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ガラス板製造装置、およびこの装置を用いたガラス板の製造方法
【課題】清澄槽を構成する白金族金属で構成された容器の変形の防止に適したガラス板製造装置を提供する。
【解決手段】熔融ガラス5の気泡を除去するための清澄槽30は、白金族金属からなり、熔融ガラス5を収容する容器1と、容器1を支持する耐火物支持体7と、容器1と耐火物支持体7との間において容器1の外周面および耐火物支持体7に接するように配置された耐火物繊維層2とを備えている。耐火物繊維層2は、耐火物支持体7に対する容器1の膨張を、層2の界面による滑りおよび変形、ならびに層2の収縮により許容する。その結果、容器1に加わる応力が緩和され、容器1の変形が防止される。耐火物支持体7は、その厚み方向についての酸素の透過を遮蔽する気密性を有する耐火物保護層3を備えていてもよい。耐火物保護層3は、容器1を構成する白金族金属の酸化および揮発を抑制する。
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化学強化ガラスの製造方法
【課題】溶融塩の交換の頻度を減らすことができる化学強化ガラスの製造方法の提供。
【解決手段】溶融塩にモル%で、SiO2を61〜77%、Al2O3を1〜18%、MgOを3〜15%、CaOを0〜5%、ZrO2を0〜4%、Na2Oを8〜18%、K2Oを0〜6%含有し、SiO2+Al2O3が65〜85%、MgO+CaOが3〜15%、かつ、下記式により算出されるRが0.66以上であるガラスを浸漬して化学強化ガラスとするイオン交換処理を繰り返す化学強化ガラスの製造方法。R=0.029×SiO2+0.021×Al2O3+0.016×MgO−0.004×CaO+0.016×ZrO2+0.029×Na2O+0×K2O−2.002。
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薄片状防錆顔料
【課題】更なる防錆性能を改良した薄片状防錆顔料を提供する。
【解決手段】薄片状粒子を含有する防錆顔料であって、前記薄片状粒子がリン酸系ガラスであり、好ましくは、リン酸系ガラスの組成が、モル%で表して、P2O5 :20〜80%、Fe2O3:5〜50%、RO(MgO、CaO、ZnOから選択される1種以上の合計):5〜50%で表される組成物から成り、前記薄片状粒子が、長さ3〜200μm、幅1〜150μm、厚さ0.01〜5μm、アスペクト比(長さ/厚み)3以上、であることを特徴とする防錆顔料。
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ガラス組成物
【課題】環境負荷の大きい酸化ヒ素や酸化アンチモンの使用量が少なく、しかも残泡の少ないガラス組成物を提供する。
【解決手段】このガラス組成物は、質量%で表示して、SiO2:40〜70%,B2O3:5〜20%,Al2O3:10〜25%,MgO:0〜10%,CaO:0〜20%,SrO:0〜20%,BaO:0〜10%,Li2O:0〜0.5%,Na2O:0〜0.5%,K2O:0〜0.5%,Cl:0%を超え1.5%以下,を含み、Li2O+Na2O+K2Oが0.06%を超える範囲にある。このガラス組成物は、例えば、ガラス原料の一部として塩化物を用いることにより好適に製造できる。
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強化ガラス及びその製造方法、該強化ガラスの表面応力測定方法
【課題】可視域の透過率の低い着色不透明部と有する強化ガラスの圧縮応力量を非破壊で算出することができる、強化ガラス及びその製造方法、該強化ガラスの表面応力測定方法を提供する。
【解決手段】着色不透明ガラス10と透明ガラス20とを積層して一体化し、一体化したガラスの表面に圧縮応力層を形成した強化ガラス1である。加熱し溶融した前記着色不透明ガラス10を固化状態の前記透明ガラス20に接触させた状態で冷却し、前記着色不透明ガラス10を固化することにより積層して一体化し、その際に熱強化処理とする。透明ガラス10の圧縮応力層の圧縮応力量の測定値は、着色不透明ガラス10又は強化ガラス1の圧縮応力量の算出に用いられる。
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磁気記録媒体用ガラス基板
【課題】機械的特性に優れ、かつ主平面の表面粗さとその面内均一性に優れた磁気記録媒体用ガラス基板を提供する。
【解決手段】この磁気記録媒体用ガラス基板は、ヤング率が68GPa以上で比弾性率が27MNm/kg以上のアルミノシリケートガラスからなり、中央部に円孔を有する円盤形状の磁気記録媒体用ガラス基板であって、前記磁気記録媒体用ガラス基板の主平面において、内周端面より3.5mm以上外周側でかつ外周端面より3.5mm以上内周側の領域で、光学式表面観察機によりレーザー光を使用して測定された表面粗さの標準偏差が0.5nm未満であることを特徴とする。
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ガラス
【課題】ガラス組成中に鉛を含まなくても、放射線遮蔽性能が高いガラスを創案すること。
【解決手段】本発明のガラスは、ガラス組成として、質量%で、SiO2 15〜55%、B2O3 0〜10%、SrO 0.001〜35%、ZrO2+TiO2 0.001〜30%、La2O3+Nb2O5 0〜10%を含有し、質量比BaO/SrOが0〜40、質量比SiO2/SrOが0.1〜40であることを特徴とする。
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化学強化ガラス板
【課題】ガラス板主表面が所望の強度を備え、かつカッターホイールを用いた切断方法など、機械的手法による切断が可能な化学強化ガラス板を提供する。
【解決手段】酸化物基準のモル百分率表示で、SiO2を60%以上、Al2O3を3%以上含有し、イオン交換によって主表面に圧縮応力層が形成された化学強化ガラス板であって、厚さが0.4〜2.0mm、前記圧縮応力層の最表面の圧縮応力σCが400MPa〜1GPa、前記圧縮応力層の深さDCが15〜30μmであることを特徴とする化学強化ガラス板。
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薄膜太陽電池用ガラス板
【課題】歪点が十分に高く、且つ周辺部材の熱膨張係数に整合し、しかも高品位の光電変換膜を成膜し得るガラス板を創案する。
【解決手段】本発明の薄膜太陽電池用ガラス板は、ガラス組成として、質量%で、SiO2 45〜60%、Al2O3 8.0超〜18%、B2O3 0〜15%(但し、15%を含まず)、MgO+CaO+SrO+BaO 1〜40%、Na2O+K2O 1〜30%を含有し、且つ歪点が580℃超であることを特徴とする。
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携帯機器用カバーガラスのガラス基材
【課題】端面において極端に突出する部分がなく、しかも機械的強度が高いガラス基材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】板状のガラス基板1が、ガラス基板1の一方及び他方の主表面11,12のそれぞれからエッチングされることにより、所望の形状に切り抜かれてなるとともに、主表面11,12の面方向外側へ突出する頂部14が端面13に形成された携帯機器用カバーガラスのガラス基材1であって、端面13の頂部14には、丸みが形成され、主表面11,12と端面13との間の面取り寸法が10〜100μmであるガラス基材1。
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ガラスの製造方法及びガラス
【課題】生産性に優れるとともに、比較的厚みの薄いものでも、高強度で、保護機能に優れたガラス基板を得られるガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス表面のナトリウム濃度を、ガラス中心部のナトリウム濃度よりも低くするナトリウム濃度低減工程を行った後、カリウムイオンを含む溶融塩に前記ガラスを浸漬し、前記ガラス中のナトリウムイオンの一部を前記カリウムイオンと置換する化学強化処理工程を行うガラスの製造方法。
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化学強化ガラスの製造方法および化学強化用ガラス
【課題】低温かつ短時間で化学強化できる化学強化ガラスの製造方法の提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル百分率表示で、SiO2を60〜75%、Al2O3を5〜15%、MgOを1〜12%、CaOを0〜3%、ZrO2を0〜3%、Li2Oを10〜20%、Na2Oを0〜8%、K2Oを0〜5%含有し、Li2O、Na2OおよびK2Oの含有量の合計R2Oが25%以下、Li2Oの含有量とR2Oの比Li2O/R2Oが0.5〜1.0である化学強化用ガラスを化学強化することを特徴とする化学強化ガラスの製造方法。
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ディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法並びにこれを用いたディスプレイ
【課題】薄型化、軽量化が可能で、機械的強度や透明性が高く、しかも短時間で製造可能なディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法並びにこれを用いたディスプレイの提供。
【解決手段】SiO2を40〜70重量%、Al2O3を0.1〜20重量%、Na2Oを0〜20重量%、Li2Oを0〜15重量%、ZrO2を0.1〜9重量%含有し、Li2OとNa2Oの合計含有量が3〜20重量%であるガラス材料で形成されたガラス基板の表面に化学強化処理により深さ50μm以上の圧縮応力層を形成する。
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太陽電池用ガラス基板
【課題】表面品位を向上させることができ、且つ耐失透性が良好な太陽電池用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量%でSiO230〜70%、Al2O33〜20%、B2O30〜10%、MgO0〜10%、CaO0〜10%、SrO0〜25%、BaO0〜25%、Na2O0〜10%、K2O0〜10%、ZrO20〜8%を含有し、且つ30〜380℃における熱膨張係数が50〜95×10−7/℃であることを特徴とする太陽電池用ガラス基板。
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歯科用修復物の調製のためのプロセス
【課題】所望の修復物に有利に加工され得る、ガラスセラミックおよび/またはガラスが使用され得る、歯科用修復物を調製するためのプロセスを提供すること。
【解決手段】本発明は、少なくとも8.5重量%の遷移金属酸化物を含有するケイ酸リチウムガラスセラミックまたはケイ酸リチウムガラスが使用される、歯科用修復物を調製するためのプロセスに関し、この遷移金属酸化物は、イットリウムの酸化物、41〜79の原子番号を有する遷移金属の酸化物およびこれらの酸化物の混合物からなる群より選択される。
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ドープ石英ガラスの製造方法
【課題】半導体製造に用いられかつプラズマ耐食性に優れたドープ石英ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】半導体製造に用いられるプラズマ反応用治具材料としてプラズマ耐食性に優れかつ2種以上のドープ元素を併せて0.1〜20質量%含有するドープ石英ガラスをベルヌイ法で石英粉から製造する方法であって、前記石英粉が、2種以上のドープ元素を併せて0.1〜20質量%含有し、前記ドープ元素が、N、C及びFからなる群から選択される1種以上の第1の元素と、Mg、Ca、Sr、Ba、Sc、Y、Ti、Zr、Hf、ランタノイド及びアクチノイドからなる群から選択される1種以上の第2の元素とを含む混合石英粉であり、該混合石英粉を加熱溶融落下させ石英ガラスインゴットを作成する際、該石英ガラスインゴット表面温度を、1800℃以上に加熱するようにした。
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発光素子及び発光素子用基板材料
【課題】従来の発光素子に利用される基板は低屈折率のため、光の取り出し効率が低い。
【解決手段】発光層及び基板層を含む発光素子あって、前記発光層の屈折率(nEL)から前記基板層の屈折率(nsub)を減じた数(Δn)が0.2以下であることを特徴とする該発光素子。前記基板層の屈折率が1.6以上であることを特徴とする該発光素子。前記発光素子において、基板層と発光層の間に導電体層が形成されることを特徴とする該発光素子。
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チタニアドープ石英ガラス及びその製造方法
【解決手段】EUV光の反射面において、反射面の中心に位置する原点(O)及び複屈折測定点(A)を結ぶ直線と、測定点(A)における複屈折の進相軸とによりなす角度(θ)の平均値が45°より大きいチタニアドープ石英ガラス。
【効果】複屈折の進相軸が同心円状に分布しており、高い平坦性を有し、EUVリソグラフィ用、特にEUVリソグラフィフォトマスク用として有用なチタニアドープ石英ガラスを提供することができる。
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強化ガラス板及びカバーガラスの製造方法並びにカバーガラス
【課題】より高強度でかつ軽量である強化ガラス板について、その製造方法を提供すること。
【解決手段】ガラス板を化学強化する化学強化工程と、前記化学強化工程後に、前記ガラス板の表面を、平均粒径が80nm以下のコロイダルシリカを含むスラリーを用いて研磨する強化後研磨工程と、を含む、強化ガラス板の製造方法。
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ガラス組成物
【課題】環境負荷の大きい酸化ヒ素や酸化アンチモンの使用量が少なく、しかも残泡の少ないガラス組成物を提供する。
【解決手段】このガラス組成物は、質量%で表示して、SiO2:40〜70%,B2O3:5〜20%,Al2O3:10〜25%,MgO:0〜10%,CaO:0〜20%,SrO:0〜20%,BaO:0〜10%,Li2O:0.001〜0.5%,Na2O:0.01〜0.5%,K2O:0.002〜0.5%,Cl:0%を超え1.0%以下,を含む。
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