説明

Fターム[4G062DE04]の内容

ガラス組成物 (224,797) | Zn (6,185) | 10−30 (904)

Fターム[4G062DE04]に分類される特許

21 - 40 / 904


【課題】電子機器の筐体や装飾品用途に好適な特性、すなわち、泡品質、強度、光の透過特性に優れた、黒色の色調を有する化学強化用ガラスを提供する。
【解決手段】下記酸化物基準のモル百分率表示で、SiOを55〜80%、Alを3〜16%、Bを0〜12%、NaOを5〜16%、KOを0〜4%、MgOを0〜15%、CaOを0〜3%、ΣRO(Rは、Mg、Ca、Sr、Ba、Zn)を0〜18%、ZrOを0〜1%、着色成分(Co、Mn、Fe、Ni、Cu、Cr、V、Biの金属酸化物からなる群より選択される少なくとも1成分)を0.1〜7%含有する化学強化用ガラス。 (もっと読む)


【課題】熱処理後に高い熱膨張係数を示すとともに、流動性に優れ、また、長期間に亘って高温に晒されても、接着箇所の気密性や接着性の低下や、ガラス成分の揮発が発生しにくい結晶性ガラス組成物を提供する。
【解決手段】熱処理によって、主結晶としてMgO系結晶を析出する結晶性ガラス組成物であって、ガラス組成としてモル%で、La+Nb+Y+Ta+Yb 0.1〜30%を含有し、かつ、RO(RはLi、NaまたはKを示す)およびPを実質的に含有しないことを特徴とする結晶性ガラス組成物。 (もっと読む)


【課題】本発明の技術的課題は、レーザ封着の際に、ガス成分が放出され難い封着材料層付きガラス基板を創案することにより、有機ELデバイス等の長期信頼性を高めることである。
【解決手段】本発明の封着材料層付きガラス基板は、封着材料を焼結させた封着材料層を備える封着材料層付きガラス基板において、真空熱処理されてなると共に、レーザ封着に用いることを特徴とする。また、本発明の封着材料は、ガラス粉末を含む封着材料において、真空熱処理されてなると共に、レーザ封着に用いることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】近赤外光を吸収しつつも可視光の吸収は抑える程度の量のCu2+を加えること
ができるよう設定されたO2−/P5+比を製造後でも有する、耐候性を備えたフツリン
酸ガラス及びその製造方法並びに近赤外光吸収フィルターを提供する。
【解決手段】Cu2+を含有することにより近赤外光を吸収するフツリン酸ガラスにおい
て、前記フツリン酸ガラスでのP5+含有量に対するO2−含有量のモル比(O2−/P
5+)は3.2以上3.4未満であり、前記フツリン酸ガラスでのO2−及びFの合計
含有量に対するF含有量のモル比(F/(O2−+F))は0.05以上0.25
以下である。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、屈折率(nd)が1.75以上1.85以下を有しており、アッベ数(νd)が30.0以上45.0以下の範囲の光学定数を有する光学ガラスであって、脈理が少なく加工性が良好な光学ガラスを提供。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でB成分を4.0〜50.0%、質量比でLa/Bが0.8以下であり、液相温度が1030℃以下であることを特徴とする光学ガラス。 (もっと読む)


【課題】本発明は、錫リン酸系ガラスの耐水性を改善すると同時に、低酸素雰囲気、特に減圧雰囲気で良好に封着できるとともに、490℃以下の低温で封着可能であり、且つ熱的安定性の良好な封着用ガラス組成物および封着材料を得ることを技術課題とする。
【解決手段】本発明の封着用ガラス組成物は、ガラス組成として、下記酸化物換算のモル%表示で、SnO 30〜80%、P 10〜25%(但し、25%は含まない)、B 0〜20%、ZnO 0〜20%、SiO 0〜10%、Al 0〜10%、WO 0〜20%、RO(RはLi、Na、K、Csを指す) 0〜20%含有し、且つ低酸素雰囲気、特に減圧雰囲気における封着に用いることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明の技術的課題は、低出力のレーザーでレーザー封着が可能な封着材料層付きガラス基板の製造方法を創案することにより、有機ELデバイス等の長期信頼性を高めることである。
【解決手段】本発明の封着材料層付きガラス基板の製造方法は、ガラス基板を用意する工程と、第一の封着材料ペーストを前記ガラス基板上に塗布した後、第一の封着材料膜を形成する工程と、第二の封着材料ペーストを前記第一の封着材料膜上に塗布した後、第二の封着材料膜を形成する工程と、得られた積層膜を焼成して、前記ガラス基板上に封着材料層を形成する工程とを有すると共に、前記第一の封着材料ペーストが第一のガラス粉末を含み、且つ前記第二の封着材料ペーストが第二のガラス粉末を含み、前記第二のガラス粉末の軟化点が、前記第一のガラス粉末の軟化点より低いことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】過度に限定的なガラス組成でなくともビスマスによる赤外発光が得られ、且つ溶融法を利用したガラスの製造時に均質性を確保し易く、しかも耐失透性が良好であり、モールドプレス成形に適した赤外発光ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス全体量を100モル%とし、酸化物組成として、
(1)P:45〜75モル%、
(2)Al:3〜25モル%、
(3)RをMg、Ca、Sr、Ba及びZnからなる群から選択される少なくとも1種とし、RO:5モル%以上30モル%未満、並びに
(4)Bi:0.1〜5モル%、
を含有するガラス組成物からなり、励起光の照射により赤外波長域で蛍光発光することを特徴とする赤外発光ガラス。 (もっと読む)


【課題】低出力のレーザでレーザ封着が可能な封着材料層付きガラス基板の製造方法を提案する。
【解決手段】ガラス基板11を用意する工程と、第一の封着材料ペーストを前記ガラス基板11上に塗布した後、第一の封着材料膜12を形成する工程と、第二の封着材料ペーストを前記第一の封着材料膜12上に塗布した後、第二の封着材料膜13を形成する工程と、得られた積層膜を焼成して、前記ガラス基板11上に封着材料層14を形成する工程とを有すると共に、前記第一の封着材料ペーストが第一の封着材料を含み、且つ前記第二の封着材料ペーストが第二の封着材料を含み、前記第二の封着材料中の耐火性フィラーの含有量が、前記第一の封着材料中の耐火性フィラーの含有量より少ないことを特徴とする封着材料層付きガラス基板1の製造方法。 (もっと読む)


【課題】本発明の技術的課題は、低出力のレーザーでレーザー封着が可能な封着材料層付きガラス基板の製造方法を創案することにより、有機ELデバイス等の長期信頼性を高めることである。
【解決手段】本発明の封着材料層付きガラス基板は、封着材料を焼結させた封着材料層を備える封着材料層付きガラス基板において、封着材料が無機粉末と顔料を含み、無機粉末がガラス粉末と耐火性フィラーを含み、無機粉末中の耐火性フィラーの含有量が10〜35体積%であり、封着材料層の表面粗さRaが0.5μm未満であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】集光型太陽光発電装置用光学素子に用いられるガラスであって、耐候性に優れ、かつ、複雑な形状に容易に加工することが可能なガラス、それを用いた集光型太陽光発電装置用光学素子、および、集光型太陽光発電装置を提供する。
【解決手段】集光型太陽光発電装置用光学素子に用いられるガラスであって、質量%で、SiO 30〜80%、B 0〜40%、Al 0〜20%、LiO 0.1%以上およびZrO 0.1%以上を含有することを特徴とするガラス。 (もっと読む)


【課題】屈折率(n)及びアッベ数(ν)が所望の範囲内にありながら、色収差の補正に好ましく用いられる光学ガラスと、これを用いたレンズプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、B成分、La成分及びF成分を含有し、1.70以上の屈折率(n)と、39以上52未満のアッベ数(ν)とを有し、部分分散比(θg,F)がアッベ数(ν)との間で(θg,F)≧(−2.0×10−3×ν+0.6498)の関係を満たす。 (もっと読む)


【課題】高性能なガラス複合シートの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス複合シート2の製造方法は、ガラス粉末と機能材粉末とを混合して混合粉末1を得る工程と、混合粉末1をロールプレス成形することによりガラス複合シート2を得る成形工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】有機ELディスプレイ等の信頼性を高めたレーザー封着に好適な封着材料層付きガラス基板を提供する。
【解決手段】封着材料を焼結させた封着材料層を備える封着材料層付きガラス基板において、封着材料が少なくとも無機粉末を含み、無機粉末がガラス粉末と耐火性フィラーを含み、無機粉末中の耐火性フィラーの含有量が10〜35体積%であり、封着材料層の表面粗さRaが0.5μm未満であることを特徴とする封着材料層付きガラス基板。 (もっと読む)


【課題】 耐電圧、耐摩耗性、熱伝導率、および耐スクラッチ性が一層高い絶縁膜や保護層(以下、絶縁膜等という)を形成し得る絶縁膜組成物を提供する。
【解決手段】 ガラスを主成分とする厚膜絶縁ペーストには、アルミナ粉末が含まれているため、定着ヒータの絶縁膜やサーマルプリントヘッドの保護層に好適で、硬度が高く延いては耐摩耗性や耐スクラッチ性が高く、且つ熱伝導率や耐電圧が高い絶縁膜等を得ることができる。アルミナ粉末のアスペクト比が1.2以下と小さいことから充填密度が得られるので絶縁膜の硬度等の改善効果が一層高められる。アルミナ粉末の体積比率が25(%)以上と大きいことから、硬度や熱伝導率等の改善効果が一層高められ、体積比率が60(%)未満に留められていることから、強固な絶縁膜等を得ることができる。 (もっと読む)


【課題】(1)環境上好ましくない成分を実質的に含有しない、(2)低ガラス転移点を有する、(3)高屈折率かつ低分散である、(4)プリフォーム成形時の耐失透性に優れる、といった要求をすべて満足することが可能な光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量%で、SiO 0〜10%、B 5〜30%、LiO 0〜0.1%未満、ZnO 3.1〜14.5%、ZrO 0〜8%、La 25〜41%、Gd 0〜30%、TiO 0〜8%、Nb 0〜10%、Ta 0〜12%およびWO 0〜10%を含有し、鉛成分、ヒ素成分およびフッ素成分を実質的に含有せず、かつ、屈折率が1.846以上、アッベ数が30〜45、ガラス転移点が650℃以下であることを特徴とする光学ガラス。 (もっと読む)


【課題】従来の低融点鉛ガラスと同等以下の焼成温度で軟化流動可能な無鉛ガラス組成物を提供する。また、その特性に加えて、良好な熱的安定性や良好な化学的安定性を有する無鉛ガラス組成物を提供する。
【解決手段】本発明に係る無鉛ガラス組成物は、成分を酸化物で表したときにAg2OとV2O5とTeO2とを少なくとも含有し、Ag2OとV2O5とTeO2との合計含有率が75質量%以上であることを特徴とする。好ましくは、10〜60質量%のAg2Oと、5〜65質量%のV2O5と、15〜50質量%のTeO2とを含有する。 (もっと読む)


【課題】屈折率(n)が1.78以上、アッベ数(ν)が30以下であり、部分分散比が小さい光学ガラスを提供する。
【解決手段】部分分散比(θg,F)が0.624以下の範囲の光学定数を有し、必須成分としてSiO、Nbを含有し、質量%の比率でNbが40%より多いことを特徴とする光学ガラス。質量%の比率でKOが2%未満、TiO/(ZrO+Nb)が0.32未満、かつSiO、B、TiO、ZrO、Nb、WO、ZnO、SrO、LiO、NaOの合計含有量が90%より多いことを特徴とする前記光学ガラス。 (もっと読む)


【課題】次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、きわめて低い比重を有する結晶化ガラスおよび情報記録媒体用結晶化ガラス基板を提供する。
【解決手段】結晶相としてRAl、RTiO、(ただしRはZn、Mg、Feから選択される1種類以上)から選ばれる一種以上を含有する結晶化ガラスであって、酸化物基準の質量%で、SiO40%〜60%、Al7%〜23%、TiO1〜15%、MgO1%〜20%、CaO0%〜10%、SrO0%〜5%、BaO0%〜5%、ZnO0%〜15%、FeO0%〜8%、P0%〜7%、B0%以上8%未満、の各成分を含有し、(MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO+FeO)/(SiO+Al)の値が0.25以下、(ZnO+FeO)/MgOの値が0以上0.9以下、比重が2.67以下であることを特徴とする結晶化ガラス。 (もっと読む)


【課題】所望の屈折率およびガラス転移点を達成しやすく、しかも高い耐候性を兼ね備えた光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量%で、SiO 10〜48%、B 3〜15%(ただし、15%は含まない)、Al 2〜15%、LiO 0〜20%、NaO 0.1〜20%、KO 0〜15%、CaO 0.1〜25%、SrO 0〜25%、BaO 0.1〜25%(ただし、25%は含まない)、La 0〜4.5%、Nb 0〜4.9%、ZrO 0〜7%およびTiO 0〜5%を含有し、かつ、Pb成分、P成分およびF成分を実質的に含有しないことを特徴とする光学ガラス。 (もっと読む)


21 - 40 / 904