【課題】本発明は、耐熱性が高く、且つ有機発光素子やＩＴＯの屈折率に整合し得る高屈折率ガラスを創案する。
【解決手段】本発明の高屈折率ガラスは、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ １０〜６０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜５％、ＢａＯ ０．１〜６０％、Ｌａ_２Ｏ_３＋Ｎｂ_２Ｏ_５ ０．１〜４０％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ０〜１０％を含有すると共に、質量比（ＭｇＯ＋ＣａＯ）／（ＳｒＯ＋ＢａＯ）の値が０〜０．５、歪点が６００℃以上、屈折率ｎｄが１．５５〜２．３であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】有機発光素子やＩＴＯの屈折率に整合し得る高屈折率ガラスを創案する。
【解決手段】本発明の高屈折率ガラスは、ガラス組成として、モル％で、ＳｉＯ_２＋Ａｌ_２Ｏ_３＋Ｂ_２Ｏ_３ ２０〜７０％、ＳｉＯ_２ ２０〜７０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜３０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜５０％、ＢａＯ＋Ｌａ_２Ｏ_３＋Ｎｂ_２Ｏ_５＋ＺｒＯ_２＋ＴｉＯ_２ ０〜３０％を含有し、モル比Ｂ_２Ｏ_３／ＳｉＯ_２が０〜１、モル比ＳｉＯ_２／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋Ｌａ_２Ｏ_３＋Ｎｂ_２Ｏ_５）が０．１〜６、モル比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋Ｌａ_２Ｏ_３＋Ｎｂ_２Ｏ_５＋Ｇｄ_２Ｏ_３）が０．１〜０．９９であると共に、屈折率が１．５５〜２．３であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高温で磁気記録層を形成できる磁気ディスクの製造方法の提供。
【解決手段】温度が５５０℃以上であるガラス基板の上に磁気記録層を形成する工程を有する磁気ディスクの製造方法であって、ガラス基板がモル百分率表示で、ＳｉＯ_２を６２〜７４％、Ａｌ_２Ｏ_３を６〜１８％、Ｂ_２Ｏ_３を７〜１５％、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯのいずれか１成分以上を合計で８〜２１％含有し、ＳｉＯ_２およびＡｌ_２Ｏ_３の含有量合計が７０％以上、上記７成分の含有量合計が９５％以上であり、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏのいずれか１成分以上を合計で１％未満含有する、もしくはこれら３成分のいずれも含有しないものである磁気ディスクの製造方法。 （もっと読む）

【課題】搬送するガラス物品への異物混入を防止することにより、ガラス物品の品質を維持しつつ、交換回数の低減を可能としたシュートを提供する。
【解決手段】ガラス物品Ｇを搬送するシュート１０であって、３０〜７５０℃の温度範囲における熱膨張係数が−１０×１０^−７〜＋４０×１０^−７／℃であるガラス材料から構成されている。ガラス材料は、β−石英固溶体及びβ−スポジュメン固溶体の少なくとも一方を析出させた結晶化ガラスである。結晶化ガラスは、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２５０〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３１５〜３０％、Ｌｉ_２Ｏ２〜６％を含有する。 （もっと読む）

【課題】基板として強酸性液を用いる洗浄を行っても表面荒れが起こりにくい基板に用いられるガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル％表示で、ＳｉＯ_２を６２．５〜６９％、Ａｌ_２Ｏ_３を９〜１５．５％、Ｌｉ_２Ｏを８〜１６％、Ｎａ_２Ｏを０〜８％、Ｋ_２Ｏを０〜７％、ＺｒＯ_２を０〜３．５％含有し、ＳｉＯ_２−Ａｌ_２Ｏ_３が５３．３％以上、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏが１７〜２４％、上記６成分の含有量の合計が９７％以上である基板用ガラス。 （もっと読む）

【課題】優れた耐熱性および優れたイオン交換能を有し、イオン交換による化学強化処理によって高い強度を付与できるガラス組成物を提供する。
【解決手段】質量％で示して、ＳｉＯ_２ ５３〜６２％、Ａｌ_２Ｏ_３ １１〜１７％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜５％、Ｎａ_２Ｏ １０〜１５％、Ｋ_２Ｏ ３〜９％、ＭｇＯ ０〜４％、ＣaＯ ０〜４％、ＳｒＯ ０〜６％、ＢａＯ ０〜５％、ＺｒＯ_２ １〜４％、ＴｉＯ_２ ２〜６％、を含むガラス組成物とする。 （もっと読む）

【課題】泡の残存数が少ない硼珪酸ガラスを製造し得る方法を提供する。
【解決手段】ガラス原料を溶融することによりガラス融液を得、前記ガラス融液を冷却することにより硼珪酸ガラスを製造する方法において、塩化物と硝酸塩とを含み、Ｂ_２Ｏ_３の含有量が１８質量％以下であるガラス原料を用いる。 （もっと読む）

【課題】
活性マトリクス液晶ディスプレイ（ＡＭＬＣＤ）などのフラットパネル・ディスプレイ装置における基板としての用途に望ましい物理的および化学的性質を示す、アルカリを含まないホウアルミノケイ酸ガラス。
【解決手段】
本明細書には、歪み点を有し、それによって良好な寸法安定性を有する無アルカリガラスおよびその製造方法が記載される。歪み点が高いガラスは、熱処理およびそれに続くガラス製造の間の圧縮／収縮に起因するパネルの歪みを妨げることができる。 （もっと読む）

【課題】耐衝撃性に優れた情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ガラス素板の表面を、研磨剤を用いて研磨する研磨工程と、前記研磨工程の後に、研磨されたガラス素板の表面を、化学強化処理液を用いて強化する化学強化工程とを備え、前記ガラス素板として、そのガラス組成が、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｂ_２Ｏ_３、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏ、ＺｒＯ_２、ＣｅＯ_２、ＳｉＯ_２とＡｌ_２Ｏ_３とＢ_２Ｏ_３との合計、Ｌｉ_２ＯとＮａ_２ＯとＫ_２Ｏとの合計、ＭｇＯとＣａＯとＢａＯとＳｒＯとＺｎＯとの合計がそれぞれ所定量であるものを用い、前記研磨剤として、希土類酸化物を含み、ＣｅＯ_２の含有量が、前記希土類酸化物の含有量に対して９９〜９９．９９９９質量％であり、アルカリ土類金属の含有量が、前記研磨剤全量に対して１０ｐｐｍ以下であるものを用いる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を用いる。 （もっと読む）

【課題】本発明の技術的課題は、加湿しなくても、２００〜５００℃の中温域で良好なイオン伝導性を有し、成形性や長期安定性に優れたイオン伝導性材料、特にプロトン伝導性材料を創案することである。
【解決手段】本発明のイオン伝導性材料は、組成として、モル％表示で、Ｐ₂Ｏ₅ １５〜８０％、ＳｉＯ₂ ０〜７０％、Ｒ₂Ｏ（Ｌｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、Ｋ₂Ｏ、Ｒｂ₂Ｏ、Ｃｓ₂Ｏ、及びＡｇ₂Ｏの合量） ５〜３５％を含有すると共に、Ｒ₂Ｏ成分（Ｌｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、Ｋ₂Ｏ、Ｒｂ₂Ｏ、Ｃｓ₂Ｏ、Ａｇ₂Ｏ）の内、少なくとも２種以上を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】加湿しなくても、２００〜５００℃の中温域で良好なイオン伝導性を有し、成形性や長期安定性に優れたイオン伝導性薄膜材料、特にプロトン伝導性薄膜材料を創案すること。
【解決手段】本発明のイオン伝導性薄膜材料は、組成として、モル％表示で、Ｐ₂Ｏ₅ １５〜８０％、ＳｉＯ₂ ０〜７０％、Ｒ₂Ｏ（Ｌｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、Ｋ₂Ｏ、Ｒｂ₂Ｏ、Ｃｓ₂Ｏ、及びＡｇ₂Ｏの合量） ５〜３５％を含有すると共に、薄板形状を有し、その厚みが１〜５００μｍであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】保護パネルに十分な強度が得られ、然も、保護パネルの厚さの影響を受ける特性を良好に維持することが出来る光学パネル装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る光学パネル装置は、光学パネルと、該光学パネルの前面を覆う透光性の保護パネル２と、光硬化性樹脂を硬化させてなり前記光学パネルと保護パネルとの間に介在するボンディング層３を具え、前記保護パネル２は強化ガラス板21によって構成され、該強化ガラス板21の厚さは、２.５ｍｍ以上、６ｍｍ以下に設定されている。 （もっと読む）

【課題】 ガラスのエッチング速度と耐失透性を両立させ、生産性を向上させることが可能なカバーガラスを提供する。
【解決手段】
ダウンドロー法により製造される化学強化用ガラス基板を化学強化し、表面に圧縮応力層が形成された化学強化ガラス基板からなり、該化学強化用ガラス基板は、質量％表示で、ＳｉＯ_２ ５０〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ５〜２０％、Ｎａ_２Ｏ ６〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１０％、ＭｇＯ ０〜１０％、ＣａＯ ２％超〜２０％およびＺｒＯ_２ ０〜４．８％を含み、かつ（１）ＳｉＯ_２含有率−1/2Ａｌ_２Ｏ_３含有率が４６．５〜５９％、（２）ＣａＯ／ＲＯ（ただし、ＲはＭｇ、Ｃａ、ＳｒおよびＢａの中から選ばれる少なくとも１種である。）含有量比が０．３超である、（３）ＳｒＯ含有率＋ＢａＯ含有率が１０％未満である、（４）（ＺｒＯ_２＋ＴｉＯ_２）／ＳｉＯ_２含有量比が０〜０．０７未満である、および（５）Ｂ_２Ｏ_３／Ｒ^１_２Ｏ（ただし、Ｒ^１はＬｉ、ＮａおよびＫの中から選ばれる少なくとも１種である。）含有量比が０〜０．１未満である、ことを特徴とするカバーガラスである。 （もっと読む）

【課題】ガラス表面の強度を十分に強化することができ、しかも高い製造効率で安定した品位の強化板ガラスを製造するための強化板ガラスの製造方法とこの製造方法によって得られる強化板ガラスを提供する。
【解決手段】強化板ガラス１０は、無機酸化物ガラスからなり、板厚保方向に対向する板表面１１、１２に化学強化による圧縮応力層を有している。板端面１３、１４、１５、１６は、圧縮応力が形成されている領域と圧縮応力が形成されていない領域とを有している。該板端面が、レーザー切断によって形成された面を有する。 （もっと読む）

【課題】乗り物のグレイジングを開示する
【解決手段】乗り物のグレイジングは色付きガラスのペインを備え、少なくとも1.0から1.8重量%までの全鉄によって色付けられ、その内面上に低放射(反射)率被膜を持つ。被膜は、0.05から0.4までの放射率を持ち、及び透明な導電性酸化物(及び随意にドーパント)、又は金属層及び少なくとも1種の誘電体層を含んでよい。好ましくは、ガラスは強化ガラスである。また、ガラスの2種のプライを備える積層グレイジングを開示し、これはそれらの間を中間層物質によって積層され、そこでは、ガラスの少なくとも1種のプライ又は中間層物質のシートが色付き本体であり、前記グレイジングはその内面上に低放射率被膜を持つ。内側プライは、清澄なガラスか、又は色付きガラスでよい。中間層物質は、清澄なPVBか、又は色付きPVBでよく、及びそれは更に赤外(線)反射性であってよい。いずれのグレイジングも、ルーフのか、又は他の乗り物のグレイジングとして用いることができる。 （もっと読む）

【課題】
従来、半導体熱処理治具に一般に使用されてきた天然シリカ熔融石英ガラスは金属不純物、特に銅の拡散阻止能を持たない。金属不純物阻止能を有し、高温粘性の高い石英ガラスを提供する。
【解決手段】
高純度の合成シリカ粉を中性不活性雰囲気中結晶化した後に電気炉中溶解やプラズマ溶解することにより、酸素欠乏欠陥ＯＤＣＩＩ含有量を１０×１０^１５個／ｃｍ^３以下にし、かつＳｉ孤立電子対含有量を２×１０^１５個／ｃｍ^３以下にし、さらに含有Ｎａ濃度を０．０３ｗｔ．ｐｐｍ以下に抑えことにより、金属不純物拡散阻止能を有し、半導体熱処理時に粘性率の高い石英ガラスが得られる。 （もっと読む）

【課題】表面に点スクラッチおよび穴のような損傷が発生することに対して優れた耐性を有するガラスを提供する。
【解決手段】組成中に０．３％以上のアルカリ土類酸化物と０．１〜４％の燐酸を有するアルミノシリケートグラスであって、フロート法により成形され、該成形時にフロートバス上に１０００℃以上の温度で少なくとも１０分間維持することにより、その表面に特有の配置でアルカリ土類リン酸塩の析出物を持つガラスとする。 （もっと読む）

【課題】清澄剤としてＡｓ₂Ｏ₃を使用しなくても、表示欠陥となる泡が存在しない無アルカリガラス基板を製造することができる製造方法を提供する。
【解決手段】質量百分率でＳｉＯ₂ ５０〜７０％、Ａｌ₂Ｏ₃ １０〜２５％、Ｂ₂Ｏ₃ ５〜２０％、ＭｇＯ ０〜１０％、ＣａＯ ０〜１５％、ＢａＯ ０〜１０％、ＳｒＯ ０〜１０％、ＺｎＯ ０〜５％を含有し、かつＳｎＯ₂及び／又はＳｂ₂Ｏ₃を含むガラスとなるようにガラス原料調合物を用意し、該ガラス原料調合物を溶融し、成形して無アルカリガラス基板を製造する無アルカリ基板の製造方法であって、β−ＯＨ値が０．４８５／ｍｍ〜０．６５／ｍｍとなるようにガラス中の水分量を調節する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、一段階の簡略な工程で加熱することなく結晶化ガラス状の硫化物固体電解質材料を得ることが可能な硫化物固体電解質材料の製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明においては、少なくとも硫黄（Ｓ）元素および第１３族〜第１５族の元素を含有する原料組成物を用い、室温での高エネルギーメカノケミカル処理を行う合成工程のみにより、結晶化ガラス状の硫化物固体電解質材料を得ることを特徴とする硫化物固体電解質材料の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】生産性（特に耐失透性）に優れると共に、ガラス封止材の熱膨張係数に整合し、しかも歪点が高い無アルカリガラスを創案することにより、ガラス板の製造コストを低廉化しつつ、有機ＥＬディスプレイ内部の気密性を確保し、且つｐ−Ｓｉ・ＴＦＴの製造工程におけるガラス板の熱収縮を低減すること。
【解決手段】本発明の無アルカリガラスは、実質的にアルカリ金属酸化物を含有せず、歪点が６８０℃より高く、３０〜３８０℃の温度範囲における平均熱膨張係数が４０〜５５×１０^−７／℃であり、液相温度が１２００℃より低いことを特徴とする。また、本発明の無アルカリガラスは、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ５５〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３ １０〜２０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０．１〜４．５％、ＭｇＯ ０〜１％、ＣａＯ ５〜１５％、ＳｒＯ ０．５〜５％、ＢａＯ ５〜１５％を含有することを特徴とする。 （もっと読む）