【課題】 ガラス原料中のＳ量を制限しなくても、泡品位に優れた珪酸塩ガラス、特にＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶化ガラスの作製に用いられるＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶性ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】 Ｓ含有量をＳＯ_３換算で１５ｐｐｍ以上含有するガラス原料を用いて珪酸塩ガラスを製造する珪酸塩ガラスの製造方法であって、平均粒径４５〜１８０μｍのＳｉＯ_２原料を使用することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】固体レーザー媒質としての使用に好適なアルミノホウケイ酸塩をベースとしたガラス組成物を提供する。
【解決手段】アルミノホウケイ酸塩をベースとしたガラスはレーザー発振イオン用の希土類イオンの発光帯域幅を示す。完全には分かっていないが、発光帯域幅を拡大することは、ガラスマトリックス中の有効量のランタニドイオンの存在によって達成されると考えられる。加えて、ヤング率、破壊靭性及び硬度の高い値のために、透明な防弾窓材料としても好適である。 （もっと読む）

【課題】 固体撮像装置に使用するカバーガラスをイオン交換するに際し、その処理時間を短縮できるため、生産性を向上することが可能な強化ガラス基板と、その製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明の強化ガラス基板の製造方法は、アルカリ金属酸化物を含有し、３０〜３８０℃の温度範囲における熱膨張係数が３０〜１００×１０^−７／℃のガラスとなるように原料を調製する工程、該原料を溶融容器内で溶融した後、オーバーフローダウンドロー法によって板状に成形する工程、成形した板状ガラスをイオン交換することによって、その表面に圧縮応力層を形成する工程、からなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 外観検査の自動化が容易であり、しかも清澄性及び半導体素子の封入性に優れた無鉛半導体封入用ガラスを創案することを技術的課題とする。
【解決手段】 １０^６ｄＰａ・ｓの粘度の温度が６７０℃以下であり、ガラス組成として、ＣｅＯ_２の含有量が０．０１〜６質量％であり、且つＳｂ_２Ｏ_３の含有量が０．１質量％以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】主表面と、端面とで構成されるエッジ部が鋭利な形状とならず、しかも機械的強度が高い携帯機器用カバーガラスのガラス基材を提供する。
【解決手段】板状のガラス基板１をエッチングすることにより所望の形状に切り抜かれてなり、主表面１１，１２及び端面１３を持つ携帯機器用カバーガラスのガラス基材１であって、前記主表面１１，１２と前記端面１３とで構成されるエッジ部１４は、ＵＬ（Underwriters Laboratories）−１４３９に準拠するシャープエッジテストで表面から２層が切断されないエッジであり、前記ガラス基材１は、イオン交換処理により化学強化されたガラスとする。 （もっと読む）

【課題】溶融ガラスＭによる耐熱容器１の損傷を効果的に抑制することができるガラスの製造方法を提供すること。
【解決手段】ガラス原料を耐熱容器１に入れて炉内で溶融する溶融工程と、耐熱容器１内の溶融ガラスＭを炉外で撹拌する撹拌工程と、を含むガラスの製造方法において、炉から取り出した耐熱容器１を、この耐熱容器１の外側面を支える支持部材２を介して底部１２を浮かせた状態で載置面３の上方に載置して撹拌工程を行うようにした。 （もっと読む）

【目的】本発明は、バナジウムを主成分とする導電性ガラスの微粉末を製造する、バナジン酸塩ガラスの微粉末の製造方法および製造装置に関し、簡易な製造方法かつ多量かつ安価にナノサイズレベルの微粉末を製造することを目的とする。
【構成】導電性ガラスのバルクから製造した粉末を、当該粉末が溶解する溶液中に入れて超音波を印加して粉末同士の凝集を防止して微粉末化を均一かつ促進する微粉末化ステップを有する導電性ガラスの微粉末の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】ガラスのヤング率が高く、またシリコンと広い温度範囲で熱膨張係数が近似したＣＳＰにて製造される固体撮像装置に特に好適に使用できる固体撮像装置用カバーガラスを提供すること。
【解決手段】質量％で、ＳｉＯ_２ ５６〜６６％、Ａｌ_２Ｏ_３ ９〜２６％、Ｂ_２Ｏ_３ １〜１１％、ＭｇＯ ０〜６％、ＣａＯ ０〜６％、ＺｎＯ ４〜１３％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜４．０％、Ｎａ_２Ｏ ０〜５．０％、Ｋ_２Ｏ ０〜６．０％、ただし、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ １％以上を含有し、３０〜３００℃の範囲における平均熱膨張係数が３０〜３８×１０^−７Ｋ^−１、ヤング率が７８ＧＰａ以上の固体撮像装置用カバーガラスである。 （もっと読む）

【課題】低温かつ短時間で化学強化できるディスプレイ装置用ガラスを提供する。
【解決手段】下記酸化物基準のモル百分率表示で、ＳｉＯ_２を６１〜７２％、Ａｌ_２Ｏ_３を８〜１７％、Ｌｉ_２Ｏを６〜１８％、Ｎａ_２Ｏを２〜１５％、Ｋ_２Ｏを０〜８％、ＭｇＯを０〜６％、ＣａＯを０〜６％、ＴｉＯ_２を０〜４％、ＺｒＯ_２を０〜２．５％含有し、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏの含有量の合計Ｒ_２Ｏが１５〜２５％、Ｌｉ_２Ｏの含有量とＲ_２Ｏの比Ｌｉ_２Ｏ／Ｒ_２Ｏが０．３５〜０．８、ＭｇＯおよびＣａＯの含有量の合計が０〜９％であるディスプレイ装置用ガラス。 （もっと読む）

【課題】薄膜等が形成されていないにも関わらず、高い透過率を有するディスプレイ基板を提供する。
【解決手段】無アルカリガラスからなるディスプレイ基板であって、波長４００ｎｍにおいて、基板の両表面をそれぞれ３０μｍ除去したとき（基板肉厚が０．１ｍｍ以上の場合）、或いはそれぞれ肉厚の１／３除去したとき（基板肉厚が０．１ｍｍ未満の場合）の透過率と、除去前の透過率との差△Ｔ_４００が、０．５〜５．０％の範囲にあることを特徴とする。また本発明のディスプレイ基板は、内部とは組成の異なる異質層を表面に有している。異質層は、厚みが１０ｎｍ〜３０μｍであり、またＳｉＯ_２含有量が、基板内部のそれよりも高いことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】薄膜等が形成されていないにも関わらず、高い透過率を有するディスプレイ基板を提供する。
【解決手段】本発明のディスプレイ基板は、肉厚０．１ｍｍ以上のディスプレイ基板であって、波長４００ｎｍにおいて、基板の両表面をそれぞれ３０μｍ除去したときの透過率と、除去前の透過率との差△Ｔ_４００が、０．５〜５．０％の範囲にあり、ダウンドロー法で成形されてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線遮蔽能力が高く、且つ耐熱性が高い電界放射型装置用ガラス板を提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２３０〜５０％、Ａｌ_２Ｏ_３０〜１０％、Ｂ_２Ｏ_３０〜２０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ（ＭｇＯ、ＣａＯ、及びＳｒＯの合量）０〜２５％、ＢａＯ１５〜３５％、ＺｒＯ_２＋ＴｉＯ_２＋Ｌａ_２Ｏ_３＋Ｎｂ_２Ｏ_５（ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、Ｌａ_２Ｏ_３、及びＮｂ_２Ｏ_５の合量）３〜４０％を含有し、歪点が６５０℃以上、１０ｋｅＶにおけるＸ線吸収係数が１５０ｃｍ^−１以上であることを特徴とする電界放射型装置用ガラス板。 （もっと読む）

【課題】光リソグラフィー法等で使われるフォトマスク用合成石英ガラス基板として、平坦度が良く微細な描画を行うことができ、かつ基板表面が低欠陥で面粗さの小さい合成石英ガラス基板を提供する。
【解決手段】表面中央１３２ｍｍ×１３２ｍｍ角の外周から表面外周縁へ向かって傾斜している６インチ角の合成ガラス基板であって、表面中央１３２ｍｍ×１３２ｍｍ角の平坦度が５０ｎｍ以下、表面中央１４８ｍｍ×１４８ｍｍ角内であって表面中央１３２ｍｍ×１３２ｍｍ角部分を除いた額縁部分の平坦度が１５０ｎｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】１，０００〜１，１００ｎｍの波長の赤外光をカットし、約８５０ｎｍの波長の赤外光を透過させる。ヘイズの増大を抑制し、外観性を向上させる。
【解決手段】ガラス板（１１ａ、１１ｂ）と中間膜１２とが積層され、合わせガラス１を構成する。中間膜１２は、粒径が０．２μｍ以下の赤外線遮蔽性微粒子が分散配合された有機樹脂膜からなる。各ガラス板（１１ａ、１１ｂ）の日射透過率の積は、０．３〜０．６である。中間膜中の赤外線遮蔽性微粒子の分散配合割合は、中間膜の全質量１００質量部に対して０．１〜０．５質量部である。 （もっと読む）

【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを提供する。
【解決手段】表面に圧縮応力層を有する科学的に強化されたガラス基板であって、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２４０〜７１％、Ａｌ_２Ｏ_３３〜２１％、Ｌｉ_２Ｏ０〜３．５％、Ｎａ_２Ｏ７〜２０％、Ｋ_２Ｏ０〜１５％、ＳｎＯ_２０．０１〜３％、Ｓｂ_２Ｏ_３０〜０．１％未満、Ｆ０〜０．１％未満を含有するガラス基板であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】太陽光発電適用に特に好適でありかつ太陽光発電に改善された結果をもたらすガラスを提供すること。
【解決手段】本発明は、ガラスが含水量＜２５ｍｍｏｌ／リットル及び特に＞１ｍｍｏｌ／リットルを有する、太陽光発電適用のためのガラスの使用に関する。好ましくは使用されるガラスは、＞５８０℃の範囲内の変態点Ｔ_ｇ、＜１１５０℃の範囲内の作業温度（「ＶＡ」）及び約７〜１１×１０^−６／Ｋの範囲内の熱膨張係数を示す。これらガラスは、半導体毒、例えば鉄、ヒ素及びホウ素を放出することなく、高温処理に使用することができ、かつとりわけＣｄ−Ｔｅ−太陽光発電適用もしくはＣＩＳ−太陽光発電適用ないしはＣＩＧＳ−太陽光発電適用に適当である。というのも加工性／より高い温度でのより高い熱安定性に基づいた、従来使用されたソーダ石灰ガラスと異なる析出が行なわれることができ、これには大きな利点が伴うからである。 （もっと読む）

【課題】透明引上げガラスの製造方法で特に酸化アンチモンと酸化ヒ素の重金属清澄剤を用いないで、しかもガラス溶融物をできるだけ効率的に清澄し、気泡のない、または気泡の少ない高品質ガラスを製造すること。
【解決手段】本発明は、以下のステップ、（ａ）ガラスバッチ溶融物を保持しての原料の溶融；（ｂ）製出されたこのガラスバッチ溶融物の清澄；（ｃ）製出されたこのガラスバッチ溶融物の均質化；および（ｄ）引上げ法によるガラス製品の製造、を含む透明引上げガラスまたは透明ガラスの製造方法に関し、清澄剤としてアルカリ硫酸塩、アルカリ土類硫酸塩、硫酸亜鉛、またはそれらの混合物から選択した硫酸塩清澄剤の所定量を使用し、前記ガラスバッチ溶融物の清澄では、酸化アンチモンのみまたは他の１種類以上の清澄剤を組み合わせて含有する清澄システムを使用する清澄法よりも０℃〜１００℃、望ましくは３０℃〜６０℃ほど高い所定の清澄温度に調整している。本発明の方法によって製出したガラスは、実際的に含有物または気泡がない青色調の高度透明ガラスで、光学的均質性が高く、分光透過率が高い。 （もっと読む）

【課題】優れた紫外線吸収性能ならびに赤外線吸収性能（断熱性能）を有し、かつ適度な透視性を併せ持つ低日射透過率を持ち、人的や物的に優しい建築用、車両用など各種ガラス物品など広い分野に適用できるようなガラスが求められている。
【解決手段】ソーダ石灰シリカ系ガラスを基礎組成とし、着色成分として質量％表示で、Ｆｅ_２Ｏ_３（３価鉄換算した全鉄）が０．７０〜１．７０、ＦｅＯ（２価鉄）が０．１５〜０．４５、ＴｉＯ_２が０〜０．８、ｐｐｍ表示で、ＣｏＯが１００〜３５０、Ｓｅが０〜６０、Ｃｒ_２Ｏ_３が１００〜７００、ＭｎＯが３〜１５０を含有し、３価鉄に対する２価鉄の比（Ｆｅ^２＋／Ｆｅ^３＋）が０．２０〜０．８０であることを特徴とする低日射透過率ガラス。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、熱アシスト記録方式の記録媒体において情報のエラー発生率を低下させ、かつ磁気ヘッドの破損を抑制するガラス基板を提供することにある。
【解決手段】本発明のガラス基板は、酸化物基準の質量％表示で、ＳｉＯ₂：５８〜６８％、Ａｌ₂Ｏ₃：０〜５％、Ｂ₂Ｏ₃：０〜２％（ただしＳｉＯ₂＋Ａｌ₂Ｏ₃＋Ｂ₂Ｏ₃＝５８〜６８％）、Ｎａ₂Ｏ：１〜６％、Ｋ₂Ｏ：７〜１５％（ただしＮａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ＝８〜２１％）、ＭｇＯ：２〜７％、ＣａＯ：７〜１５％、ＢａＯ：０〜５％、ＳｒＯ：０〜５％、ＺｎＯ：０〜５％（ただしＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＢａＯ＋ＳｒＯ＋ＺｎＯ＝９〜２２％）、ＺｒＯ₂：６〜１２％となる組成を有し、かつＬｉ₂Ｏを含まないことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】導電性と耐水性および化学耐久性とを併せ持つバナジン酸塩−リン酸塩ガラスを提供する。
【解決手段】本発明により提供されるバナジン酸塩−リン酸塩ガラスは、酸化バナジウム、酸化バリウムおよび酸化鉄を含む金属酸化物混合物と、五酸化二リンとを含み、金属酸化物混合物に含まれる金属原子のモル数の合計とリン原子のモル数の比が４１：５９〜６０：４０である原料組成物を溶融および急冷固化後、バナジン酸塩−リン酸塩ガラスのガラス転移温度以上融点以下の温度で所定時間アニーリングして得られる。 （もっと読む）