【課題】透明なガラスセラミックプレートと、不透明着色されたガラスセラミック調理プレートを提供する。
【解決手段】主結晶相が高石英混合結晶であり、酸化物換算の組成が質量で示して、４０〜４０００ｐｐｍのＮｄ_２Ｏ_３、Ｌｉ_２Ｏ ３．０−４．５（％、以下同じ）、Ｎａ_２Ｏ ０−１．５、Ｋ_２Ｏ ０−１．５、ΣＮａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ０．２−２．０、ＭｇＯ ０−２．０、ＣａＯ ０−１．５、ＳｒＯ ０−１．５、ＢａＯ ０−２．５、ＺｎＯ ０−２．５、Ｂ_２Ｏ_３ ０−１．０、Ａｌ_２Ｏ_３ １９−２５、ＳｉＯ_２ ５５−６９、ＴｉＯ_２ １−３、ＺｒＯ_２ １−２．５、ＳｎＯ_２ ０−０．４、ΣＳｎＯ_２＋ＴｉＯ_２ ＜３、Ｐ_２Ｏ_５ ０−３．０、Ｎｄ_２Ｏ_３ ０．０１−０．４、及びＣｏＯ ０−０．００４とする。さらに必要に応じて、プレートの一面の全表面または表面の一部に、不透明で温度安定な着色コーティングを施して調理プレートとする。 （もっと読む）

【課題】ホウケイ酸ガラス中にフッ素雲母結晶が分散した快削性ガラスセラミックスにおいて、フッ素雲母結晶の成長を制御し、切削性、機械的強度を改善する。
【解決手段】フッ素以外は酸化物換算に基づく質量％で、ＳｉＯ_２：３５〜６０％、Ａｌ_２Ｏ_３：５〜２０％、ＭｇＯ：１０〜３５％、Ｋ_２Ｏ：５〜２０％、Ｂ_２Ｏ_３：２〜１０％、ＺｒＯ_２：０〜１０％およびＦ：１〜１５％の組成をなすように調整された原料配合物から得られたガラス体を、不活性ガスまたは不活性ガスと酸素との混合ガスを圧力媒体とする熱間等方圧プレス（ＨＩＰ）法により結晶化熱処理する。ＨＩＰ処理は５０ＭＰａ以上で６５０〜８５０℃の温度の第１段(結晶核生成)と、８０ＭＰａ以上で９００〜１１００℃の第２段(結晶成長)とで行うことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】６５０〜７００℃で焼成されても熱変形が起こらず、ガラス基板上に形成される種々の膜の熱膨張係数と整合する熱膨張係数を有し、軽量化、大型化が可能なディスプレイ用ガラス基板を提供することである。
【解決手段】本発明のディスプレイ用ガラス基板は、質量百分率で、ＳｉＯ₂ ５０〜８０％、Ａｌ₂Ｏ₃ ４〜１３％、Ｂ₂Ｏ₃ ０〜１０％、ＭｇＯ ０〜１０％、ＣａＯ ０〜１０％、ＳｒＯ ５〜１５％、ＢａＯ ０〜８、Ｎａ₂Ｏ ０〜６％、Ｋ₂Ｏ ７〜１５％、ＺｒＯ₂ ５〜１５％を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、質量百分率で表現される以下に規定された制限内で以下の構成要素を含む化学組成物を有するガラス基材に関係する：
ＳｉＯ_２ ５８〜７０；Ｂ_２Ｏ_３ １０〜１６；Ａｌ_２Ｏ_３ １４〜２５；ＣａＯ ２〜１０；ＭｇＯ １〜１０；ＢａＯ ０〜１０；ＳｒＯ ０〜１０；Ｒ_２Ｏ ０〜１（Ｒ_２０はアルカリ酸化物を意味する）。 （もっと読む）

【課題】面内磁気記録方式および垂直磁気記録方式の何れにおいても、高密度記録のためのランプロード方式にも十分対応し得る良好な表面特性を兼ね備え、高速回転化に耐え得る高強度を有し、各ドライブ部材に合致する熱膨張特性や耐熱性をも兼ね備えた、溶融温度が低く生産性の高い情報記録媒体用ディスク基板用等の無機組成物を提供する。
【解決手段】α−石英（α−ＳｉＯ_２）、二珪酸リチウム（Ｌｉ_２Ｓｉ_２Ｏ_５）、モノ珪酸リチウム（Ｌｉ_２ＳｉＯ_３）からなる群より選ばれる１種または２種以上の結晶相を含む無機組成物。或いは、少なくともモノ珪酸リチウム（Ｌｉ_２ＳｉＯ_３）の結晶相を含む無機組成物。そして、これらの無機組成物に含有される結晶相を示す粒子の平均粒子径は１μｍ以下である。また、無機組成物のリング曲げ強度が３００ＭＰａ以上であり、研磨加工後の表面粗度Ｒａ（算術平均粗さ）が１０Å以下である。 （もっと読む）

【課題】 清澄剤として、実質的にヒ素酸化物、アンチモン酸化物、フッ化物、スズ酸化物を使用しないガラス物品の製造方法を提供する。さらに、実質的にヒ素酸化物、アンチモン酸化物、フッ化物、スズ酸化物を含有しないガラスを提供する。
【解決手段】 溶融法によるガラス物品の製造方法であって、清澄剤として、実質的に酸化セリウムのみを用いることを特徴とするガラス物品の製造方法である。さらに、前記ガラスが、実質的にヒ素酸化物、アンチモン酸化物、フッ化物、スズ酸化物を含有しないガラス組成である。 （もっと読む）

【課題】基板表面における表面粗さ、微小うねりを所定の範囲・関係にすることによって、所望のグライド高さを達成する。
【解決手段】ガラス基板の記録再生用領域における任意のガラス表面において、５５４．３４μｍ×６１７．８７μｍの矩形領域を選択し、光を用いて該領域を走査し、基板面からの反射光と基準面からの反射光とを合成し、合成点に生じた干渉縞より、２μｍ〜５００μｍの波長の凹凸を抽出した表面形状を微小うねりとし、前記ガラス基板の記録再生用領域において、５μｍ×５μｍの矩形領域を選択し、該領域の凹凸を原子間力顕微鏡で測定して得られる表面形状を表面粗さとしたときに、 前記微小うねりの最大高さの平均値が３．５ｎｍ以下であって、且つ、前記表面粗さの最大高さが６ｎｍ以下であること。 （もっと読む）

【課題】特にディスプレイ分野において使用されるガラス基板に、高歪点ガラス基板と無アルカリガラス基板があるが、それぞれ問題点があり、広い分野に使用できるガラス基板がない。
【解決手段】実質的に重量％表示で、ＳｉＯ_２が５２〜５９、Ａｌ_２Ｏ_３が３〜１２、Ｎａ_２Ｏが２．０〜３．５、Ｋ_２Ｏが０．３〜１．５、Ｒ_２Ｏ（ただし、ＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋ）が２．５〜４、Ｎａ_２Ｏ／Ｒ_２Ｏが０．５５〜０．８８、ＭｇＯが３〜５．５、ＣａＯが４〜８、ＳｒＯが５〜１１、ＢａＯが９〜１７、Ｒ’Ｏ（ただし、Ｒ’はＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ）が２５〜３２、ＺｒＯ_２が１〜４．５であるディスプレイ装置用基板ガラス。 （もっと読む）

ここに開示された主題は、広く、ガラスを保護するためのガラス組成物およびその組成物の製造方法と使用方法に関する。
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積層ガラス物品およびその作製方法が開示されている。 （もっと読む）

【課題】充分な機械的強度があり、かつガラス基板上の金属磁性膜の腐食を改善する磁気ディスク基板用ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】組成が質量％表示で実質的に、ＳｉＯ_２ ５０〜６５、Ａｌ_２Ｏ_３ ５〜１５、Ｎａ_２Ｏ ２〜７、Ｋ_２Ｏ ４〜９、Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ７〜１４、ＭｇＯ ０．５〜５、ＣａＯ ２〜８、ＭｇＯ＋ＣａＯ ２．５〜１０、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ １２〜２５、ＺｒＯ_２ １〜６、からなり、失透温度が１０^４ポイズに相当する粘度を持つ温度より低いガラスからなるガラス板を用いることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】鉛成分を含有することなく、各種の法規制に対応することが可能であり、さらに厚盛した際に剥離などの不具合が発生することのない耐久性に優れた陶磁器用絵具を提供することを課題とする。
【解決手段】陶磁器用絵具は、各酸化物成分を計量し、混合する計量混合工程と、混合された原料混合物を１３００℃の溶融温度で溶融させる溶融工程と、炉内で溶融された溶融ガラスを急冷する急冷工程と、冷却されたガラスフリットを粉砕し、粉末にする粉末化工程と、粉末化された粉末体から水分を除去し、乾燥させる乾燥工程とを具備する製造方法によって製造される。 （もっと読む）

記載されているのは、フラットパネルディスプレイデバイス、例えば、アクティブマトリックス液晶ディスプレイ（ＡＭＬＣＤ）において基板として用いるのに所望の物理および化学特性を示すアルカリを含まないボロアルミノシリケートガラスである。その特定の態様によれば、このガラスは、温度に応じて良好な寸法安定性を有している。 （もっと読む）

【課題】ガラス板のトップ面に銀電極を形成しても、銀電極下面及びその周辺に発生する黄色発色を抑えることができるディスプレイ基板用ガラス板及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】フロート法により溶融スズ上で溶融ガラスを浮上搬送させながらガラス板に成形し、徐冷炉入口付近または徐冷炉上流側において、該ガラス板表面に連続的にＳＯ_２ガスをスプレーして保護層が形成されたガラス板であって、前記ガラス板の溶融スズと接触していない側のガラス板表面から０．１μｍの深さまでの平均Ｈ原子濃度が２．５モル％以下であるディスプレイ基板用ガラス板。 （もっと読む）

【課題】ディスプレイ技術および薄膜光電池の双方における基板ガラスとしての使用に高度に適したガラス。
【解決手段】次の組成（質量％、酸化物基準）：ＳｉＯ_２ ＞５８〜６５、Ｂ_２Ｏ_３ ＞６〜１０．５、Ａｌ_２Ｏ_３ ＞１４〜２５、ＭｇＯ ０〜＜３、ＣａＯ ０〜９およびＢａＯ ＞３〜８、但し、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＢａＯ ８〜１８、ＺｎＯ ０〜＜２を有する、アルカリ金属不含のアルミノホウケイ酸塩ガラス。 （もっと読む）

【課題】熱膨張率が高いガラス素材であっても、容量が小さい場合であっても、形状が一定で、ガラス容量も一定である複数のガラス素材またはガラス素材群を、高い生産効率で歩留よく製造する方法、このガラス素材または上記ガラス素材群を構成するガラス素材を用いて、ガラス光学素子を高い生産効率で製造する方法を提供する。
【解決手段】100〜300℃の平均線膨張係数αhが120×10^-7/℃ 以上である光学ガラスからなる溶融ガラスを流出パイプから順次受け型に滴下し、又は流下しつつ分離し、冷却して、複数の予備成形したガラス素球を調製し、このガラス素球を、（転移温度−80℃）〜（転移温度＋50℃）の範囲に加熱し、冷却する加熱処理を行い、加熱処理後の複数のガラス素球の表面の少なくとも一部または全部を、機械的加工により除去して精密ガラス球とする成形用ガラス素材の製造方法。上記方法により製造したガラス素材を、加熱により軟化した状態で成形型によってプレス成形する、ガラス光学素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】高い密度と高い発光効率を実現したガラス好ましくはシンチレータガラスセラミックスを提供する。
【解決手段】フッ化物結晶を含有し、Ｅｕ^２＋を含有することを特徴とするガラスセラミックス。 該ガラスセラミックスは原ガラスの原料として少なくともＡｌＦ_３を用い、該原料を還元剤を添加しておよび／または還元雰囲気で溶融した後、原ガラスを成形し、該原ガラスを熱処理することにより結晶を析出させることによって作製される。 （もっと読む）

【課題】 耐熱性と耐熱衝撃性に優れ、しかも成形時に失透が発生しにくいＬｉ₂Ｏ−Ａｌ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系結晶化ガラスを提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明の結晶化ガラスは、質量％で、ＳｉＯ₂ ５５〜６６％、Ａｌ₂Ｏ₃ ２０〜３０％、Ｌｉ₂Ｏ ３．１〜７％、ＴｉＯ₂ １〜５％、ＺｒＯ₂ ０．５〜３％、Ｐ₂Ｏ₅ ０．５〜５％、Ｂ₂Ｏ₃ ０．１〜２．４％、Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ ０．３〜５％、ＢａＯ ０．１〜３％、Ｐ₂Ｏ₅／Ｂ₂Ｏ₃が１．２超の組成を含有し、ガラス転移点が６２０℃以上であり、結晶化前の原ガラスの作業温度域（成形温度と液相温度との差）が８０℃以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】酸化ビスマスを含有するガラスにおいて、良好な透過率を有する光学ガラス成形品を製造する方法を提供する。
【解決手段】構成成分としてＢｉ_２Ｏ_３を含有する光学ガラス成形品を製造する方法であって、成形された光学ガラス及び／又は成形中の光学ガラスを、酸化性雰囲気又は非還元性雰囲気中で熱処理する工程を含むことを特徴とする方法。光学ガラスが、その構成成分として酸化物基準でＢ_２Ｏ_３成分を含有するため、透過率を改善させることができる。 （もっと読む）

【課題】 未結晶化ガラス製の歯冠成形体を結晶化させるための加熱工程において変形が少なく、得られた歯冠補綴物においてスプルー部の切断痕の外観に高度に優れ、且つ簡便な方法で実施でき、多数の未結晶化ガラス製の歯冠成形体を並列的に結晶化させることも容易な、結晶化ガラス製歯冠補綴物の製造方法を開発すること。
【解決手段】 歯冠鋳造型を用いて、ディオプサイド系結晶化ガラス等の原料ガラスである未結晶化ガラス製の歯冠成形体を鋳造した後、該未結晶化ガラス製の歯冠成形体を歯冠鋳造型から取り出し、結合するスプルー部を切り取った後、上記未結晶化ガラスの結晶化温度で安定な石膏等の硬化性材料の硬化体中に包埋させた状態で加熱して結晶化させることを特徴とする結晶化ガラス製歯冠補綴物の製造方法。 （もっと読む）