【課題】十分な耐失透性を有し、且つイオン交換性能に優れたガラスを創案することにより、機械的強度が高く、且つ表面品位が良好な強化ガラスを作製すること。
【解決手段】本発明の強化ガラスは、表面に圧縮応力層を有する強化ガラスにおいて、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ４５〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３ １２〜２４％、Ｎａ_２Ｏ １１〜２５％、Ｐ_２Ｏ_５ ０．１〜１０％を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【解決手段】直接火炎加水分解法により得られ、０〜２５０℃における線熱膨張係数が−３００〜３００ｐｐｂ／℃の範囲内であって、２５℃における線熱膨張係数分布が１００ｐｐｂ／℃以下であるチタニアドープ石英ガラスを使用することを特徴とするナノインプリントモールド用チタニアドープ石英ガラス。
【効果】本発明によれば、微細パターン転写時のモールドの温度変化による変形を抑制することができ、位置精度の高いナノインプリントによる微細パターンの転写が可能となる。 （もっと読む）

【課題】優れた光触媒活性と可視光応答性を有するとともに、耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】 酸化タングステン及び／又はこの固溶体を含む結晶相を含有する結晶化ガラスが提供される。この結晶化ガラスは、酸化物換算組成の全物質量に対して、モル％でＷＯ_３成分を１０〜９５％含有してもよく、さらにＰ_２Ｏ_５成分０〜６０％、Ｂ_２Ｏ_３成分０〜６０％、ＳｉＯ_２成分０〜６０％、及び／又は、ＧｅＯ_２成分０〜６０％の各成分を含有してもよい。 （もっと読む）

発光素子は、発光基板；および発光基板の表面上に形成された、金属微細構造を有する金属層；を含み；この際、発光基板は、化学組成：Ｙ_２Ｏ_３：Ｅｕを有する発光材料を含む。また発光素子の製造方法および発光方法も提供される。発光素子は良好な発光均質性、高い発光効率、良好な発光安定性および単純な構造を有し、極めて高い輝度を有する発光装置において用いることができる。
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表面に核が生成されたガラスセラミックおよびより詳しくは、光起電装置内の表板として表面に核が生成されたガラスセラミックを備えた光起電装置が記載されている。
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発光素子は:発光性基材と;該発光性基材の表面上に形成された金属微細構造を有する金属層と;を含み、前記発光性基材は、Zn₂SiO₄:Mnの化学組成を有する発光体を含む。発光素子の製造方法および発光方法もまた提供される。前記発光素子は、良好な発光の均一性、高い発光効率、良好な発光安定性および単純な構造を有しており、極めて高い輝度を有する発光装置において用いられうる。 （もっと読む）

【課題】可撓性を有しつつ、各画素に電圧が印加された場合、基板上で電荷が誘起され難く、しかも発熱し難い基板材料を創案することにより、曲面状に湾曲可能であり、且つ低消費電力、高信頼性のデバイスを提供する。
【解決手段】フィルム厚が１００μｍ以下であり、周波数１ＭＨｚにおける誘電率が５以下、周波数１ＭＨｚにおける誘電正接が０．５以下であることを特徴とし、更にガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２４０〜８０％、Ａｌ_２Ｏ_３０〜２０％、Ｂ_２Ｏ_３１０〜３０％、ＭｇＯ０〜１０％、ＣａＯ０〜１０％、ＳｒＯ０〜１０％、ＢａＯ０〜１０％含有することを特徴とするガラスフィルム。 （もっと読む）

【課題】耐候性に優れた情報記録媒体基板用ガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準の質量％表示で、ＳｉＯ_２を５６〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３を１０〜２６％、Ｌｉ_２Ｏを０．５〜８％、Ｎａ_２Ｏを０〜１５％、Ｋ_２Ｏを０〜８％、ＭｇＯを０〜６％、ＣａＯを０〜８％、ＺｒＯ_２を０〜６％、Ｆを０．１〜０．９％含有し、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏの含有量の合計が８〜１８％である情報記録媒体基板用ガラス。 （もっと読む）

ダウン・ドロー可能かつイオン交換可能なガラス。前記ガラスは、３５キロポアズの粘度において、温度Ｔ^35kpを有する。Ｔ^35kpは、ジルコンの破壊温度Ｔ^breakdownより低い温度である。
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【課題】垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、とりわけ、高い破壊靭性と平滑な表面を有する情報記録媒体用基板を低コストで製造する製造方法を提供することにある。
【解決手段】ＳｉＯ_２成分、Ａｌ_２Ｏ_３成分、Ｒ’_２Ｏ成分（ただしＲ’はＬｉ、Ｎａ、Ｋのいずれか１種以上）を含む板状のガラス系材料を準備する工程と、前記板状ガラス系材料を研削する研削工程を含み、前記研削工程は少なくとも前記板状ガラス系材料をダイヤモンドパッドで研削するサブ工程を有する情報記録媒体用基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】半導体薄膜等に近い熱膨張係数と高い歪点とを有し、フロート法による連続生産に適したガラス基板を提供する。
【解決手段】質量％表示で、５８．５〜６９．５％ＳｉＯ₂、２．５〜９．９％Ａｌ₂Ｏ₃、０〜２．５％Ｌｉ₂Ｏ、０％以上６％未満Ｎａ₂Ｏ、０％以上６％未満Ｋ₂Ｏ、０％より多く５．２％以下ＭｇＯ、３％より多く１３％以下ＣａＯ、１０〜２７％ＳｒＯ、０％以上５％未満ＢａＯ、０〜３％ＴｉＯ₂、０〜９．８％ＺｒＯ₂を含有し、ＳｉＯ₂＋Ａｌ₂Ｏ₃７３％以下、Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ６％未満、３％＜ＭｇＯ＋ＣａＯ≦１６％、ＳｒＯ＋ＢａＯ１０〜２７％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ２１〜３３％、モル分率に基づくＭｇＯ／ＣａＯ０．２〜１．０、Ｂ₂Ｏ₃を実質的に含まず、ガラス転移点＞５５５℃、液相温度≦１２００℃、平均熱膨張係数≦７５×１０^-7／℃であるガラス基板とする。 （もっと読む）

SiO2を約82〜約99.9999 wt.%、並びにAl2O3、CeO2、TiO2、La2O3、Y2O3、Nd2O3、他の希土類酸化物、及びそれらの2つ又はそれ以上の混合物より選択される少なくとも1つのドーパントを約0.0001〜約18 wt.%含む高シリカガラス組成物。ガラス組成物は、600〜2,000℃の範囲の作用点温度を有する。これらの組成物は、純粋な溶融石英と同様の安定性を示すが、医薬品パッケージの費用効果の高い製造を可能にする適度の作用温度を有する。当該ガラスは、例えば、予め充填された注射器、アンプル及びバイアルなどの、薬学的適用のための包装材料として特に有用である。 （もっと読む）

【課題】耐候性に優れた情報記録媒体基板用ガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル％表示で、ＳｉＯ_２を５８〜７８％、Ａｌ_２Ｏ_３を３〜１５％、Ｌｉ_２Ｏを１〜２０％、Ｎａ_２Ｏを０〜１６％、Ｋ_２Ｏを０〜１０％、ＭｇＯを０〜８％、ＣａＯを０〜８％、ＺｒＯ_２を０〜５％、ＨｆＯ_２を０．０２〜０．２％含有し、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏの含有量の合計Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏが１５〜２６％であり、ＳｒＯを含有しないか２％以下含有し、ＢａＯを含有しないか２％以下含有し、ＴｉＯ_２を含有しないか１％未満含有する情報記録媒体基板用ガラス。 （もっと読む）

本発明の実施態様は、パーライトおよび／または軽石を含む、顕著な量の１つ以上のガラス状鉱物を含むバッチ組成物から形成される繊維化可能なガラス組成物を提供する。一実施態様において、本発明は、少なくとも５０重量パーセントのガラス状鉱物および少なくとも５重量パーセントのナトリウム源を含むバッチ組成物から形成されるガラス組成物を提供し、該ガラス状鉱物は、少なくとも８０重量パーセントの量のＳｉＯ_２とＡｌ_２Ｏ_３との組み合わせを含む。 （もっと読む）

【課題】ダウンドロー法により熱収縮率の小さなガラス基板を直接製造し得るガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係るガラス基板の製造方法は、ダウンドロー法により溶融ガラスをリボン状のガラスリボンに形成する形成工程と、ガラスリボンを徐冷する徐冷工程と、徐冷工程の後に、ガラスリボンを切断してガラス基板を得る切断工程とを備えるガラス基板の製造方法に関する。本発明に係るガラス基板の製造方法では、徐冷工程において、ガラスリボンの徐冷点からガラスリボンの徐冷点よりも５０℃低い温度までの間の温度範囲におけるガラスリボンの平均冷却速度が下記式を満たすようにガラスリボンを冷却する。
ｌｏｇ_１０Ｒ≦０．０００１８３６１Ｔａ^２−０．２３４１４Ｔａ＋７５．２９
但し、
Ｒ：ガラスリボンの平均冷却速度（℃／分）、
Ｔａ：ガラスリボンの徐冷点（℃）、
である。 （もっと読む）

【課題】アルカリアルミノシリケートガラスからなるガラス円板について、酸化セリウム砥粒を含むスラリーを用いる研磨工程を経て情報記録媒体用ガラス基板を製造する方法において、酸化セリウム砥粒の残留を抑制し、更に主表面の面荒れを少なくする。
【解決手段】（ＳｉＯ_２−Ａｌ_２Ｏ_３）が６２モル％以下のＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系ガラスからなる円板を、酸化セリウム研磨工程の跡、硫酸濃度２０質量％以上８０質量％以下、過酸化水素濃度１質量％以上１０質量％以下である洗浄液を用いて５０℃以上１００℃以下の液温にて洗浄し、その後、ガラス円板の主表面をコロイダルシリカ砥粒を含むスラリーを用いて仕上げ研磨する。 （もっと読む）

本発明は、線熱膨張係数が３５から６０．１０^−７／℃である第１非強化ガラス基板（Ｓ１）を含むエレクトロクロミック装置であって、該基板（Ｓ１）が、少なくとも１つの透明導電層（２、４）、エレクトロクロミック物質層（ＥＣ２）、イオン導電性電解質（ＥＬ）および対電極（ＥＣ１）を含む積層でコーティングされる装置に関する。
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【課題】 チタン酸化物およびジルコニウム酸化物を持つボロン欠乏中性ガラス
本発明は高加水分解安定性および低比率ボロン酸化物を有する中性ガラス、その製造および使用に関する。
【解決手段】 本発明に係る中性ガラスは優れた加水分解安定性、比較的に低処理温度および低含有量のボロン酸化物によって特徴づけされる。ここで、前記ガラスは重量％で次の酸化物：
SiO₂ ７０から７９
B₂O₃ ０から＜５
Al₂O₃ １から＜５
ZrO₂ ０．５から＜５
TiO₂ ０．５から６
Na₂O １から６
K₂O ３から８
Li₂O ０から０．５
SiO₂+B₂O₃ ８３より低い
を含む。 （もっと読む）

【課題】 ガラスの黒化が生じず、しかも環境負荷物質を含有しない排気管ガラスを提供する。
【解決手段】 鉛を含まないディスプレイ用排気管ガラスであって、ＣｅＯ_２を０．０１〜３質量％含有するとともに、Ａｓ_２Ｏ_３の含有量が０．１質量％以下、Ｓｂ_２Ｏ_３の含有量が０．１質量％以下であることを特徴とする。上記ガラスはさらにＳｉＯ₂ ５０〜７９％、Ａｌ₂Ｏ₃ ０〜２０％、Ｂ₂Ｏ₃ ０〜２５％、ＣａＯ＋ＭｇＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＺｎＯ ０〜２０％、Ｌｉ₂Ｏ ０〜１０％、Ｎａ₂Ｏ ０〜２０％、Ｋ₂Ｏ ０〜２０％、Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ ０〜２０％、ＺｒＯ₂ ０〜５％含有することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】不要となり回収された無アルカリガラスの資源として有効に利用可能な用途を提供し、さらに電子部品や機械部品へ用いることができる高い電気特性、機械特性を有したセラミックス構造体が製造可能な、安価なガラスセラミックス材料、およびセラミックス構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】無アルカリガラス粉末３０〜８０重量％と、カルシウムを含む化合物粉末７０〜２０重量％とからなるセラミックス材料、ならびに、無アルカリガラス粉末３０〜８０重量％と、カルシウムを含む化合物粉末７０〜２０重量％とを混合し、８５０〜１０００℃の温度で焼成するセラミックス構造体の製造方法。 （もっと読む）