルファサイアロン蛍光体とその製造方法、その中間生成物、製造に用いる原料粉末及び該蛍光体を用いたＬＥＤランプの提供。
【解決手段】 一般式：Ｍ_ｘ（Ｓｉ，Ａｌ）_１２（Ｏ，Ｎ）_１６、（式中、ＭはＣａ，Ｙ，Ｍｇ，Ｌｉ，Ｓｃ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｐｍ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，Ｙｂ，Ｌｕ，Ｓｒからなる群から選択される少なくとも１種の元素を表し、ｘは０＜ｘ≦２の範囲である。）で表され、主相がアルファサイアロン結晶構造を有し、前記式中のＭの少なくとも１種がアルファサイアロン結晶構造中に固溶されて発光中心となる元素であり、紫外光又は青色光で励起されて可視光又は近赤外光を発光するアルファサイアロン蛍光体であって、その長手方向の長さが１μｍ〜３０μｍの単結晶粒子であることを特徴とするアルファサイアロン蛍光体。 （もっと読む）

【課題】高温アンモニアガスに対する耐性と耐磨耗性があり、しかもＢ_２Ｏ_３放出の少ない３−５族化合物製造装置用部材を提供する。
【解決手段】窒化硼素と窒化珪素とを含む複合焼結体からなり、エタノール可溶の酸化硼素含有量が０．１質量％以下（０％を含む）で、相対密度が８０％以上であることを特徴とする３−５族化合物製造装置用部材。平均粒径が５〜２５μｍ、エタノール可溶の酸化硼素含有量が１質量％以下（０％を含む）である窒化硼素粉末を１０質量%以上と、窒化珪素粉末を９０質量％以下とを含み、両粉末の合計が９０質量％以上（１００％を含む）である混合粉末を、非酸化性雰囲気下又は真空中、焼結することを特徴とする上記３−５族化合物半導体用部材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 窒化アルミニウム焼結体製造工程の中間体で、これを焼結して得られる窒化アルミニウム焼結体が所定の熱伝導率あるいは所定の黒色度を満足するような、窒化アルミニウム焼結体の中間体を提供する。
【解決手段】 窒化アルミニウム焼結体の製造工程において、有機化合物を含有する窒化アルミニウム成形体を非酸化性雰囲気中にて脱脂して得られた脱脂中間体であって、ＪＩＳ Ｚ ８７２１に規定する明度がＮ６以下、好ましくはＮ４以下である。この窒化アルミニウム脱脂中間体を非酸化性雰囲気中で焼成することにより、不良品を発生させることなく、高熱伝導率あるいは黒色度の高い窒化アルミニウム焼結体を確実に製造することができる。 （もっと読む）

【課題】非酸化物系セラミックスの表面に安定した超平滑な表面を形成したセラミック複合体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ケイ素及び酸化物を主成分とする混合粉末を成形する工程と、成形後、窒素ガスを含気流中で焼成し、前記ケイ素を窒化ケイ素に転化させると同時に焼結せしめる工程と、酸素を含む雰囲気中で加熱し、前記焼結体内部に存在する酸化物を毛管現象によって表面に染み出させた後、冷却して固化させる工程により、緻密で超平滑な表面を形成したセラミック複合体を製造する方法、及び平滑で緻密な表面を形成したセラミック複合体。
【効果】本発明によれば、加工や吹きつけでは得ることが困難な超平滑で安定な表面を有するセラミック焼結体及びその製造方法を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、気孔率と平均細孔径が共に大きく、しかも細孔径の小さい気孔が少ない気孔分布を有し、低圧力損失でＤＰＦとして好適な窒化ケイ素質フィルタの製造法を提供する。
【解決手段】金属ケイ素粒子３５〜５８質量％と、有機高分子粒子３０〜６２．５質量％と、有機物残炭防止剤である無機粒子Ａと、窒化ケイ素の焼結助剤である無機粒子Ｂとを含む成形体を、窒素中で熱処理することにより実質的に金属ケイ素を窒化ケイ素とする窒化ケイ素質フィルタの製造法。 （もっと読む）

【課題】高強度と高靭性に加えて高い熱伝導率を具備した窒化ケイ素質焼結体を提供する。
【解決手段】Ｙ及び希土類元素（ＲＥ）からなる群から選ばれた少なくとも１種の元素とＭｇとが焼結助剤の成分として添加された窒化ケイ素質焼結体であって、Ｙ及び前記希土類元素を希土類酸化物（ＲＥ_ｘＯ_ｙ）に換算し、前記Ｍｇを酸化マグネシウム（ＭｇＯ）に換算したとき、これら酸化物に換算した酸化物含有量の合計が０．６〜１０ｗｔ％で、かつ（ＲＥ_ｘＯ_ｙ）／（ＭｇＯ）で表される重量比が１より大きく、前記焼結助剤の成分、酸素、窒素、及びシリコンが含まれる、平均粒径１００ｎｍ以下の微細粒子が前記窒化ケイ素質焼結体を構成する窒化ケイ素粒子内に析出している。 （もっと読む）

【課題】 「色むら」や「しみ」の発生を抑制できる窒化アルミニウム基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 成形体を所定の焼結温度ＴＳで焼結して焼結体を得る焼結工程と、焼結体を所定のアニーリング温度ＴＡでアニーリングするアニーリング工程と、を備える。アニーリング工程においては、焼結体を所定のアニーリング温度ＴＡとなるまで加熱し、続いて焼結体をアニーリング温度ＴＡで所定時間維持し、その後焼結体の温度をアニーリング温度ＴＡから冷却する。アニーリング温度ＴＡはＴＡ≦ＴＳを満たすように定められ、焼結体を１２００℃からアニーリング温度ＴＡまで加熱する際の昇温速度が２００℃／ｈ以下であり、焼結体をアニーリング温度ＴＡから１２００℃まで降温する際の降温速度が２００℃／ｈ以下である。 （もっと読む）

【課題】窒化けい素セラミックス基板を用いて各種パワーモジュールを構成した際にリーク電流の発生を効果的に抑制することができ、大電力化および大容量化したパワーモジュールにおいても絶縁性および動作の信頼性を大幅に向上させることが可能な窒化けい素セラミックス基板およびそのセラミックス基板を使用した回路基板を提供する。
【解決手段】粒界相中の最大気孔径が０．３μｍ以下の窒化けい素焼結体から成り、温度２５℃，湿度７０％の条件下で上記窒化けい素焼結体の表裏間に１．５Ｋｖ−１００Ｈｚの交流電圧を印加したときの電流リーク値が１０００ｎＡ以下であり、熱伝導率が５０Ｗ／ｍ・ｋ以上、３点曲げ強度が５００ＭＰａ以上であり、残留炭素含有量が５００ｐｐｍ以下であることを特徴とする窒化けい素セラミックス基板２である。 （もっと読む）

【課題】 窒化アルミニウム焼結体中の気孔を極力減少させることにより、均熱性に優れたサセプタを提供する。
【解決手段】 本発明の窒化アルミニウム焼結体は、含有するビスマスと塩素の量を一定値以下に制御する。すなわち、窒化アルミニウムを主成分とする窒化アルミニウム焼結体において、窒化アルミニウム焼結体中のビスマスの含有量が３０ｐｐｍ以下であり、かつ塩素の含有量が１００ｐｐｍ以下であることを特徴とする。前記窒化アルミニウム焼結体に、抵抗発熱体が形成されていることが好ましく、半導体加熱用部品として使用されることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 窒化珪素と同等の熱膨張係数を有し、緻密質で最大ボイド径が小さく、窒化珪素よりも加工性が高められたサイアロン焼結体を用いた半導体製造装置用部剤材を提供する。
【解決手段】 半導体製造装置用部材はβ−サイアロン焼結体からなり、その相対密度は９０％以上であり、最大ボイド径が３０μｍ以下であり、ヤング率が２５０ＧＰａ以上であって、室温における熱膨張係数が１．４×１０^-６／℃±０．３０×１０^-６／℃を有し、所定の機械加工速度が所定の緻密な窒化珪素焼結体の１．５倍以上である。このβ−サイアロン焼結体は、比表面積が１４ｍ^２／ｇ以上の窒化珪素粉末に化学式Ｓｉ_６−ＺＡｌ_ＺＯ_ＺＮ_８−ＺにおけるＺ値が２以上３以下となるように酸化アルミニウム粉末を添加混合し、得られた混合粉末を所定の圧力で成形し、１６００〜１８００℃で焼成することにより作製される。 （もっと読む）

【課題】複合セラミックスの工業規模での安定かつ効率的な製造方法を提供すること。
【解決手段】炭化ケイ素、仮焼後にその全部又は一部が炭素に転換し得る有機物、及び焼結助剤を湿式混合して得られた混合物を乾燥する工程（１）、及び工程（１）で得られた乾燥物を粉砕し、得られた粉砕物を仮焼する工程（２）を有する複合セラミックスの製造方法であって、工程（１）で得られた乾燥物の粉砕を、それにより得られる粉体粒子の粒径分布において、重量分布50%の粒子径が425〜1200μｍ、重量分布10％の粒子径が50〜250μｍ、かつ重量分布90％の粒子径が1000〜3000μｍとなるように行う、複合セラミックスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 耐摩耗性及び耐欠損性に優れた窒化珪素質焼結体、窒化珪素質工具、切削インサート、及び切削工具を提供すること。
【解決手段】 切削インサート（スローアウェイチップ）１は、窒化珪素を主成分とする窒化珪素質焼結体かにより構成されており、板厚方向からみて正方形の板状のチップ（例えばＩＳＯ ＳＮＧＮ４３２）である。尚、切削インサート１の寸法は、縦；１２．７ｍｍ、横；１２．７ｍｍ、高さ；４．７６ｍｍである。特にこの切削インサート１では、表面から２０μｍの深さにおける硬度が１６ＧＰａ以上であり、且つ、表面から２０μｍの深さにおけるヤング率が、表面から１０００μｍの深さにおけるヤング率の１．０５倍以上１．２０倍以下である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、プラズマ耐食部材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】窒化アルミニウムを主体とし、１Ｇ（１０^９）Ｈｚ以上において誘電損失（ｔａｎ δ）が５×１０^−３以下であることを特徴とするプラズマ耐食材料、及び窒化アルミニウムを主体とし、酸化イットリウムと酸化マグネシウム又は窒化マグネシウムとを微量添加して焼結することにより、マイクロ波焼結や高ガス圧力焼結といった特別な焼結装置を用いることなく、また焼結後の再加熱や広い温度範囲において毎分０．７℃といった極端に遅い冷却速度で長時間に渡り徐冷をすることなく、フッ化物系反応ガスを含む１ＧＨｚ以上の高周波プラズマに曝されるプラズマ耐食部材の誘電損失（ｔａｎ δ）が５×１０^−３以下の誘電損失特性の優れたプラズマ耐食部材を製造する。 （もっと読む）

【課題】セラミックスヒータの高温耐食性被覆表面での燃料の安定燃焼温度を、例えば、従来の１５００℃から１３００℃程度にまで低下させ、腐食速度を更に抑制し、且つ、腐食を更に長時間に亘り抑制することを可能とする新規高温高耐食性被膜及びこの被膜で被覆されたセラミックスヒータ等を提供する。
【解決手段】燃焼触媒機能が付与された高温耐食性被膜であって、希土類シリケート層のシリコンサイトをマンガンで一部置換した複酸化物層、希土類シリケート層とガンマアルミネート層もしくは希土類マンガナイト層とから構成される多層被膜、又は希土類シリケート相とガンマアルミネート相もしくは希土類マンガナイト相とから構成される複合相被膜からなる高温高耐食性被膜、及びこの高温高耐食性被膜を被覆したセラミックスヒータ。 （もっと読む）

【課題】窒化アルミニウムの特性を維持しつつ、その耐食性を向上させる。
【解決手段】窒化アルミニウム質セラミックス１０は、窒化アルミニウム粒子と粒界相とを備える。更に、窒化アルミニウム質セラミックス１０は、その表層に内部１１よりも粒界相を多く含む粒界相豊富層１２を備える。そして、その粒界相豊富層１２における粒界相は希土類元素又はアルカリ土類元素の少なくとも１つを含有する。 （もっと読む）

セラミック体（２０）、ならびにその製造法であって、該セラミック体は、酸窒化アルミニウムおよびウイスカー、（および必要に応じて）１以上の炭窒化チタン、および／またはアルミナ、および／またはジルコニア、および／または他の成分を含有する。
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【課題】熱的に安定で直接焼結に好適な多重元素ナノ粉末とその製造方法を提供する。
【解決手段】Ｓｉ／Ｃ／Ｎ／Ｅ_a／Ｆ_b／Ｇ_c／Ｏ多元素ナノ粉末（Ｅ、Ｆ、およびＧはＳｉ以外の互いに異なった金属原子を示し、ａ、ｂ、およびｃの少なくとも一つは非ゼロである）の製造方法を提供する。この粉末は、少なくとも一つの金属前駆体、該少なくとも一つの金属前駆体の唯一の溶媒として用いられるヘキサメチルジシラザンＳｉ₂Ｃ₆ＮＨ₁₉、およびシランＳｉＨ₄を有してなるエアロゾルのレーザー熱分解により得る。該粉末中の各粒子は、Ｓｉ、Ｃ、Ｎ、Ｅ_a、Ｆ_b、Ｇ_c、およびＯの全ての元素を含有し、その等量化学量論的化合物で表した化学組成において遊離炭素の含有量が２％未満、ＳｉＯ₂の含有量が１０％未満である。該ナノ粉末の、Ｓｉ₃Ｎ₄／ＳｉＣ複合セラミックを製造するための使用。 （もっと読む）

窒化アルミニウム（１０１面）のＸ線回折強度ＩＡｌＮに対するＡｌ_２Ｙ_４Ｏ_９（２０１面）のＸ線回折強度ＩＡｌ_２Ｙ_４Ｏ_９の比（ＩＡｌ_２Ｙ_４Ｏ_９／ＩＡｌＮ）が０．００２〜０．０３であり、熱伝導率が２２０Ｗ／ｍ・Ｋ以上、三点曲げ強度が２５０ＭＰａ以上であることを特徴とする高熱伝導性窒化アルミニウム焼結体である。上記構成によれば、熱伝導率が高く放熱性が優れた窒化アルミニウム焼結体を提供することができる。 （もっと読む）

顕著に向上した有効寿命及び耐食性を有する金属蒸発用の耐火性容器であって、耐火性ホウ化物、窒化ホウ素、及び酸化物、窒化物、炭化物又はこれらの混合物の１種から選択される希土類金属化合物約０．１０〜１０ｗｔ％から実質的になる耐火性容器。 （もっと読む）

窒化珪素の結晶と、第１金属珪化物（Ｆｅ、Ｃｒ、ＭｎおよびＣｕのうち少なくとも１つの第１の金属元素からなる金属珪化物）、第２金属珪化物（Ｗ、Ｍｏのうち少なくとも１つの第２の金属元素からなる金属珪化物）、第３金属珪化物（第１の金属元素と第２の金属元素を含む複数金属成分からなる金属珪化物）のうち少なくとも２つを含む粒界層とを有し、前記粒界層が第１〜第３金属珪化物のうち少なくとも２つが互いに接する隣接相を有する窒化珪素質焼結体とする。 （もっと読む）