Fターム[4G062BB05]の内容
ガラス組成物 (224,797) | ガラスの種類 (4,172) | 珪酸塩ガラス又は不特定 (3,015) | ホウ珪酸塩ガラス(B下限≧10) (705)
Fターム[4G062BB05]に分類される特許
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透明フィルム
【課題】従来よりも光学特性及び外観品質に優れた透明フィルムを提供する。
【解決手段】ガラス繊維の基材に透明樹脂組成物を含浸し硬化して形成される透明フィルムに関する。前記ガラス繊維において、酸化ホウ素(B2O3)の含有量が12〜22質量%、酸化マグネシウム(MgO)の含有量が2〜12質量%、酸化アルミニウム(Al2O3)の含有量が7〜17質量%、二酸化ケイ素(SiO2)の含有量が45〜55質量%、酸化カルシウム(CaO)の含有量が10質量%以下、酸化ストロンチウム(SrO)の含有量が5質量%以下、酸化バリウム(BaO)の含有量が10質量%以下である。
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光学ガラス、プリフォーム材及び光学素子
【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にありながらも、高価な材料の使用が低減され、且つ耐失透性が高い光学ガラスと、それを用いたプリフォーム材及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でB2O3成分を5.0〜30.0%、及びLa2O3成分を15.0〜50.0%を含有し、且つ、Nb2O5成分の含有量が10.0%以下である。また、プリフォーム材及び光学素子は、この光学ガラスからなる。
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構造体、及び、構造体の製造方法
【課題】 断熱性を確保しつつ、耐熱性に優れた構造体、及び、構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】 金属からなる基材と、上記基材の表面上に形成された表面被覆層とを備えた構造体であって、上記表面被覆層は、上記基材の表面上に形成され、非晶質無機材を含む第1層と、上記表面被覆層の最外層として形成され、950℃以上の軟化点を有する結晶性無機材を含む第2層とを含むことを特徴とする構造体。
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光学ガラス、プリフォーム材及び光学素子
【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にあり、且つ、高価な材料の使用が低減されても耐失透性が高い光学ガラスと、それを用いたプリフォーム材及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でB2O3成分を5.0〜30.0%、La2O3成分を15.0〜50.0%を含有し、酸化物換算組成の質量比La2O3/(La2O3+Gd2O3)が0.690以下である。また、プリフォーム材及び光学素子は、この光学ガラスからなる。
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光学ガラス、プリフォーム材及び光学素子
【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にあり、且つ低いガラス転移点(Tg)を有しながらも、耐失透性が高く安価に製造することができる光学ガラスと、これを用いたプリフォーム材及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でB2O3成分を5.0〜30.0%、及びLa2O3成分を15.0〜50.0%を含有し、Ta2O5成分の含有量が20.0%以下である。
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ガラスペーストおよびそれを用いたプラズマディスプレイパネルの製造方法
【課題】隔壁前駆体と同時焼成に際し、昇温速度を大きくした場合であっても誘電体層の剥離や隔壁の断線を生じない誘電体ペースト、および生産性が高く、高品位なプラズマディスプレイの製造方法を提供する。
【解決手段】 軟加点ガラス(A)、熱重合開始剤(B)、下記一般式(1)で表される化合物(C)を含むことを特徴とするガラスペーストであること、である。
【化1】
(式中、R1〜R6のうち1〜3個がアルキロイル基であり、残りの5〜3個がアクリル基またはメタクリル基である。)とする。
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磁気ディスク用ガラス基板の製造方法
【課題】真円度に優れた磁気ディスク用ガラス基板を効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】一対の主表面を有する磁気ディスク用ガラス基板Gの製造方法であって、溶融したガラスの塊GGを落下させる落下工程と、前記塊の落下経路の両側から、互いに対向する一対の型121,122の面121a,122aで前記塊GGを同じタイミングで挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材Gを成形するプレス工程と、前記板状ガラス素材Gを加工する加工工程と、を有し、前記塊GGの落下方向の速度成分について、前記一対の型121,122に対する前記塊GGの相対速度を0に近づけるべく、前記プレス工程は、前記塊GGが落下する方向に前記一対の型121,122が移動しながら、前記塊GGを挟み込むことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板Gの製造方法。
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強化ガラス及び強化ガラス板
【課題】携帯電話の表示部に要求される表面品位を達成可能であると共に、エッチングレートを高めることが可能であり、しかも機械的強度が高い強化ガラスを創案する。
【解決手段】本発明の強化ガラスは、表面に圧縮応力層を有する強化ガラスであって、ガラス組成として、モル%で、SiO2 45〜75%、Al2O3 3〜15%、Li2O 0〜12%、Na2O 0.3〜20%、K2O 0〜10%、MgO+CaO 1〜15%を含有し、モル比(Al2O3+Na2O+P2O5)/SiO2が0.1〜1、モル比(B2O3+Na2O)/SiO2が0.1〜1、モル比P2O5/SiO2が0〜1、モル比Al2O3/SiO2が0.01〜1、モル比Na2O/Al2O3が0.1〜5であると共に、強化処理前に表面の一部又は全部がエッチングされてなることを特徴とする。
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絶縁パターンの形成方法および電子部品の製造方法
【課題】多数回の重ね塗りを行っても厚膜高精細パターンが実現可能な絶縁パターンを形成する方法を提供すること。
【解決手段】絶縁ペーストを基板上にパターン印刷して露光する工程を2回以上繰り返した後、焼成する工程を含む絶縁パターンの形成方法であって、絶縁ペーストが絶縁性の無機粉末および感光性有機成分を含み、該絶縁ペースト中の有機溶剤の含有量が5質量%以下であることを特徴とする絶縁パターンの形成方法とする。
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被覆アルミナフィラー、ガラスセラミックス組成物、発光素子用基板、および発光装置
【課題】発光素子用基板におけるガラスセラミックスの変色を抑制できるアルミナフィラーを提供すること。
【解決手段】発光素子を搭載する発光素子用基板の製造に用いられるアルミナフィラーであって、アルミナフィラーと、前記アルミナフィラーの表面を被覆し、アルミニウム以外の金属の酸化物からなる被覆層とを有することを特徴とする被覆アルミナフィラー。
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半導体封入用外套管の製造方法及び半導体封入用外套管
【課題】低温で半導体素子を封入可能であり、しかも耐酸性に優れた半導体封入用外套管を製造する方法を提供する。
【解決手段】106dPa・sの粘度に相当する温度が650℃以下であり、B2O3が15.5モル%以上の組成を有するSiO2−B2O3−R2O系無鉛ガラスにてガラス管を作製する工程と、前記ガラス管をpH3〜6の酸性溶液又はpH8〜12のアルカリ性溶液で表面処理する工程とを含む半導体封入用外套管を製造方法を特徴とする。
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耐腐食性を有する無鉛低融点ガラス組成物
【課題】
色素増感太陽電池等に代表される電子材料基板用の絶縁性被膜材料及び封着材料として用いられる無鉛低融点ガラス組成物に於いて、耐腐食性を有するもの望まれている。
【解決手段】質量%で、SiO2を10〜35、B2O3を1〜20、ZnOを0〜20、R2O(Li2O、Na2O、K2Oから選ばれる一種以上の合計)を2〜20、Bi2O3を40〜80含み、実質的に鉛成分を含まないことを特徴とする耐腐食性を有する無鉛低融点ガラス。
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コバルト含有ガラス、青色フィルタおよび放射線画像読取装置
【課題】励起光遮断特性を高めることにより、励起光カットフィルタの厚みを従来の色ガラス材よりも薄くできる色ガラス材を提供する。
【解決手段】 陽イオンとして、陽イオン%表示で、
Si4+ 25〜60%
Al3+ 3〜19%
B3+ 18〜38%
K+ 9〜31%
Co2+ 0.1〜1.5%
を含み、陰イオンとして、O2−を主成分として含み、さらに陰イオン%表示で、
F− 1〜12%
Cl− 0.01〜2%
を含むことを特徴とするコバルト含有ガラスである。
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ガラス状物質
【課題】人やペットを火葬してできる遺骨等をできるだけ多く含有させることができるオブジェを得る。
【解決手段】生物を燃焼してできる遺骨又は/及び遺灰と、ガラス転移温度降下剤と、酸化ケイ素とを含有したガラス状物質において、酸化ケイ素の含有量をX重量%とし、ガラス転移温度降下剤の含有量をY重量%とした場合に、(1)Y≦7.0X−34.0、(2)Y≧−3.5X+40.0、(3)8≦X、5≦Yという条件を満たし、生物を燃焼してできる遺骨又は/及び遺灰を20重量%〜80重量%含有させる。
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高屈折率ガラス
【課題】有機発光素子やITOの屈折率に整合し得る高屈折率ガラスを創案する。
【解決手段】本発明の高屈折率ガラスは、ガラス組成として、モル%で、SiO2+Al2O3+B2O3 20〜70%、SiO2 20〜70%、B2O3 0〜30%、MgO+CaO+SrO+BaO 0〜50%、BaO+La2O3+Nb2O5+ZrO2+TiO2 0〜30%を含有し、モル比B2O3/SiO2が0〜1、モル比SiO2/(MgO+CaO+SrO+BaO+La2O3+Nb2O5)が0.1〜6、モル比(MgO+CaO+SrO+BaO)/(MgO+CaO+SrO+BaO+La2O3+Nb2O5+Gd2O3)が0.1〜0.99であると共に、屈折率が1.55〜2.3であることを特徴とする。
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球状ガラスフィラー及びそれを用いた透明基板
【課題】液晶表示素子用プラスチック基板等の、各種エレクトロニクス表示素子用基板に対して要求される、透明性及び成型性に優れた透明基板用ガラスフィラー、並びにそれを用いた透明基板の提供。
【解決手段】アルカリ土類金属酸化物を含み、かつ0.7以上の真円度及び10μm以下の平均粒子径を有し、屈折率が1.47以上1.57以下であることを特徴とする球状ガラスフィラー。
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半導体封入用無鉛ガラス及び半導体封入用外套管
【課題】 低温で半導体素子を封入することが可能であり、しかも耐酸性に優れ、またガラス管成形時に結晶が析出し難い半導体封入用無鉛ガラス及び半導体封入用外套管を提供する。
【解決手段】 ガラス組成として、モル%で、SiO2 45〜58%、Al2O3 0〜6%、B2O3 14.5〜30%、MgO 0〜3%、CaO 0〜3%、ZnO 4.2〜14.2%、Li2O 5〜12%、Na2O 0〜15%、K2O 0〜7%、Li2O+Na2O+K2O 15〜30%、TiO2 0.1〜8%含有し、ZnO/Li2Oが0.84〜2の範囲内にあることを特徴とする。
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白色セラミックカラー組成物
【課題】光反射材料、特に、白色LED用リフレクターとして有用な、可視光全域で高反射率を有し、且つ耐熱性、耐湿性に優れた光反射層を形成できる新規な材料を提供する。
【解決手段】アルミナ、ジルコニア及びマグネシアからなる群から選ばれた少なくとも一種の成分、並びに低融点ガラス粉末を含有することを特徴とする、白色セラミックカラー組成物。
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光学ガラス
【課題】使用環境の温度変化による結像特性影響を受けにくい、屈折率(nd)が1.75以上、かつ、アッベ数(νd)が35以上である、高屈折率低分散光学ガラスを提供する。
【解決手段】SiO2、B2O3、La2O3を必須成分として含有させ、かつ構成成分の比率を調整することにより、−30〜+70℃の平均線膨張係数αと波長546.1nmにおける光弾性定数βの乗算α×βが130×10−12℃×nm×cm−1×Pa−1以下を実現する光学ガラスを得る。
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ガラスセラミックス、その製造方法、それを含む光触媒、スラリー状混合物、光触媒部材、浄化装置、フィルタ、焼結体及びガラスセラミックス複合体
【課題】ガラスを原料として、可視光応答性と優れた光触媒活性を有し、使用性や耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】 酸化物換算組成の全物質量に対して、モル%で、Bi2O3成分を5〜95%の範囲内で含有するガラスセラミックスが提供される。このガラスセラミックスは、Bi2O3結晶、Bi2WO6結晶、Bi2W2O9結晶、Bi2W3O12結晶、Bi2MoO6結晶、Bi2Mo2O9結晶、Bi2Mo3O12結晶、Bi2Ti2O7結晶、Bi2Ti4O11結晶、Bi4Ti3O12結晶、Bi12TiO20結晶、BiNbO4結晶、Bi2Fe4O9結晶、BiVO4結晶、LiBiO3結晶、及びこれらの固溶体からなる群より選択される1種以上を含有していてもよい。
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