【課題】本発明は、Ａｌ−Ｓｉ合金層とＡｌドープ層を適正に形成し得ると共に、ブリスターやＡｌの凝集を発生させ難く、しかも熱水による電極の耐劣化性が良好な電極形成用ガラスを創案することを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の電極形成用ガラスは、ガラス組成として、モル％で、Ｂｉ_２Ｏ_３ １〜３０％、Ｂ_２Ｏ_３ １０〜６６％、ＣａＯ ０．１〜２５％を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高い導電性と機械的強度を備える接合部を形成可能な導電性接合材を提供し、該導電性接合材によって形成された接合部を有する固体酸化物形燃料電池（ＳＯＦＣ）システムを提供する。
【解決手段】本発明によって提供されるＳＯＦＣシステム（１１０）に形成される接合部（１２０）は、以下の二つの成分：
（ａ）Ａｇ；および、
（ｂ）クリストバライト結晶、リューサイト結晶及びフォーステライト結晶のうちから選択される少なくとも１種の結晶がガラスマトリックス中に析出していることを特徴とするガラス；
が混在して形成されている。 （もっと読む）

【課題】ガラス表面の強度を十分に強化することができ、しかも高い製造効率で安定した品位の強化板ガラスを製造するための強化板ガラスの製造方法とこの製造方法によって得られる強化板ガラスを提供する。
【解決手段】本発明の強化板ガラスは、アルミノシリケートガラスであって、板厚方向に相対向する板表面にそれぞれ化学強化による圧縮応力層を有し、板端面に、圧縮応力が形成されている領域と圧縮応力が形成されていない領域とを有し、前記アルミノシリケートガラスが、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ５０〜８０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ５〜２５％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ ３〜２５％、ＣａＯ＋ＭｇＯ＋ＺｎＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜１０％を含有し、圧縮応力層の厚さが１００μｍ以下であり、且つ前記板端面が、スクライブ割断によって形成された面であると共に、折割工程を経ずに形成された面であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高い機械的強度を有しつつ、軟化点が低い強化ガラスを創案することにより、特定形状、例えば曲面形状を有する強化ガラスを得ること。
【解決手段】本発明の強化ガラスは、表面に圧縮応力層を有する強化ガラスであって、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ４５〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜３０％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ８〜３０％、Ｎａ_２Ｏ ８〜２０％含有し、ガラスバッチの一部に水酸化物原料を用いて作製されてなり、且つβ−ＯＨ値が０．３〜１／ｍｍであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】（１）環境上好ましくない鉛成分、ヒ素成分およびフッ素成分を実質的に含有しない、（２）低ガラス転移点を有する、（３）高屈折率かつ低分散である、（４）プリフォーム成形時の耐失透性に優れる、といった要求をすべて満足することが可能な光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ０〜１０％、Ｂ_２Ｏ_３ ５〜３０％、ＺｎＯ ３．１〜２５％、ＺｒＯ_２ ０〜５．４％、Ｌａ_２Ｏ_３ ２５〜４１％、Ｇｄ_２Ｏ_３ ０〜３０％、Ｔａ_２Ｏ_５ ０〜１２％、Ｎｂ_２Ｏ_５ ０．１〜２０％、ＷＯ_３ ０〜１０％、ＴｉＯ_２ ０〜８％およびＬｉ_２Ｏ ０．１〜５％を含有し、かつ、鉛成分、ヒ素成分およびフッ素成分を実質的に含有せず、屈折率が１．８４６以上、アッベ数が３０〜４５、ガラス転移点が６５０℃以下であることを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】２５０℃以上での耐熱性と絶縁性を保持しつつ、−５０℃〜２００℃の熱サイクルでも、半導体素子と封止材、および、半導体素子が実装されているパッケージ内壁と封止材が剥離することがなく、しかも、封止するために封止材を１ｍｍ以上の厚さで用いた場合でもクラックが生じることのない、ガラスフリット複合材料を提供する。
【解決手段】熱硬化性シリコーン樹脂３〜４０重量％、１〜１０００ｐｐｍのアルカリ金属を含有するシリカ１〜２０重量％、鉛を含有しないガラスフリット１〜３０重量％、コージライト３０〜９０重量％、を含有することを特徴とするガラスフリット複合材料。 （もっと読む）

【課題】ガラス表面を改良し、タッチパネルの操作性を向上させ、更にはガラスの機械的強度を高めること。
【解決手段】本発明のタッチパネル用ガラスの製造方法は、ガラス表面の全部または一部の表面粗さＲａを３〜５００００Åにする粗面化工程を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、鉛を含まず、低いガラス転移点（Ｔｇ）で、ガラスを粉体状態又はペーストとして扱っても被覆作業後に結晶化しにくいテルライト系ガラス組成物を提供する。
【解決手段】
Ｂ_２Ｏ_３、ＴｅＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、アルカリ金属成分の含有量を適宜調整することにより、低いガラス転移点（Ｔｇ）で、ガラスを粉体状態又はペーストとして扱っても被覆作業後に結晶化しにくい特性を兼ね備えたガラス組成物を得られることを見出し、本発明を完成するに至った。 （もっと読む）

【課題】清澄槽を構成する白金族金属で構成された容器の変形の防止に適したガラス板製造装置を提供する。
【解決手段】熔融ガラス５の気泡を除去するための清澄槽３０は、白金族金属からなり、熔融ガラス５を収容する容器１と、容器１を支持する耐火物支持体７と、容器１と耐火物支持体７との間において容器１の外周面および耐火物支持体７に接するように配置された耐火物繊維層２とを備えている。耐火物繊維層２は、耐火物支持体７に対する容器１の膨張を、層２の界面による滑りおよび変形、ならびに層２の収縮により許容する。その結果、容器１に加わる応力が緩和され、容器１の変形が防止される。耐火物支持体７は、その厚み方向についての酸素の透過を遮蔽する気密性を有する耐火物保護層３を備えていてもよい。耐火物保護層３は、容器１を構成する白金族金属の酸化および揮発を抑制する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、低出力のレーザにより、適正にレーザ封着が可能な封着材料ペースト及び封着材料層付きガラス基板を創案することにより、有機ＥＬ素子パッケージを備える有機ＥＬデバイス等の長期信頼性を高めることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の封着材料ペーストは、無機粉末とビークルを含む封着材料ペーストにおいて、無機粉末がＳｎＯ含有ガラス粉末を含み、ビークルが樹脂バインダーと溶剤を含み、質量比で無機粉末／ビークルの値が０．４５〜１．６５であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】一体感があり、漏水を生じるような隙間がなく、角張った屈曲角部にも施工可能であり、更なる軽量化を図ることができる結晶化ガラス物品とその製造方法を提供する。
【解決手段】結晶化ガラス物品１０は、互いに融着した複数のガラス小領域同士の界面から内部に向かって針状結晶が析出した結晶化ガラスよりなる第一焼結体１１と、同様な結晶化ガラスよりなる第二焼結体１２とを備え、第一焼結体１１の一の面１１ａの一部１１ｂに第二焼結体１２が融着一体化されてなる。 （もっと読む）

【課題】従来よりも発光強度の高い蛍光体複合部材を容易に製造する方法を提供する。
【解決手段】無機基材上に、ガラス粉末および無機蛍光体粉末を含有する混合粉末を載置する工程、および、金型を用いて加熱しながら混合粉末をプレス成型し、無機基材表面に無機粉末焼結体層を形成する工程、を含むことを特徴とする蛍光体複合部材の製造方法。無機基材が、ＹＡＧ系セラミックス、結晶化ガラス、ガラス、金属または金属とセラミックスの複合体であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】機械的特性に優れ、かつ主平面の表面粗さとその面内均一性に優れた磁気記録媒体用ガラス基板を提供する。
【解決手段】この磁気記録媒体用ガラス基板は、ヤング率が６８ＧＰａ以上で比弾性率が２７ＭＮｍ／ｋｇ以上のアルミノシリケートガラスからなり、中央部に円孔を有する円盤形状の磁気記録媒体用ガラス基板であって、前記磁気記録媒体用ガラス基板の主平面において、内周端面より３．５ｍｍ以上外周側でかつ外周端面より３．５ｍｍ以上内周側の領域で、光学式表面観察機によりレーザー光を使用して測定された表面粗さの標準偏差が０．５ｎｍ未満であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】環境負荷の大きい酸化ヒ素や酸化アンチモンの使用量が少なく、しかも残泡の少ないガラス組成物を提供する。
【解決手段】このガラス組成物は、質量％で表示して、ＳｉＯ₂：４０〜７０％，Ｂ₂Ｏ₃：５〜２０％，Ａｌ₂Ｏ₃：１０〜２５％，ＭｇＯ：０〜１０％，ＣａＯ：０〜２０％，ＳｒＯ：０〜２０％，ＢａＯ：０〜１０％，Ｌｉ₂Ｏ：０〜０．５％，Ｎａ₂Ｏ：０〜０．５％，Ｋ₂Ｏ：０〜０．５％，Ｃｌ：０％を超え１．５％以下，を含み、Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏが０．０６％を超える範囲にある。このガラス組成物は、例えば、ガラス原料の一部として塩化物を用いることにより好適に製造できる。 （もっと読む）

【課題】有機発光素子やＩＴＯの屈折率ｎｄに整合し、また耐失透性が高く、しかも原料コストの高騰を防止し得る高屈折率ガラスを創案する。
【解決手段】本発明の高屈折率ガラスは、ガラス組成として、質量％で、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜１０％、ＳｒＯ ０．００１〜３５％、ＺｒＯ_２＋ＴｉＯ_２ ０．００１〜３０％、Ｌａ_２Ｏ_３＋Ｎｂ_２Ｏ_５ ０〜１０％を含有し、質量比ＢａＯ／ＳｒＯが０〜４０、質量比ＳｉＯ_２／ＳｒＯが０．１〜４０であり、且つ屈折率ｎｄが１．５５〜２．３であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、封着材料付きガラス基板を作製する際に、有機バインダーを完全に焼却除去し得る方法を創案することにより、有機ＥＬデバイスの長期信頼性を高めることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の封着材料層付きガラス基板の製造方法は、ガラス基板を用意する工程と、ガラス粉末を含む封着材料と、有機バインダーを含むビークルとを混合して、封着材料ペーストを作製する工程と、前記ガラス基板に前記封着材料ペーストを塗布して、塗布層を形成する工程と、前記塗布層を前記ガラス粉末のガラス転移点より高く、且つ前記封着材料のガラス転移点未満の温度で熱処理して、前記有機バインダーを焼却除去する工程と、前記有機バインダーを焼却除去した前記塗布層を熱処理して、封着材料層を形成する工程とを具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】機械的特性に優れ、かつ主平面の表面粗さとその面内均一性に優れた磁気記録媒体用ガラス基板を得るための製造方法を提供する。
【解決手段】この磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法は、ガラス素板を中央部に円孔を有する円盤形状のガラス基板に加工する形状付与工程と、前記ガラス基板の主平面を研磨する研磨工程と、前記ガラス基板を洗浄する洗浄工程とを有し、前記ガラス基板は、ヤング率が６８ＧＰａ以上で比弾性率が２７ＭＮｍ／ｋｇ以上のアルミノシリケートガラスからなる基板である。そして、前記研磨工程は、一次粒子の平均粒子径が１〜８０ｎｍのシリカ粒子を含有し、ｐＨが３．５〜５．５で電気伝導率が７ｍＳ／ｃｍ以下である研磨液と、研磨パッドを用いて前記ガラス基板の主平面を研磨する仕上げ研磨工程を有する。 （もっと読む）

【課題】ガラス組成中に鉛を含まなくても、放射線遮蔽性能が高いガラスを創案すること。
【解決手段】本発明のガラスは、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ １５〜５５％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜１０％、ＳｒＯ ０．００１〜３５％、ＺｒＯ_２＋ＴｉＯ_２ ０．００１〜３０％、Ｌａ_２Ｏ_３＋Ｎｂ_２Ｏ_５ ０〜１０％を含有し、質量比ＢａＯ／ＳｒＯが０〜４０、質量比ＳｉＯ_２／ＳｒＯが０．１〜４０であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】鉛以外の成分を除いた銀色無鉛釉薬の提供。
【解決手段】Ｒ^１_２Ｏ（Ｒ^１_２ＯはＬｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏの１種または２種以上を表す）を０．０６モル≧Ｒ^１_２Ｏ；
ＣａＯを０．０５モル≦ＣａＯ≦０．３４モル；
Ａｌ_２Ｏ_３を０．０２モル≦Ａｌ_２Ｏ_３≦０．２７モル；
ＭｎＯを０．６５モル≦ＭｎＯ≦０．９５モル；および
ＴｉＯ_２を０．１１モル≦ＴｉＯ_２の量で含み、ホウ素を含まない銀色無鉛釉薬。 （もっと読む）

【課題】高い透磁率を有する基材を得ることができる磁性体ペーストを提供するとともに、このような磁性体ペーストを用いることにより、高性能な電子部品を提供する。
【解決手段】磁性体ペーストは、平均粒径が０．５〜１０μｍの磁性体焼結粉末、ガラス粉末および有機成分を含む。ここで、磁性体焼結粉末／ガラス粉末の質量比を８０／２０〜９０／１０の範囲とする。さらに、ガラス粉末におけるＳｉＯ₂の割合を７０〜９０質量％とする。この磁性体ペーストを硬化させて基材１２、１６、２２、２６を作製し、基材上に電極パターン１４、１８、２４、２８を形成して、基材の積層体１０を焼成することにより、高透磁率を利用したインダクタンスを有する電子部品を得ることができる。 （もっと読む）