【課題】特殊な設備を必要としないで、硫化リチウムの粉砕及び精製を実施しなくても、イオン伝導度が高い硫化物系固体電解質を製造できる方法を提供する。
【解決手段】ＬｉＲ（Ｒは、炭素数１〜２０の直鎖又は分岐アルキル基、炭素数３〜２０のシクロアルキル基、炭素数４〜２０のシクロアルキルアルキル基、炭素数４〜２０のアルキルシクロアルキル基、炭素数１〜２０の直鎖又は分岐アルコキシ基、炭素数３〜２０のシクロアルコキシ基、炭素数４〜２０のシクロアルキルアルコキシ基、又は炭素数４〜２０のアルコキシシクロアルキル基である）と硫化水素を反応させて硫化リチウムを製造する工程と、硫化りん、硫化ゲルマニウム、硫化ケイ素及び硫化ほう素から選択される１以上の化合物と、前記硫化リチウムとを反応させて、硫化物系固体電解質ガラスを製造する工程とを含む硫化物系固体電解質ガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 化学的耐久性、低熱膨張性、高歪み点、低比重、高ヤング率などの特性を有し、しかも泡などの欠陥が少なく製造安定性に優れる無アルカリガラスを提供する。
【解決手段】 ３０〜３００℃における平均熱膨張係数が３０〜３５×１０^−７／℃、歪み点が６７０℃以上、ヤング率が７０ＧＰａ以上、比重が２．４未満、液相温度が１２００℃未満、１０^１．５Ｐａ・ｓの粘度を示す温度が１６００℃未満、５０℃の濃度１モル／Ｌの硝酸水溶液に５０時間浸漬した際の質量減少が１ｍｇ／ｃｍ^２未満である無アルカリガラス、および実質的にＢａＯ、ＺｎＯおよびＰｂＯを含まず、ＳｉＯ_２ ６５．０〜７０．０モル％、Ａｌ_２Ｏ_３ ９．５〜１２．５モル％、Ｂ_２Ｏ_３ ８．５〜１１．５モル％（ただし、ＳｉＯ_２＋Ａｌ_２Ｏ_３＋Ｂ_２Ｏ_３ ８７．５〜９０．０モル％）、Ｂ_２Ｏ_３／（ＳｉＯ_２＋Ａｌ_２Ｏ_３） ０．１２〜０．１４、ＭｇＯ ２．５〜４．０モル％未満、ＣａＯ ５．０〜１０．０モル％、ＳｒＯ ０．１〜２．５モル％（ただし、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ １０．０〜１２．５モル％）を含む無アルカリガラスである。 （もっと読む）

【課題】真円度に優れた磁気ディスク用ガラス基板を効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】一対の主表面を有する磁気ディスク用ガラス基板Ｇの製造方法であって、溶融したガラスの塊ＧＧを落下させる落下工程と、前記塊の落下経路の両側から、互いに対向する一対の型１２１，１２２の面１２１ａ，１２２ａで前記塊ＧＧを同じタイミングで挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材Ｇを成形するプレス工程と、前記板状ガラス素材Ｇを加工する加工工程と、を有し、前記塊ＧＧの落下方向の速度成分について、前記一対の型１２１，１２２に対する前記塊ＧＧの相対速度を０に近づけるべく、前記プレス工程は、前記塊ＧＧが落下する方向に前記一対の型１２１，１２２が移動しながら、前記塊ＧＧを挟み込むことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板Ｇの製造方法。 （もっと読む）

【課題】ガラス表面の強度を十分に強化することができ、しかも高い製造効率で安定した品位の強化板ガラスを製造するための強化板ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】アルミノシリケートガラスである板ガラスの表面に対して、化学強化による圧縮応力層を形成する圧縮強化処理工程と、該圧縮強化処理工程により化学強化された板ガラスをスクライブ割断して、強化板ガラスを得る分割加工工程とを有すると共に、前記スクライブ割断の際に形成される切り傷の深さが、圧縮応力層厚さより大きく、且つ前記該圧縮強化処理工程により化学強化された板ガラスが内部の引っ張り応力により破壊しないように、前記スクライブ割断を行う。 （もっと読む）

【課題】エッチングレートを向上させることによりカバーガラスの生産効率を向上し、さらには、複雑な形状であっても、形状精度の高いカバーガラスを形成することができるカバーガラスの製造方法およびカバーガラスを提供する。
【解決手段】カバーガラスは、ダウンドロー法により成形されたガラス基板をエッチング加工し、かつ、ガラス主表面に圧縮応力層を有するように化学強化したカバーガラスである。前記ガラス基板は、成分としてＳｉＯ_２を５０〜７０質量％、Ａｌ_２Ｏ_３を５〜２０質量％、Ｎａ_２Ｏを６〜３０質量％、および、Ｌｉ_２Ｏを０〜８質量％未満含む。必要に応じて、ＣａＯを０〜２．６質量％含む。前記ガラス基板は、濃度１０質量％のフッ化水素を含む２２℃のエッチング環境で、３．７μｍ／分以上のエッチングレートのエッチング特性を有する。 （もっと読む）

【課題】カレットとしてＬＣＤ、ＰＤＰ用ガラス基板が使用可能であると共に、高い機械的強度を有する強化ガラスを創案する。
【解決手段】本発明の強化ガラスは、表面に圧縮応力層を有する強化ガラスであって、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ５０〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ５〜２０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜８％、Ｎａ_２Ｏ ５〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０．１〜１０％、ＭｇＯ ０．１〜１５％、ＳｒＯ＋ＢａＯ ０．００１〜５％を含有し、質量比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＭｇＯ＋ＺｒＯ_２）が０．３〜１．５であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 液晶表示装置用ガラス基板として、微量のアルカリ金属酸化物を含むガラス板を製造するに際し、アルカリ金属酸化物による清澄効果（気泡低減効果）を向上させる。
【解決手段】 ガラス原料を熔融して熔融ガラスを生成する工程と、熔融ガラスをガラス板へと成形する工程とを含み、ガラス板が、ＳｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃およびＲ₂Ｏ（Ｒ：Ｌｉ、Ｎａ、Ｋから選ばれる少なくとも１種であって少なくともその一部がＮａ）を含むとともに、Ｒ₂Ｏの含有率が０．０１〜２．０質量％であってＮａ₂Ｏの含有率が０．０１〜０．１５質量％であるガラス組成物からなり、ガラス原料が、Ａｌ₂Ｏ₃の原料として、Ｎａ₂Ｏを０．１〜０．６質量％の範囲で含有するアルミニウム酸化物（アルミナ）を含む、液晶表示装置用ガラス基板の製造方法とする。 （もっと読む）

【課題】携帯電話の表示部に要求される表面品位を達成可能であると共に、エッチングレートを高めることが可能であり、しかも機械的強度が高い強化ガラスを創案する。
【解決手段】本発明の強化ガラスは、表面に圧縮応力層を有する強化ガラスであって、ガラス組成として、モル％で、ＳｉＯ_２ ４５〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ３〜１５％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜１２％、Ｎａ_２Ｏ ０．３〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ １〜１５％を含有し、モル比（Ａｌ_２Ｏ_３＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｐ_２Ｏ_５）／ＳｉＯ_２が０．１〜１、モル比（Ｂ_２Ｏ_３＋Ｎａ_２Ｏ）／ＳｉＯ_２が０．１〜１、モル比Ｐ_２Ｏ_５／ＳｉＯ_２が０〜１、モル比Ａｌ_２Ｏ_３／ＳｉＯ_２が０．０１〜１、モル比Ｎａ_２Ｏ／Ａｌ_２Ｏ_３が０．１〜５であると共に、強化処理前に表面の一部又は全部がエッチングされてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】フィルターガラスとして用いられるフッ化リン酸ガラスは、耐候性が悪くしばしば非常に高いフッ素含有率のために製造が難しいという欠点がある。この問題点を解決するフッ化リン酸ガラスを提供する。
【解決手段】ガラスマトリックス中に少なくとも６８％の架橋度のリン酸成分を有するガラスで、３９％モル量までのＯ２−イオンがＦで置換されているフッ化リン酸ガラス。着色成分として酸化銅を含み、融液中のレドックス比の調整のために、酸素を含むガス（特に酸素）バブリング工程を含む方法で得られる。 （もっと読む）

【課題】垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、とりわけ、高い破壊靭性と平滑な表面を有する情報記録媒体用基板を低コストで製造する製造方法を提供することにある。
【解決手段】ＳｉＯ_２成分、Ａｌ_２Ｏ_３成分、Ｒ’_２Ｏ成分（ただしＲ’はＬｉ、Ｎａ、Ｋのいずれか１種以上）を含む板状のアモルファスガラスを準備する工程と、前記アモルファスガラスを研削する研削工程を含み、前記研削工程は前記アモルファスガラスをダイヤモンドパッドで研削する工程のみからなり、最終研磨終了後の目標厚さをｔ１、加工時の前記アモルファスガラスの厚さｔ２とするとき、ｔ２／ｔ１≦１．２の場合は全てダイヤモンドパッドで研削する情報記録媒体用基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 放射線遮蔽能力を十分に確保した上で、被検体の視認性をも十分なものとするための適切な透明性を確保できる放射線遮蔽ガラスを提供する。
【解決手段】 質量％表示で、ガラス組成として、ＳｉＯ₂ １０〜３５％、ＰｂＯ ５５〜８０％、Ｂ₂Ｏ₃ ０〜１０％、Ａｌ₂Ｏ₃ ０〜１０％、ＳｒＯ ０〜１０％、ＢａＯ ０〜１０％、Ｎａ₂Ｏ ０〜１０％、Ｋ₂Ｏ ０〜１０％を含有し、且つ厚さ１０ｍｍについての波長４００ｎｍにおける全光線透過率が５０％以上である放射線遮蔽ガラス。 （もっと読む）

【課題】励起光遮断特性を高めることにより、励起光カットフィルタの厚みを従来の色ガラス材よりも薄くできる色ガラス材を提供する。
【解決手段】 陽イオンとして、陽イオン％表示で、
Ｓｉ^４＋ ２５〜６０％
Ａｌ^３＋ ３〜１９％
Ｂ^３＋ １８〜３８％
Ｋ^＋ ９〜３１％
Ｃｏ^２＋ ０．１〜１．５％
を含み、陰イオンとして、Ｏ^２−を主成分として含み、さらに陰イオン％表示で、
Ｆ⁻ １〜１２％
Ｃｌ⁻ ０．０１〜２％
を含むことを特徴とするコバルト含有ガラスである。
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【課題】磁気ディスク用ガラス基板の主表面の研磨のために従来から研磨剤として使用されてきた酸化セリウムよりも、主表面を平らにする点、主表面のスクラッチの生じにくさの点でより優れた研磨剤を使用した磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】
研磨液を用いて磁気ディスク用ガラス基板の主表面を研磨するときに、研磨液として、主表面の算術平均粗さを０．５ｎｍ以下とし、かつ主表面のマイクロウェービネス（MW-Rq）を０．５ｎｍ以下とすべく、アルミニウム系の研磨剤として粒状のベーマイトおよび／またはギブサイトを含むものを使用する。 （もっと読む）

【課題】人やペットを火葬してできる遺骨等をできるだけ多く含有させることができるオブジェを得る。
【解決手段】生物を燃焼してできる遺骨又は／及び遺灰と、ガラス転移温度降下剤と、酸化ケイ素とを含有したガラス状物質において、酸化ケイ素の含有量をＸ重量％とし、ガラス転移温度降下剤の含有量をＹ重量％とした場合に、（１）Ｙ≦7.0Ｘ−34.0、（２）Ｙ≧−3.5Ｘ＋40.0、（３）8≦Ｘ、5≦Ｙという条件を満たし、生物を燃焼してできる遺骨又は／及び遺灰を20重量％〜80重量％含有させる。 （もっと読む）

【課題】得られたガラスセラミックスがクラック形成を回避する特殊な表面特性を有し、非常に高い曲げ引張強さが達成されるフロートガラスのセラミック化プロセスを提供する。
【解決手段】水素化合物を含む雰囲気中でフロートガラスのセラミック化を行い、前記水素化合物を水蒸気および分子水素からなる群より選択し、水蒸気の場合に３体積％以上、水素の場合には２体積％以上の量で雰囲気中に存在し、得られたガラスセラミックは曲げ引張強さが少なくとも３０ＭＰａであるとする方法。 （もっと読む）

【課題】都市ゴミ焼却灰から製造された熔融スラグを１９重量％以上含むガラス原料から製造される、素材安定性に優れ、一般的な工芸ガラスと共に使用する場合にもクラックを生じさせない褐色ガラスを提供する。
【解決手段】都市ゴミ焼却灰から製造された熔融スラグを、ガラス原料の全重量を基準にして１９重量％〜５０重量％の量で含むガラス原料から製造された褐色ガラスであって、好ましくは、線膨張係数α（室温〜３００℃）が、（１０３±７）×１０^−７／℃の範囲内である。また、熔融スラグを元素分析することにより得られた各元素の重量パーセンテージに０．６をかけた値を、褐色ガラスに導入される熔融スラグ中の各元素由来の酸化物の重量パーセンテージと規定した場合に、褐色ガラスが酸化物換算による重量％表示で、ＳｉＯ_２４５〜６０％；Ｎａ_２Ｏ１１．５〜１２．５％；Ｂ_２Ｏ_３１．２〜１．５％；Ｋ_２Ｏ５．５〜８．０％；ＣａＯ５．０〜８．５％；Ａｌ_２Ｏ_３２．０〜３．０％；Ｓｂ_２Ｏ_３０．２〜０．４％；ＺｎＯ２．０〜３．０％；ＢａＯ２．０〜３．０％；Ｆ_２０．０５〜０．１５％；Ｌｉ_２Ｏ０．２〜０．４；Ｍｇ０．２〜０．４；Ｆｅ_２Ｏ_３０．４〜０．８；ＴｉＯ_２０．２〜０．５；を含む前記褐色ガラスも提供される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、フラッタリング特性と表面平滑性に優れた記録媒体用ガラス基板を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の記録媒体用ガラス基板は、内層の表裏両面を表層で被覆したものであって、該内層は、ＳｉＯ₂を４０〜７０質量％含み、かつＬｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、およびＫ₂Ｏからなる特定アルカリ成分の合計量が１０〜１６質量％であるガラス組成を有し、該表層は、ＳｉＯ₂を４０〜７０質量％含み、かつＬｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、およびＫ₂Ｏからなる特定アルカリ成分の合計量が１〜９．９質量％であるガラス組成を有し、内層の特定アルカリ成分の合計量と表層の特定アルカリ成分の合計量との差が、０．１質量％以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】自発的に破壊しにくいフラットパネルディスプレイ用カバーガラスの提供。
【解決手段】フュージョン法により得られたガラスを化学強化して得られるフラットパネルディスプレイ用カバーガラスであって、化学強化前のガラスにおける粒子径が４０μｍ以上の欠点を含まず、内部引張り応力が３０ＭＰａ以上、且つ厚さが１．５ｍｍ以下であるフラットパネルディスプレイ用カバーガラス。 （もっと読む）

【課題】本発明は、フラッタリング特性と表面平滑性に優れた記録媒体用ガラス基板を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の記録媒体用ガラス基板は、内層の表裏両面を表層で被覆したものであって、該内層は、ＳｉＯ₂およびＰ₂Ｏ₅の少なくとも１種を３０質量％以上含み、かつＬｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、およびＫ₂Ｏからなる特定アルカリ成分の合計量が０．１〜１６質量％であるガラス組成を有し、該表層は、ＳｉＯ₂およびＰ₂Ｏ₅の少なくとも１種を３０質量％以上含み、かつＬｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、およびＫ₂Ｏからなる特定アルカリ成分の合計量が０〜０．１質量％であるガラス組成を有し、かつ該内層の特定アルカリ成分の合計量と該表層の特定アルカリ成分の合計量との差が、０．１質量％以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】生産性（特に耐失透性）に優れると共に、ガラス封止材の熱膨張係数に整合し、しかも歪点が高い無アルカリガラスを創案することにより、ガラス板の製造コストを低廉化しつつ、有機ＥＬディスプレイ内部の気密性を確保し、且つｐ−Ｓｉ・ＴＦＴの製造工程におけるガラス板の熱収縮を低減する。
【解決手段】本発明の無アルカリガラスは、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ５５〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３ １０〜２０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜５％、ＭｇＯ ０〜７％、ＣａＯ ３〜１０％、ＳｒＯ ０〜９％、ＢａＯ ０〜１５％、Ｐ_２Ｏ_５ ０．１〜２．５％を含有し、実質的にアルカリ金属酸化物を含有せず、歪点が６８０℃より高いことを特徴とする。 （もっと読む）