【課題】 本発明の目的は、相分離性の母体ガラス膜の組成変動を抑制し、透過率が高い光学部材を得ることである。
【解決手段】 基材１上に多孔質ガラス膜２を備える光学部材の製造方法であって、基材１上にガラス粉体３を含むガラス粉体膜４を形成する工程と、酸素濃度が２０％より大きい雰囲気下でガラス粉体膜４を加熱して融着し、基材１上に相分離性の母体ガラス膜５を形成する工程と、母体ガラス膜５を加熱して、基材１上に相分離ガラス膜６を形成する工程と、相分離ガラス膜６をエッチング処理して基材１上に多孔質ガラス膜２を形成する工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】光線の反射により、対応する明晰な光の図案を出現させる曲率変化図案を備えるガラス面及びその製造方法を提供する。
【解決手段】曲率変化図案を備えるガラス面及びその製造方法は、ガラス１本体外表の滑らかな面１２上に、複数の圧力区域１３を配列して組成する予定図案Pを設置し、各圧力区域１３の圧力値は50Mpa以上で、こうして滑らかな面１２上には予定図案Pに対応する曲率変化図案P’を形成し、ガラス１面の製造方法は、表面ラフ度(Ra)が約0.12μm以下のガラス１滑らかな面１２上にカバー２を設置し、カバー２上には複数の中空部２１を配列して組成する予定図案Pを設置し、ガラス１滑らかな面１２に対して化学イオン強化プロセスを行い、滑らかな面１２上にはカバー２の中空部２１に対応する複数の圧力区域１３を形成し、カバー２を除去し、滑らかな面１２を洗浄し、こうしてガラス１滑らかな面１２上にカバー２の予定図案Pに対応する曲率変化図案P’を形成する。 （もっと読む）

【課題】ガラス基材の割れおよび反りの発生を抑制して高品質の膜を成膜する。
【解決手段】３００℃以上かつガラスの歪点より低い第１加熱温度下で、ガラス基材上に酸化物前駆体を溶質として含む水溶液を噴霧して１層目の膜を形成する第１成膜工程と、第１加熱温度より高い第２加熱温度下で、ガラス基材上に酸化物前駆体を溶質として含む水溶液を噴霧して２層目の膜を形成する第２成膜工程とを備える。また、第２成膜工程後に、ガラス基材をガラスの徐冷点以上の温度下で保持する歪取工程と、歪取工程後に、ガラス基材を室温まで徐冷する徐冷工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題はサンドブラスト法とエッチング法を用いたガラス基材の穴形成工程を含むガラス基板の製造方法において、穴の内壁に微細なクラックの無いガラス基板を生産性良く製造することを可能とするガラス基板の製造方法を提供することにある。
【解決手段】ガラス基材の少なくとも片面に樹脂層を形成する工程、樹脂層を露光し現像する工程、サンドブラスト処理することでガラスに穴を形成する工程、樹脂層を加熱する工程、エッチング処理する工程をこの順に含むことを特徴とするガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】磁気記録媒体用ガラス基板の記録再生領域の全面について、微小うねりの変化量が所定の範囲内にある、磁気記録媒体用ガラス基板、及び、該磁気記録媒体用ガラス基板を用いた磁気記録媒体を提供することを目的とする。
【解決手段】一対の主平面と、外周端面と、内周端面と、を有する磁気記録媒体用ガラス基板であって、少なくとも一方の主平面は、主平面の全面に設定される格子状の各評価領域で微小うねり（ｎＷｑ）を測定したとき、一の評価領域と、これに隣接する評価領域との間における微小うねりの変化量の絶対値（ΔｎＷｑ）は、前記一の評価領域の微小うねりに対する比率が１０％以下であることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板、及び、該磁気記録媒体用ガラス基板を用いた磁気記録媒体を提供する。 （もっと読む）

【課題】化学強化後のガラス基板の寸法精度を向上できる携帯機器用カバーガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板１００を化学強化処理液に接触させることにより、ガラス基板１００の中に含まれる一部のイオンを、そのイオンよりも大きなイオン半径である化学強化処理液中のイオンとイオン交換することによりガラス基板を化学強化する化学強化工程を含む携帯機器用カバーガラスの製造方法であって、化学強化工程前のガラス基板１００の寸法に基づいて、化学強化工程後のガラス基板１００の寸法が携帯機器用カバーガラスに求められる寸法になる化学強化条件で、ガラス基板１００を化学強化することを特徴とする。 （もっと読む）

【解決手段】半導体用ガラス基板の少なくとも一方の面に非貫通の穴、溝又は段差を有し、非貫通の穴、溝又は段差の側面と基板の非貫通の穴、溝又は段差を有する面との間に第１の面取り部が存在し、上記非貫通の穴、溝又は段差の側面及び底面が鏡面であると共に、上記第１の面取り部が鏡面である、半導体用ガラス基板。
【効果】本発明によれば、ＩＣ等の製造に重要な光リソグラフィ法において使用されるフォトマスク基板用合成石英ガラス基板やナノインプリント用モールド基板等の非貫通の穴、溝又は段差を有する半導体用ガラス基板おいて、形状精度が高く、底面及び側面が鏡面である非貫通の穴、溝又は段差を有し、非貫通の穴、溝又は段差において割れ及び欠けが発生しにくく、高い強度及び清浄度を有する半導体用合成石英ガラス基板を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】十分なイオン強化が可能なガラス板を提供する。
【解決手段】ガラス板１は、表層１ａ，１ｂにおけるＮａ_２Ｏ換算でのＮａイオンの含有率と、中央層１ｃにおけるＮａ_２Ｏ換算でのＮａイオンの含有率との差が、１．０質量％以下である。 （もっと読む）

【課題】酸化ジルコニウムを研磨材として含有する研磨液を用いてガラス基板の主表面を研磨するときに、ナノピット、ナノスクラッチが生じ難くするようにした磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク、及び磁気記録再生装置を提供すること。
【解決手段】モノクリニック結晶構造（Ｍ）とテトラゴナル結晶構造（Ｔ）を有する酸化ジルコニウム砥粒を研磨材として含有する研磨液を用いてガラス基板の主表面を研磨する研磨工程を有する。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク用ガラス基板の主表面を研磨するときに、良好な研磨速度を確保すること、主表面にスクラッチ等のキズが生じ難くすること、及び、主表面の縁部のだれを生じに難くすることを可能とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク、及び磁気記録再生装置を提供すること。
【解決手段】イットリウムを含有する部分安定化ジルコニアを研磨材として含む研磨液を用いて研磨する。 （もっと読む）

【課題】充分な厚みの圧縮応力層を有していることにより優れた耐衝撃性を有し、かつ、高平滑性を備えるとともに、高温高湿環境下においても歪みの発生しにくいＨＤＤ用ガラス基板および該ＨＤＤ用ガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】一対の主表面に圧縮応力層が設けられたＨＤＤ用ガラス基板であって、前記主表面にイオン交換層を有さず、前記圧縮応力層の厚みが２〜３０μｍであることを特徴とするＨＤＤ用ガラス基板。 （もっと読む）

【課題】両面研磨装置を用いたガラス基板の磁気薄膜層形成予定面のみに研磨を行なった場合であっても、磁気薄膜層形成予定面に微小な凹凸の発生を抑制することが可能な、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】第１キャリア２０５ａに保持されるガラス基板１Ｇの磁気薄膜層形成予定面１４とは反対側の面１５と補助プレート２０６の表面との間の水平方向に生じる摩擦力をＦ１、前記予定面１４と第１研磨部材２０３との間の水平方向に生じる摩擦力をＦ２とし、第２キャリア２０５ｂに保持されるガラス基板１Ｇの磁気薄膜層形成予定面１４とは反対側の面１５と補助プレート２０６の表面との間の水平方向に生じる摩擦力をＦ３、この予定面１４と第２研磨部材２０４との間の水平方向に生じる摩擦力をＦ４とした場合、Ｆ１／Ｆ２およびＦ３／Ｆ４の値が、０．８以上１．７５以下となる条件の下で、磁気薄膜層形成予定面１４の研磨を行なう。 （もっと読む）

【課題】化学強化処理において溶融塩の寿命を長く保つことができ、安定した特性の強化ガラス製品が得られるイオン交換ガラス物品の製造方法を提供する。
【解決手段】Ｌｉ含有組成のガラス物品を、当該ガラスに含まれるＬｉよりもイオン半径が大きいアルカリ金属元素を含む溶融塩融解液と接触させることにより、前記ガラス物品中のＬｉと前記溶融塩融解液中のアルカリ金属とをイオン交換するイオン交換工程を含むイオン交換ガラス物品の製造方法である。ここで、上記溶融塩融解液には、ＮａＦ、ＫＦ、Ｋ_３ＡｌＦ_６、Ｎａ_２ＣＯ_３、ＮａＨＣＯ_３、Ｋ_２ＣＯ_３、ＫＨＣＯ_３、Ｎａ_２ＳＯ_４、Ｋ_２ＳＯ_４、ＫＡｌ(ＳＯ_４)_２、Ｎａ_３ＰＯ_４、Ｋ_３ＰＯ_４からなる群より選ばれる少なくとも１種類の添加物を添加して、当該添加物が固体状態で上記イオン交換工程を行う。 （もっと読む）

【課題】作業効率を高く維持しつつ、ガラスカレットが機能膜に付着することを確実に防止することが可能なフラットパネルディスプレイ用機能膜付ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】フラットパネルディスプレイ用機能膜付ガラス基板の製造方法は、ガラス基板１０に対して導電材料の液滴を吐出することによって導電膜を形成する。このフラットパネルディスプレイ用導電膜付ガラス基板の製造方法は、所望のサイズのパネル状に切断された複数のガラス基板１０を単一のシート状に配列するステップと、複数のガラス基板１０の配列状態に応じた所定パターンで導電材料の液滴を吐出するステップと、を含む。 （もっと読む）

【課題】異なる組成又は色調のガラスを一体成形するガラスの成形方法及び一体化ガラスを提供する。
【解決手段】組成又は色調の少なくとも一方が異なるガラスＧ１，ガラスＧ２を一体化するガラスの成形方法であって、ガラスＧ２を囲繞するようにガラスＧ１を配置する工程と、ガラスＧ２を囲繞した状態でガラスＧ１及びガラスＧ２を型枠内に収容する工程と、ガラスＧ１及びガラスＧ２を型枠内に収容した状態で、ガラスＧ１及びガラスＧ２を軟化点以上に加熱する工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】板厚が薄い状態で高い強度を示し、機器に装着した際に機器の薄型化を図ることが可能である携帯端末用カバーガラスを提供すること。
【解決手段】本発明の携帯端末用カバーガラス１は、板状のガラス基板の主表面にレジストパターンを形成した後、前記レジストパターンをマスクとして、エッチャントで前記ガラス基板をエッチングすることにより所望の形状に切り抜かれてなる、携帯端末の表示画面を保護するカバーガラス１であって、前記カバーガラス１の端面は、溶解ガラス面で構成されてなり、且つ、前記端面の表面粗さは、算術平均粗さＲａが１０ｎｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガラス表面が傷ついて強度が低下するのを防止し、コーティング被膜の保護作用により、ガラス肉厚を薄くしてガラスびんを軽量化することも可能とするリターナブルガラスびんのコーティング方法を提供する。
【解決手段】リターナブル炭酸飲料びん等として使用することができる耐アルカリ性能を有するコーティング被膜をガラスびんの外周面に施す。硬化後被膜の最も薄い部分の膜厚が３０μｍ以上となるようにウレタンを主成分とする樹脂をガラスビンの外周面にコーティングする。コーティング液の粘度をＳ（ｍＰａ・ｓ）、ガラスびんの自転速度をＲ（ｒｐｍ）とした場合、Ｓ≦２２で、Ｓ・Ｒ^０．６／２．４≧６０とすることで、最も薄い部分の膜厚が３０μｍ以上となり、被膜に泡が入るおそれもない。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬディスプレイ等の信頼性を高めたレーザー封着に好適な封着材料層付きガラス基板を提供する。
【解決手段】封着材料を焼結させた封着材料層を備える封着材料層付きガラス基板において、封着材料が少なくとも無機粉末を含み、無機粉末がガラス粉末と耐火性フィラーを含み、無機粉末中の耐火性フィラーの含有量が１０〜３５体積％であり、封着材料層の表面粗さＲａが０．５μｍ未満であることを特徴とする封着材料層付きガラス基板。 （もっと読む）