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半導体素子被覆用ガラス
【課題】環境への負荷が小さくて化学耐久性に優れ、かつ、表面電荷密度が低く、特に低耐圧用の半導体素子を被覆するために好適なガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量%で、ZnO 52〜65%、B2O3 5〜20%、SiO2 15〜35%およびAl2O3 3〜6%を含有し、かつ、鉛成分を実質的に含有しないことを特徴とする半導体素子被覆用ガラス。さらに、組成として、Ta2O5 0〜5%、MnO2 0〜5%、Nb2O5 0〜5%、CeO2 0〜3%およびSb2O3を含有することが好ましい。
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電子デバイスの製造方法
【課題】有機ELデバイス等の内部にガス成分を吸着する材料を設けなくても、長期信頼性の得られるレーザー封着方法。
【解決手段】レーザー封着により電子デバイスを製造する方法において、(1)ガラス基板を用意する工程と、(2)ガラス粉末を含む封着材料と、有機バインダーを含むビークルとを混合して、封着材料ペーストを作製する工程と、(3)ガラス基板に封着材料ペーストを塗布して、塗布層を形成する工程と、(4)塗布層を焼成して、封着材料層付きガラス基板を得る工程と、(5)封着材料層を介して、封着材料層付きガラス基板と、封着材料層が形成されていないガラス基板とを重ね合わせる工程と、(6)レーザー封着温度が焼成温度以下になるように、レーザー光を照射して、封着材料層付きガラス基板と、封着材料層が形成されていないガラス基板とを気密封着する工程とを備えることを特徴とする。
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ガラスパッケージ、圧電振動子、発振器、電子機器、電波時計、及びガラスパッケージの製造方法
【課題】ガラス組成物の焼成後に生じるベース基板との段差を平坦化して、キャビティの内部と外部の導通性を確保することができるガラスパッケージの製造方法、ガラスパッケージ、圧電振動子、発振器、電子機器、及び電波時計を提供する。
【解決手段】貫通孔21,22と金属芯材31との間に充填された結晶性ガラス体32は、酸化物換算の質量%表示でBi2O360〜80%、SiO25〜20%、Al2O30.5〜8%、B2O30.5〜13%、及びZnO0〜12%を含有するビスマス系ガラス組成物を焼成により焼結してなるものであることを特徴とする。
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ガラスセラミック誘電体用材料およびガラスセラミック誘電体
【課題】ホウケイ酸ガラス粉末を原料とするガラスセラミック誘電体用材料であって、グリーンシート成形時において、スラリーの粘度変化が生じにくく、かつ、流動性が高くレベリング性に優れたガラスセラミック誘電体用材料を提供する。
【解決手段】ホウケイ酸ガラス粉末を49.9〜89.9質量%、アルミナ粉末および/または石英粉末を10〜50質量%、ならびに、ホウ酸アルミニウム粉末および/またはホウ酸シリカ系化合物粉末を0.1〜4質量%含有することを特徴とするガラスセラミック誘電体用材料。
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光学ガラス、精密プレス成形用プリフォームおよびその製造方法、光学素子およびその製造方法
【課題】屈折率ndが1.70以上、アッベ数νdが50以上であって、低温軟化性を有するとともに優れたガラス安定性を示す光学ガラスの提供。
【解決手段】屈折率ndが1.72以上、アッベ数νdが50以上であって、モル%表示にて、B2O3 40〜75%、SiO2 0%を超え15%以下、Li2O 1〜10%、ZnO 0〜15%、La2O3 5〜22%、Gd2O3 3〜20%、Y2O3 0%以上1%未満、ZrO2 0〜10%、MgO 0〜5%、CaO 0〜5%、SrO 0〜5%、F 0〜5%を含み、Li2OおよびZnOの合計量が5〜15モル%であり、かつモル比(ZnO/Li2O)が0.4以上2.5以下である光学ガラス。
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3成分ドープの重要部分を含んだシリカ・チタニアガラスを作製する方法
【課題】Tzcに対する許容値、CTE対温度の傾き、およびTzcの空間的均一性などの特定のパラメータに対して必要な改善がなされ、かつ25nm未満のノードのリソグラフィにシステムの素子として使用するのに適した、ドープされたシリカ・チタニアガラスを提供する。
【解決手段】選択された重量のシリカ・チタニア粉末と選択された重量のドーパント粉末とを検量して、このシリカ・チタニア粉末および選択されたドーパント粉末を混合し、さらに選択された流体を用いて、この混合された粉末のスラリーを形成する。このスラリーを噴霧乾燥して、およそ200μm以下の直径サイズを有する自由流動微粒子を含んだ粉末を形成する。この粉末を、一軸加圧成形を用いて、次いでさらに冷間静水圧加圧を用いて、成形品に成形し、この成形品をホットプレスにより固化してドープされたシリカ・チタニアガラスブランクとし、さらにガラスブランクをアニールする。
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結晶性ガラス組成物およびそれを用いた接着材料
【課題】熱処理後に高い熱膨張係数を示すとともに、流動性に優れ、また、長期間に亘って高温に晒されても、接着箇所の気密性や接着性の低下や、ガラス成分の揮発が発生しにくい結晶性ガラス組成物を提供する。
【解決手段】熱処理によって、主結晶としてMgO系結晶を析出する結晶性ガラス組成物であって、ガラス組成としてモル%で、La2O3+Nb2O5+Y2O3+Ta2O5+Yb2O3 0.1〜30%を含有し、かつ、R2O(RはLi、NaまたはKを示す)およびP2O5を実質的に含有しないことを特徴とする結晶性ガラス組成物。
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気体および/または液体を殺菌する装置
【課題】高効率、コンパクトで、均一な光分布を有する紫外線殺菌装置を提供する。
【解決手段】被処理気体および/または液体の流通する中空の内部空間40、管内壁70と管外壁60を備える石英ガラスおよびホウケイ酸ガラスから選択される紫外線透過性のガラス管10、リフレクタ30、および少なくとも1つの紫外光源20により紫外線殺菌装置を構成し、紫外線透過性ガラス管の少なくとも1つの個所に内部空間への湾入部25を作成し、該湾曲部に紫外光源を配置する。
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化学強化用ガラス
【課題】電子機器の筐体や装飾品用途に好適な特性、すなわち、泡品質、強度、光の透過特性に優れた、黒色の色調を有する化学強化用ガラスを提供する。
【解決手段】下記酸化物基準のモル百分率表示で、SiO2を55〜80%、Al2O3を3〜16%、B2O3を0〜12%、Na2Oを5〜16%、K2Oを0〜4%、MgOを0〜15%、CaOを0〜3%、ΣRO(Rは、Mg、Ca、Sr、Ba、Zn)を0〜18%、ZrO2を0〜1%、着色成分(Co、Mn、Fe、Ni、Cu、Cr、V、Biの金属酸化物からなる群より選択される少なくとも1成分)を0.1〜7%含有する化学強化用ガラス。
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ヒ素およびアンチモンを含有しない酸化チタン含有ホウケイ酸ガラスおよびその製造方法
【課題】製造中にヒ素化合物およびアンチモン化合物が清澄剤として使用されない酸化チタン含有ホウケイ酸ガラスを提供する。
【解決手段】ヒ素化合物およびアンチモン化合物を使用することなく製造された、酸化チタン含有ホウケイ酸ガラス、更に酸素含有セレン化合物を清澄剤として使用することを含む、環境に優しい精製方法とする。ガラスは、赤外範囲において良好な透過率値を有し、邪魔な変色を示さないことから、IR光導体、光センサー用カバーガラスおよびUVフィルターの製造に特に適している。
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フツリン酸ガラス及びその製造方法並びに近赤外光吸収フィルター
【課題】近赤外光を吸収しつつも可視光の吸収は抑える程度の量のCu2+を加えること
ができるよう設定されたO2−/P5+比を製造後でも有する、耐候性を備えたフツリン
酸ガラス及びその製造方法並びに近赤外光吸収フィルターを提供する。
【解決手段】Cu2+を含有することにより近赤外光を吸収するフツリン酸ガラスにおい
て、前記フツリン酸ガラスでのP5+含有量に対するO2−含有量のモル比(O2−/P
5+)は3.2以上3.4未満であり、前記フツリン酸ガラスでのO2−及びF−の合計
含有量に対するF−含有量のモル比(F−/(O2−+F−))は0.05以上0.25
以下である。
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光学ガラス、光学素子及びプリフォーム
【課題】 本発明は、屈折率(nd)が1.75以上1.85以下を有しており、アッベ数(νd)が30.0以上45.0以下の範囲の光学定数を有する光学ガラスであって、脈理が少なく加工性が良好な光学ガラスを提供。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でB2O3成分を4.0〜50.0%、質量比でLa2O3/B2O3が0.8以下であり、液相温度が1030℃以下であることを特徴とする光学ガラス。
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封着材料層付きガラス基板
【課題】本発明の技術的課題は、レーザ封着の際に、ガス成分が放出され難い封着材料層付きガラス基板を創案することにより、有機ELデバイス等の長期信頼性を高めることである。
【解決手段】本発明の封着材料層付きガラス基板は、封着材料を焼結させた封着材料層を備える封着材料層付きガラス基板において、真空熱処理されてなると共に、レーザ封着に用いることを特徴とする。また、本発明の封着材料は、ガラス粉末を含む封着材料において、真空熱処理されてなると共に、レーザ封着に用いることを特徴とする。
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封着材料層付きガラス基板の製造方法
【課題】本発明の技術的課題は、低出力のレーザーでレーザー封着が可能な封着材料層付きガラス基板の製造方法を創案することにより、有機ELデバイス等の長期信頼性を高めることである。
【解決手段】本発明の封着材料層付きガラス基板は、封着材料を焼結させた封着材料層を備える封着材料層付きガラス基板において、封着材料が無機粉末と顔料を含み、無機粉末がガラス粉末と耐火性フィラーを含み、無機粉末中の耐火性フィラーの含有量が10〜35体積%であり、封着材料層の表面粗さRaが0.5μm未満であることを特徴とする。
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赤外発光ガラス
【課題】過度に限定的なガラス組成でなくともビスマスによる赤外発光が得られ、且つ溶融法を利用したガラスの製造時に均質性を確保し易く、しかも耐失透性が良好であり、モールドプレス成形に適した赤外発光ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス全体量を100モル%とし、酸化物組成として、
(1)P2O5:45〜75モル%、
(2)Al2O3:3〜25モル%、
(3)RをMg、Ca、Sr、Ba及びZnからなる群から選択される少なくとも1種とし、RO:5モル%以上30モル%未満、並びに
(4)Bi2O3:0.1〜5モル%、
を含有するガラス組成物からなり、励起光の照射により赤外波長域で蛍光発光することを特徴とする赤外発光ガラス。
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リン酸塩系ガラスおよびリン酸塩系ガラスを用いたサーマルヘッド
【課題】
従来のケイ酸塩系ガラスは熱伝導率が大きく、サーマルヘッドの低消費電力化が図れなかった。
【解決手段】
モル%で、P2O5を50〜68%、CeO2を15〜39%、B2O3を2〜7%、Pr6O11を0.2〜0.5%含み、CeO2に対するP2O5のモル比が1≦P2O5/CeO2<4の関係を満たすリン酸塩系ガラス、またはP2O5を50〜65%、CeO2を5〜15%、B2O3を3〜8%、Al2O3を0〜10%、BaOを0〜9%およびPr6O11を含み、CeO2に対するP2O5のモル比が4≦P2O5/CeO2の関係を満たすリン酸塩系ガラスは熱伝導率が小さいので、サーマルヘッドのグレーズ層に用いることにより低消費電力化が図れる。また、熱膨張係数がセラミックス基板と等しいので、セラミックス基板との剥離が起こりにくく、耐熱性に優れる。
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封着材料層付きガラス基板の製造方法
【課題】本発明の技術的課題は、低出力のレーザーでレーザー封着が可能な封着材料層付きガラス基板の製造方法を創案することにより、有機ELデバイス等の長期信頼性を高めることである。
【解決手段】本発明の封着材料層付きガラス基板の製造方法は、ガラス基板を用意する工程と、第一の封着材料ペーストを前記ガラス基板上に塗布した後、第一の封着材料膜を形成する工程と、第二の封着材料ペーストを前記第一の封着材料膜上に塗布した後、第二の封着材料膜を形成する工程と、得られた積層膜を焼成して、前記ガラス基板上に封着材料層を形成する工程とを有すると共に、前記第一の封着材料ペーストが第一のガラス粉末を含み、且つ前記第二の封着材料ペーストが第二のガラス粉末を含み、前記第二のガラス粉末の軟化点が、前記第一のガラス粉末の軟化点より低いことを特徴とする。
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強化ガラス基板及びその製造方法
【課題】本発明の技術的課題は、フロート法で成形されているにもかかわらず、反り量が小さい強化ガラス基板及びその製造方法を創案することである。
【解決手段】本発明の強化ガラス基板は、フロート法で成形されてなる強化ガラス基板において、ボトム面の圧縮応力値が、トップ面の圧縮応力値より大きいことを特徴とする。
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封着用ガラス組成物および封着材料
【課題】本発明は、錫リン酸系ガラスの耐水性を改善すると同時に、低酸素雰囲気、特に減圧雰囲気で良好に封着できるとともに、490℃以下の低温で封着可能であり、且つ熱的安定性の良好な封着用ガラス組成物および封着材料を得ることを技術課題とする。
【解決手段】本発明の封着用ガラス組成物は、ガラス組成として、下記酸化物換算のモル%表示で、SnO 30〜80%、P2O5 10〜25%(但し、25%は含まない)、B2O3 0〜20%、ZnO 0〜20%、SiO2 0〜10%、Al2O3 0〜10%、WO3 0〜20%、R2O(RはLi、Na、K、Csを指す) 0〜20%含有し、且つ低酸素雰囲気、特に減圧雰囲気における封着に用いることを特徴とする。
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封着材料層付きガラス基板の製造方法
【課題】低出力のレーザでレーザ封着が可能な封着材料層付きガラス基板の製造方法を提案する。
【解決手段】ガラス基板11を用意する工程と、第一の封着材料ペーストを前記ガラス基板11上に塗布した後、第一の封着材料膜12を形成する工程と、第二の封着材料ペーストを前記第一の封着材料膜12上に塗布した後、第二の封着材料膜13を形成する工程と、得られた積層膜を焼成して、前記ガラス基板11上に封着材料層14を形成する工程とを有すると共に、前記第一の封着材料ペーストが第一の封着材料を含み、且つ前記第二の封着材料ペーストが第二の封着材料を含み、前記第二の封着材料中の耐火性フィラーの含有量が、前記第一の封着材料中の耐火性フィラーの含有量より少ないことを特徴とする封着材料層付きガラス基板1の製造方法。
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