【課題】 セラミックス基板、ガラス基板などに焼き付ける低温焼成可能な高耐酸性コーティング用ガラス組成物・ガラス組成物ペーストで、従来の無鉛・高配合ビスマス系ガラス組成物と比べて、比重が小さく、高価なガラス原料を最小限に抑えることにより、コストパフォーマンスにも優れている無鉛・珪酸亜鉛系のコーティング用ガラス組成物・ガラス組成物ペーストを提供する。
【解決手段】 低温焼成可能な高耐酸性コーティング用ガラス組成物は、実質的にＰｂＯを含有せず、ガラス組成が重量％表示で、ＳｉＯ_２ ：３５〜４５％、Ａｌ_２Ｏ_３：０〜３％、Ｂ_２Ｏ_３：５〜１１％、ＺｎＯ：２３〜３３％、Ｎａ_２Ｏ＋Ｌｉ_２Ｏ：５〜１０％、Ｂｉ_２Ｏ_３：３〜１０％、ＺｒＯ_２ ：１〜８％、ＭｎＯ_２ ：１〜５％、ＣｅＯ_２ ：０〜３％、ＴｉＯ_２ ：０〜５％であり、かつＡｌ_２Ｏ_３＋ＺｒＯ_２ の組成範囲が、１〜８％であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】優れた光触媒活性を有するとともに、耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】 ＴｉＯ_２成分、ＷＯ_３成分、ＺｎＯ成分、Ｎｂ_２Ｏ_５成分、及びＴａ_２Ｏ_５成分からなる群より選択される１種以上の成分を、酸化物換算組成の全物質量に対して、モル％で、１０〜７５％含有し、光触媒活性を有する光触媒ガラスが提供される。この光触媒ガラスは、透明性を有しており、ファイバー状、ビーズ状、基材との複合体、粉粒体、スラリー等の形態で提供され、特に窓ガラス、ミラーなどの用途に好ましく利用できる。 （もっと読む）

【課題】約１１００℃以下のろう付け温度で加工でき、かつろう付け工程の終了後に約９００℃までの作動温度で使用できる高温度用ガラスソルダーを提供する。
【解決手段】２０℃〜３００℃の温度範囲での線熱膨張α_(20-300)を８×１０^-6Ｋ^-1〜１１×１０^-6Ｋ^-1の範囲で有し、質量％で１０〜４５％未満のＢａＯ、０〜２５％のＳｒＯ（２０〜６５％のＢａＯ＋ＳｒＯ）、１０〜３１％のＳｉＯ_２、２％未満のＡｌ_２Ｏ_３、０〜１０％のＣｓ_２Ｏ、０〜３０％のＲＯ、０〜３０％のＲ_２Ｏ_３、０〜２０％のＲ_２Ｏからなるガラスソルダー。（ＲＯはアルカリ土類金属酸化物、Ｒ_２Ｏ_３はＢ_２Ｏ_３等からなる酸化物、Ｒ_２ＯはＴｉ_２Ｏ等の酸化物からなる。） （もっと読む）

【課題】リドロー成形時に安定して生産でき、また失透などがガラス表面に発生することのない、リドロー成形に好適なガラスからなる近赤外線カットフィルタガラスを提供すること。
【解決手段】ＣｕＯを含有する、ΔＴ＝Ｔｘ−Ｔｇ（ただし、Ｔｘは結晶化開始温度、Ｔｇはガラス転移点）が１００〜２２０℃であるリン含有ガラスからなる板状母材を加熱しながら延伸成形したことを特徴とする近赤外線カットフィルタガラスである。 （もっと読む）

【課題】従来と同等の紫外線遮蔽性を有し、電極の加熱と冷却の繰り返しによるサーマルショックが発生しても電極が剥離しないような照明用ガラス及び蛍光ランプ用外套管を提供する。
【解決手段】質量百分率でＳｉＯ_２ ５５〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜１０％、Ｂ_２Ｏ_３ １０〜２５％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＺｎＯ ０〜１５％、Ｎａ_２Ｏ ０〜１０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１５％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜５％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ５〜１５％、ＺｒＯ_２ ０〜５％、ＴｉＯ_２、ＣｅＯ_２、ＷＯ_３、ＭｏＯ_３、ＳｎＯ_２から選ばれる１種類以上を０．１〜５％含有し、３０〜３８０℃における熱膨張係数が５９〜７０×１０^−７／℃であることを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、噴霧乾燥方式により、低コスト疎水中空ガラスミクロスフェアを製造する方法に関し、ホウ酸、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化カルシウムの混合溶液を霧化して、高速度で撹拌しているケイ酸ナトリウムの水ガラス溶液中に入れて、混合溶液噴霧乾燥をしてから、有機ケイ素表面が改質し、疎水ガラスミクロスフェアが得られる。該中空ガラスミクロスフェアは、高生産性、低コスト、高安定性の特徴がある。 （もっと読む）

【課題】製品である液晶パネルの歩留まりを向上することができる無アルカリガラス基板を提供すること。
【解決手段】液晶パネル用の無アルカリガラス基板において、フッ酸（ＨＦ）：５．３質量％、フッ化アンモニウム（ＮＨ_４Ｆ）：３５．８質量％、残部：水からなるバッファードフッ酸の溶液中に２５℃、２０分間浸漬した後のヘイズ値が７．０％以下である。 （もっと読む）

【課題】色素増感太陽電池等に代表される電子材料基板用の絶縁性被覆材料、電極保護被覆材料及び封着材料として用いられる絶縁被覆用無鉛低融点ガラスペーストを提供すること
【解決手段】質量％でＳiＯ_２を０〜７、Ｂ_２Ｏ_３を１０〜２０、ＺｎＯを７〜３０、Ｂi_２Ｏ_３を３５〜８０含有するガラスフリットが、有機成分を必須成分とするガラスペースト中に９５〜５０質量％含有されることを特徴とする絶縁被覆用無鉛低融点ガラスペースト。 （もっと読む）

エナメル組成物、特に暖炉インサートのガラス板を被覆するためのエナメル組成物であって、少なくとも１種のガラスフリット、そのエナメルの全重量の４０〜６５％、好ましくは４５〜６０％の範囲の含有量の少なくとも１種の顔料、及び随意に少なくとも１種の媒体又は媒材を含有し、上記ガラスフリットが、次の構成成分を、以下に規定する範囲内（境界値を含み、上記フリットの総重量の重量パーセントで表す）で有することを特徴とする、エナメル組成物、特に暖炉インサートのガラス板を被覆するためのエナメル組成物：
ＳｉＯ_２ ４５〜６５％
Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜１３％
Ｂ_２Ｏ_３ ２３〜５５％
Ｎａ_２Ｏ ０〜１０％
Ｋ_２Ｏ ０〜１０％
Ｌｉ_２Ｏ ０〜１０％。 （もっと読む）

供給原料を、供給原料の少なくとも一部を中空微小球に変換するのに十分な条件下で加熱し、該加熱が真空下で行われる工程を含む、中空微小球を作製するための方法が提供される。本方法を用いて作製される中空微小球も提供される。
（もっと読む）

【課題】ディスプレイ技術および薄膜光電池の双方における基板ガラスとしての使用に高度に適したガラス。
【解決手段】次の組成（質量％、酸化物基準）：ＳｉＯ_２ ＞５８〜６５、Ｂ_２Ｏ_３ ＞６〜１０．５、Ａｌ_２Ｏ_３ ＞１４〜２５、ＭｇＯ ０〜＜３、ＣａＯ ０〜９およびＢａＯ ＞３〜８、但し、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＢａＯ ８〜１８、ＺｎＯ ０〜＜２を有する、アルカリ金属不含のアルミノホウケイ酸塩ガラス。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置などのフラットパネルディスプレイに用いるガラス基板に好適であるとともに、高い熱安定性を保つとともにＢａＯを実質的に含まないながらも失透温度が低く、ダウンドロー法によりガラス基板の製造に適したガラス組成物を提供する。
【解決手段】質量％で表示して、ＳｉＯ₂ ５４〜６２％、Ｂ₂Ｏ₃ ４〜１１％、Ａｌ₂Ｏ₃１５〜２０％、ＭｇＯ ２〜５％、ＣａＯ ０〜７％、ＳｒＯ ０〜１３．５％、Ｋ₂Ｏ ０〜１％、ＳｎＯ₂ ０〜１％、Ｆｅ₂Ｏ₃ ０〜０．２％を含み、ＢａＯを実質的に含まず、アルカリ土類金属酸化物の含有率の合計（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ）が１０〜１８．５質量％であり、失透温度が１２００℃以下であるガラス組成物とする。 （もっと読む）

【課題】環境汚染物質である鉛を含有しなくとも、Ｘ線が照射された後にも光の伝送に好ましく用いることができ、且つ高い屈折率を有する光学ガラスを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＳｉＯ_２成分を１．０％以上６０．０％以下含有し、Ｌａ_２Ｏ_３成分、ＺｒＯ_２成分、ＴｉＯ_２成分、Ｎｂ_２Ｏ_５成分及びＴａ_２Ｏ_５からなる群より選択される１種以上を必須成分として含有し、１．５０以上の屈折率（ｎ_ｄ）を有し、線量２．５ＧｙのＸ線を照射した後のガラスにキセノンランプの光を１１時間照射したときの光量回復率が４５％以上である。 （もっと読む）

【課題】発光ダイオードを発光源とする白色照明等に適用できる、近紫外光により暖色系の白色発光を示し、かつ、長期耐候性及び高耐熱性を備えた発光ガラス、当該発光ガラスを備えた発光装置、及び発光ガラスの製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明に係る発光ガラスは、母ガラスとして分相構造を有するホウケイ酸ガラスあるいはケイ酸ガラスを用いているので、近紫外光の照射により暖色系の白色発光を示す遷移金属イオンクラスタ等が母ガラスに効率よくドープされることになる。これにより、励起波長及び発光波長の長波長化が実現でき、多重散乱効果により発光強度が高い、近紫外光の照射により暖色系の白色発光を示すとともに、汎用ガラス材料であるホウケイ酸ガラスあるいはケイ酸ガラスを構成材料としているので、紫外線等に対する長期耐候性、高熱に対する耐熱性を併せ持った蛍光材料を低コストで提供することができる。 （もっと読む）

【課題】低いガラス転移温度（Ｔｇ）及び高屈折率低分散性を有し、化学的耐久性、特に表面法耐候性に優れ、精密モールドプレス成形に適した光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率（ｎ_d）が１．７５〜１．８５、アッベ数（ν_d）が３５〜４５の範囲の光学定数を有し、必須成分としてＳｉＯ₂、Ｂ₂Ｏ₃、を含有し、Ｂ_２Ｏ_３の含有量は２２質量％以下であり、かつ、ＺｒＯ₂、Ｎｂ₂Ｏ₅、Ｔａ₂Ｏ₅、ＷＯ₃、からなる群より選択される１種以上の成分を含有し、さらに１０質量％以下のＧｄ₂Ｏ₃を含有し、ガラス転移点（Ｔｇ）が５８０℃以下、表面法耐候性が級１または級２であることを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】容易かつ安価に脱泡清澄が可能であり、かつ情報表示装置、特にアクティブマトリクス型液晶表示装置のガラス基板として好適に用いられるガラス組成物およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 質量％で示して、
ＳｉＯ₂ ７６．５〜８８％，
Ｂ₂Ｏ₃ ６〜１８％，
Ａｌ₂Ｏ₃ ０．５〜４．５％，
Ｌｉ₂Ｏ ０〜０．５％，
Ｎａ₂Ｏ ０〜０．５％，
Ｋ₂Ｏ ２〜１０％，
ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜２％，
を含み、所定の範囲の塩素を含むことを特徴とするガラス組成物。 （もっと読む）

【課題】屈折率が１．７０以上、アッベ数が５０以上であって、低温軟化性を有するとともに優れたガラス安定性を示す光学ガラスの提供。
【解決手段】屈折率が１．７０以上、アッベ数が５０以上であって、モル％表示にてＢ₂Ｏ₃を２０〜８０％、ＳｉＯ₂を０〜３０％、Ｌｉ₂Ｏを１〜２５％、ＺｎＯを０〜２０％、Ｌａ₂Ｏ₃を４〜３０％、Ｇｄ₂Ｏ₃を１〜２５％、Ｙ₂Ｏ₃を０〜２０％、ＺｒＯ₂を０〜５％、ＭｇＯを０〜２５％、ＣａＯを０〜１５％、ＳｒＯを０〜１０％含むとともに、前記成分の合計量が９７％以上、モル比[ＺｎＯ／（Ｌａ₂Ｏ₃＋Ｇｄ₂Ｏ₃＋Ｙ₂Ｏ₃）]が０．８以下、かつモル比[（ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（Ｌａ₂Ｏ₃＋Ｇｄ₂Ｏ₃＋Ｙ₂Ｏ₃）]が０．８以下であり、任意成分としてＴａ₂Ｏ₅を含むことができ、かつモル比[（ＺｒＯ₂＋Ｔａ₂Ｏ₅）／（Ｌａ₂Ｏ₃＋Ｇｄ₂Ｏ₃＋Ｙ₂Ｏ₃）]が０．４以下である光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】失透し難く、かつ結晶化し難い光学ガラスを提供すること。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物基準のモル％表示で、Ｐ_２Ｏ_５を０〜２０％、Ｂ_２Ｏ_３を１５〜６０％、Ｂｉ_２Ｏ_３を１０〜３７％、ＺｎＯを５〜５０％、ＳｉＯ_２を０〜２０％、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜１０％、ＺｒＯ_２を０〜５％、Ｇｄ_２Ｏ_３を０〜１０％、ＴｉＯ_２を０〜１５％、Ｌｉ_２ＯとＮａ_２ＯとＫ_２Ｏを合計で０〜５％、ＭｇＯとＣａＯとＳｒＯとＢａＯを合計で０〜１０％含有し、Ｐ_２Ｏ_５の含有量をＺｎＯの含有量で割った値が０．４８未満であり、Ｐ_２Ｏ_５とＢ_２Ｏ_３の含有量の合量が３０〜６０％であり、Ｐ_２Ｏ_５とＢ_２Ｏ_３の含有量の合量が５０％を超えるときはＰ_２Ｏ_５の含有量は１０％以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 高品質の光学素子を安定生産可能にする高屈折率低分散光学ガラスを提供する。
【解決手段】 カチオン％表示で、
Ｂ^３＋ ２０〜５０％、
Ｌａ^３＋ ５〜３５％、
Ｎｂ^５＋ １〜３０％、
Ｔａ^５＋ ０．５〜１５％、
Ｚｎ^２＋ １１〜４０％、
を必須成分として含み、
Ｂ^３＋およびＳｉ^４＋の合計含有量が２０〜５０％、Ｌａ^３＋、Ｇｄ^３＋およびＹ^３＋の合計含有量が５〜３５％、カチオン比（（Ｂ^３＋＋Ｓｉ^４＋）／（Ｌａ^３＋＋Ｇｄ^３＋＋Ｙ^３＋））が１〜５、Ｔｉ^４＋、Ｎｂ^５＋、Ｔａ^５＋、およびＷ^６＋の合計含有量が１０〜３５％、カチオン比（（Ｎｂ^５＋＋Ｔａ^５＋）／（Ｔｉ^４＋＋Ｎｂ^５＋＋Ｔａ^５＋＋Ｗ^６＋））が０．７〜１、カチオン比（（Ｂ^３＋＋Ｓｉ^４＋）／（Ｔｉ^４＋＋Ｎｂ^５＋＋Ｔａ^５＋＋Ｗ^６＋））が０．５〜４、カチオン比（（Ｌａ^３＋＋Ｇｄ^３＋＋Ｙ^３＋）／（Ｔｉ^４＋＋Ｎｂ^５＋＋Ｔａ^５＋＋Ｗ^６＋））が０．２〜３、Ｚｎ^２＋/（Ｚｎ^２＋＋Ｍｇ^２＋＋Ｃａ^２＋＋Ｓｒ^２＋＋Ｂａ^２＋）が０．８〜１であり、屈折率ｎｄが１．８９以上、アッベ数νｄが２７〜３７である光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】機械的強度が高く、かつ、実質的にアルカリ成分を含有しない表面層を有する強化板ガラスを提供する。
【解決手段】強化板ガラスは、内部層１と、内部層１を厚さ方向に挟んで両表面側に設けられた表面層２との３層で構成されている。表面層２は、ガラス組成として実質的にアルカリ金属酸化物を含有しないガラスからなり、内部層１は、ガラス組成として実質的にアルカリ金属酸化物を含有しないガラス又は実質的にアルカリ金属酸化物を含有するガラスからなる。表面層２の厚さは１０〜５００μｍであり、内部層２の厚さは２０〜２０００μｍである。内部層１の熱膨張係数は表面層２の熱膨張係数よりも大きく、強化板ガラスは、このような熱膨張係数差を有する表面層１と内部層２とが相互に融着一体化して構成されていることにより、表面層２に５０ＭＰａ〜５００ＭＰａの圧縮応力Ｐｃが形成され、内部層２に３０〜２００ＭＰａの引張応力が形成されている。 （もっと読む）