【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２ ４０〜７１％、Ａｌ_２Ｏ_３ ３〜２１％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜３．５％、Ｎａ_２Ｏ ７〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１５％を含有すると共に、強化処理後に切断されてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２ ４０〜７１％、Ａｌ_２Ｏ_３ ７．５〜２１％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜２％、Ｎａ_２Ｏ ７〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１５％、ＳＯ_３ ０．００１〜３％を含有し、質量分率（Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）／Ａｌ_２Ｏ_３の値が０．７〜２であり、且つ圧縮応力層の厚みが１００μｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを提供する。
【解決手段】表面に圧縮応力層を有する化学強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２４０〜７１％、Ａｌ_２Ｏ_３３〜２１％、Ｌｉ_２Ｏ０〜３．５％、Ｎａ_２Ｏ７〜２０％、Ｋ_２Ｏ０〜１５％、ＺｒＯ_２０．００１〜１０％、ＴｉＯ_２０〜４％を含有することを特徴とし、ＳｎＯ_２０．０１〜３％含有せしめることでイオン交換性能を向上させる。 （もっと読む）

【課題】 高度の品質が要求される情報記録媒体用ガラス基板に好適に用いられるガラスの製造方法、この方法で得られたガラスを用いてガラス基板ブランクスおよびガラス基板を製造する方法を提供する。
【解決手段】 ガラス原料をガラス溶解装置で溶解し、アルカリ金属元素を含むガラスを製造する方法において、前記溶解装置として、ガラス接触部分の材料がジルコニウムを含み、かつ実質的にアルカリ金属元素を含まない材料で構成されたものを用いるガラスの製造方法、この製造方法で得られたガラスをプレス成形またはフロート成形するガラス基板ブランクスの製造方法、および該ガラス基板ブランクスに研削、研磨加工を施すガラス基板の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】歯科用途および歯列矯正用途における非晶質ガラスおよびガラス−セラミック材料、硬化性樹脂と非晶質ガラスまたはガラス−セラミックとの混合物を含む歯科材料その使用方法、を提供する。
【解決手段】Ａｌ₂Ｏ₃と、Ｂ₂Ｏ₃、ＧｅＯ₂、Ｐ₂Ｏ₅、ＳｉＯ₂、ＴｅＯ₂、Ｖ₂Ｏ₅などあるいはＲＥＯ、Ｙ₂Ｏ₃、あるいはＺｒＯ₂、ＨｆＯ₂を含む非晶質ガラスおよびガラス−セラミックを含む物品。ここでＲＥＯという用語は、希土類酸化物を示す。 （もっと読む）

【課題】電子基板として適する貫通電極を有するガラス板を製造する方法であって、貫通電極を精度よく、且つ高密度に形成できる方法を提供する。
【解決手段】波長λのレーザパルス１１をレンズで集光してガラス板１２に照射し、レーザパルス１１が照射された部分に変質部１３を形成する工程と、ガラス板１２に対するエッチングレートよりも変質部１３に対するエッチングレートが大きいエッチング液を用いて少なくとも変質部１３をエッチングしてガラス板１２に孔を形成する工程と、貫通電極を構成する導電性材料を前記孔の内部に配置する工程とを含む製造方法とする。レーザパルス１１のパルス幅は１ｎｓ〜２００ｎｓの範囲にあり、波長λは５３５ｎｍ以下、波長λにおけるガラス板１２の吸収係数は５０ｃｍ^-1以下、レンズの焦点距離Ｌ（ｍｍ）をレンズに入射する際のレーザパルス１１のビーム径Ｄ（ｍｍ）で除した値は７以上とする。 （もっと読む）

【課題】優れた光触媒活性を有するとともに、耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】 ＴｉＯ_２成分、ＷＯ_３成分、ＺｎＯ成分、Ｎｂ_２Ｏ_５成分、及びＴａ_２Ｏ_５成分からなる群より選択される１種以上の成分を、酸化物換算組成の全物質量に対して、モル％で、１０〜７５％含有し、光触媒活性を有する光触媒ガラスが提供される。この光触媒ガラスは、透明性を有しており、ファイバー状、ビーズ状、基材との複合体、粉粒体、スラリー等の形態で提供され、特に窓ガラス、ミラーなどの用途に好ましく利用できる。 （もっと読む）

【課題】５３０〜５７０℃の歪点を有し、且つガラス板中のアルカリ成分と電極が反応し難いガラス板を創案し、ディスプレイの低価格化を推進すること。

【解決手段】本発明のガラス板は、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ５５〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜６％未満、ＭｇＯ ０〜８％、ＣａＯ ０〜８％、ＳｒＯ １０〜２０％、ＢａＯ ０〜８％、ＳｒＯ＋ＢａＯ（ＳｒＯ、ＢａＯの合量） １０〜２５％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ（ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯの合量） １０〜３０％、Ｎａ_２Ｏ １〜９％未満、Ｋ_２Ｏ ６超〜１５％、Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ（Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏの合量） ９〜１５％、ＺｒＯ_２ ０〜５％、Ａｌ_２Ｏ_３＋ＺｒＯ_２（Ａｌ_２Ｏ_３、ＺｒＯ_２の合量） ０〜６％未満を含有し、且つ歪点が５３０〜５７０℃であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガラス溶融時におけるハロゲンの清澄能力を高めることで、泡品位に優れたＬＡＳ系結晶性ガラスを得る方法を提供する。
【解決手段】原料バッチを溶融することにより、組成として質量％で、ＳｉＯ_２ ５５〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３ １７〜２７％、Ｌｉ_２Ｏ ３〜６％、ＭｇＯ ０〜２％、ＺｎＯ ０〜２％、ＴｉＯ_２ ２〜５．５％、ＺｒＯ_２ ０〜３％、希土類酸化物 ０．０３〜１％、ハロゲン ０．０１〜０．２％を含有し、実質的にＡｓ_２Ｏ_３およびＳｂ_２Ｏ_３を含有しないＬＡＳ系結晶性ガラスを製造するための方法であって、原料バッチ中に希土類酸化物を０．０３〜１％かつハロゲンを０．０５〜１％含有することを特徴とするＬＡＳ系結晶性ガラスの製造方法。 （もっと読む）

本発明は、アルミノケイ酸リチウムガラス及びアルミノケイ酸リチウムガラスを製造する方法に関し、該ガラスは、（ｍｏｌ％で）以下の組成：６０〜７０ ＳｉＯ_２、１０〜１３ Ａｌ_２Ｏ_３、０．０〜０．９ Ｂ_２Ｏ_３、９．６〜１１．６ Ｌｉ_２Ｏ、８．２〜＜１０ Ｎａ_２Ｏ、０．０〜０．７ Ｋ_２Ｏ、０．０〜０．２ ＭｇＯ、０．２〜２．３ ＣａＯ、０．０〜０．４ ＺｎＯ、１．３〜２．６ ＺｒＯ_２、０．０〜０．５ Ｐ_２Ｏ_５、０．００３〜０．１００ Ｆｅ_２Ｏ_３、０．０〜０．３ ＳｎＯ_２、０．００４〜０．２００ ＣｅＯ_２を有する。以下の比率及び条件：（Ｌｉ_２Ｏ＋Ａｌ_２Ｏ_３）／（Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）＞２、０．４７＜Ｌｉ_２Ｏ／（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）＜０．７０、０．８＜ＣａＯ＋Ｆｅ_２Ｏ_３＋ＺｎＯ＋Ｐ_２Ｏ_５＋Ｂ_２Ｏ_３＋ＣｅＯ_２＜３（式中、６つの酸化物のうち少なくとも４つが含まれる）が、本発明によるガラスに適用される。このようなアルミノケイ酸リチウムガラスは、少なくとも８２ＧＰａの弾性率を有する。その上、それは、５４０℃未満のガラス転移温度Ｔ_ｇ及び／又は１１５０℃未満の加工温度を有する。ガラスは、フロートプロセスを用いた成形に好適であり、少なくとも５５０Ｎ／ｍｍ^２の曲げ強度を有し得るように化学的及び／又は熱的に強化することができる。 （もっと読む）

【課題】広い温度範囲において熱膨張係数がほぼゼロとなるＴｉＯ_２を含有するシリカガラスの製造方法の提供。
【解決手段】ＴｉＯ_２を含有するシリカガラスの製造方法であって、（ａ）ガラス形成原料を火炎加水分解して得られる石英ガラス微粒子を基材に堆積、成長させて多孔質ガラス体を形成する工程と、（ｂ）多孔質ガラス体をフッ素含有雰囲気下にて保持し、フッ素を含有した多孔質ガラス体を得る工程と、（ｃ）フッ素を含有した多孔質ガラス体を、透明ガラス化温度まで昇温して、フッ素を含有した透明ガラス体を得る工程と、（ｄ）フッ素を含有した透明ガラス体を、軟化点以上の温度に加熱して所望の形状に成形し、フッ素を含有した成形ガラス体を得る工程と、（ｅ）成形ガラス体を５００℃を超える温度にて５時間以上保持した後に５００℃まで１０℃／ｈｒ以下の平均降温速度で降温するアニール処理を行う工程、を含む製造方法。 （もっと読む）

本発明は、リチウムアルミノシリケートガラスの化学強化に関し、これによって、高レベルの表面張力と深い表面張力ゾーンをもたらす、中程度の温度での速やかな強化が可能となる。 （もっと読む）

【課題】ＳｎＯ_２を含む透明導電膜付き高透過ガラス板のカレットを、高透過ガラス板の原料として再利用できる高透過ガラス板の製造方法；および鉄およびスズを含んでいるにもかかわらず、可視光透過率および日射透過率が高い高透過ガラス板を提供する。
【解決手段】ＳｎＯ_２を含む透明導電膜が表面に形成された高透過ガラス板のカレットを質量百分率表示で０％超８０％以下含むガラス原料を溶融し、成形する高透過ガラス板の製造方法であって、成形後の高透過ガラス板が、酸化物基準の質量百分率表示でＳｂ_２Ｏ_３に換算した全アンチモンを０．０００１〜０．３％含み、成形後の高透過ガラス板が、ＪＩＳ Ｒ ３１０６（１９９８）規定の可視光透過率（Ａ光源によるもの）が、４ｍｍ厚さ換算値で９１．５％以上であり、ＪＩＳ Ｒ ３１０６（１９９８）規定の日射透過率が、４ｍｍ厚さ換算値で９０．９％以上である。 （もっと読む）

【課題】製品である液晶パネルの歩留まりを向上することができる無アルカリガラス基板を提供すること。
【解決手段】液晶パネル用の無アルカリガラス基板において、フッ酸（ＨＦ）：５．３質量％、フッ化アンモニウム（ＮＨ_４Ｆ）：３５．８質量％、残部：水からなるバッファードフッ酸の溶液中に２５℃、２０分間浸漬した後のヘイズ値が７．０％以下である。 （もっと読む）

【課題】ガラス−セラミックプレート、特に発熱体を覆うためのガラス−セラミックプレート及びその製造方法を提供する。
【解決手段】発熱体を覆うための、少なくとも１つの面上に少なくとも１つのエナメルパッチ及び／又は少なくとも１つの塗料被膜を、適切な場合には、機能及び／又は装飾領域を除いて設けたガラス−セラミックプレートに関する。該プレートを製造する方法、及び該プレートを含んで成る調理器具に関し、とりわけ、該調理器具の天板に関連する下の発熱体が、例えば、ハロゲン、放射又は誘導加熱タイプの熱源であるガラス−セラミックプレートに関する。 （もっと読む）

【課題】建築物のあらゆる部位に使用しても熱割れの心配がなく、不透明であり意匠面に凸状模様のあるデザインに優れた有色板ガラス建材を提供する。
【解決手段】本発明の有色板ガラス建材１０は、実質的に気泡を含まず、β−石英固溶体またはβ−スポジュメン固溶体を主結晶とし、３０〜３８０℃での平均線膨張係数が２０×１０^−７／Ｋ以下である結晶化ガラスよりなる板状体１０ａを有し、板状体１０ａの意匠面１０ｂは表面粗さのＲａ値が２００ｎｍ以下であり、少なくとも一方向における表面うねりのＷａ値が３μｍ以下であって、基体面１０ｃを基準とする高さが０．５〜１０ｍｍの島状、縞状、又は帯状の凸部１０ｄ、１０ｅを有し、凸部１０ｄ、１０ｅの中心間距離が１０〜２００ｍｍで、且つ厚み５ｍｍにおける平均可視光透過率が０．１％未満である。また、本発明の固定構造は、有色板ガラス建材１０が、エポキシ系、ウレタン系又はシリコーン系の何れかの接着剤により下地材に固定されてなる。 （もっと読む）

【課題】ガラス板の製造の際に、ガラス成形後の加工処理の効率に悪影響を与えず、化学強化する前のガラス表面に傷が付き難い程度にガラス表面が強化された強化ガラスと、この強化ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス板が化学強化された強化ガラスは、ダウンドロー法で製造される。強化ガラスには、強化ガラスの厚さ方向の中心位置におけるＳiの原子濃度（原子％）に対するＳiの原子濃度（原子％）の濃度比率が５％以上高いＳｉ高濃度領域が、ガラス表面から厚さ方向に沿って０より大きく３０ｎｍ以下の深さの範囲に形成される。前記Ｓｉ高濃度領域は、Ｓｉ原子濃度の最大ピークを有し、前記ガラス板の厚さ方向に沿ったＳｉ原子濃度は、前記最大ピーク位置からガラス板のガラス表面および前記中心位置まで連続的に減少する。さらに、ガラス板には、イオン交換により化学強化されたイオン交換処理領域が前記ガラス板の表面に形成される。 （もっと読む）

本発明は、光電池、好ましくは薄膜光電池であって、アルミノケイ酸ガラスから作製される基板ガラスを有し、このアルミノケイ酸ガラスは、ＳｉＯ_２およびＡｌ_２Ｏ_３ならびにアルカリ酸化物Ｎａ_２Ｏおよびアルカリ土類酸化物ＣａＯ、ＭｇＯ、およびＢａＯ、ならびに任意にさらなる成分を有するガラス組成物を含み、このガラス組成物は、１０〜１６重量％のＮａ_２Ｏ、＞０〜＜５重量％のＣａＯ、および＞１〜１０重量％のＢａＯを含有し、かつＣａＯ：ＭｇＯの比は、０．５〜１．７の範囲にある光電池、好ましくは薄膜光電池に関する。本発明に従って使用されるアルミノケイ酸ガラスは、ＣａＯ／ＭｇＯ選択された比のため結晶化に対して安定であり、かつ５８０℃を超える転移温度Ｔｇおよび１２００℃未満の加工温度ＶＡを有する。それゆえ、本発明に従って使用されるアルミノケイ酸ガラスは、ソーダ石灰ガラスに対する熱的により安定な代替物となる。また本発明の目的は、光電池用、好ましくは薄膜光電池用、特にＣｄＴｅ、ＣＩＳ、もしくはＣＩＧＳなどの複合型半導体材料に基づく光電池用、好ましくは薄膜光電池用の基板ガラス、スーパーストレート構造ガラス、および／またはカバーガラスとしてのアルミノケイ酸ガラスの使用である。 （もっと読む）

【課題】薄型で機械的強度が高いにもかかわらず、内部引っ張り応力により自己破壊してもガラス片が飛散し難く、しかも長期間の使用により、ディスプレイ等の視認性が低下し難いタッチパネルディスプレイ等の保護部材を創案すること。
【解決手段】本発明の合わせガラスは、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス板と、表面に圧縮応力層を有しない未強化ガラス板とを備える合わせガラスであって、強化ガラス板の板厚が２．０ｍｍ以下であり、且つ未強化ガラス板の板厚が５００μｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ディスプレイ技術および薄膜光電池の双方における基板ガラスとしての使用に高度に適したガラス。
【解決手段】次の組成（質量％、酸化物基準）：ＳｉＯ_２ ＞５８〜６５、Ｂ_２Ｏ_３ ＞６〜１０．５、Ａｌ_２Ｏ_３ ＞１４〜２５、ＭｇＯ ０〜＜３、ＣａＯ ０〜９およびＢａＯ ＞３〜８、但し、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＢａＯ ８〜１８、ＺｎＯ ０〜＜２を有する、アルカリ金属不含のアルミノホウケイ酸塩ガラス。 （もっと読む）