【課題】本発明の目的は、ナトリウム除去処理などの必要が無く、ナトリウム成分の溶出が無いガラス成形品を提供することにある。
【解決手段】本発明のガラス成形品は、Ｎａ_２Ｏ不含ガラスから構成されることを特徴とする。また、該Ｎａ_２Ｏ不含ガラスは、ＳｉＯ_２６４〜７４質量％、ＺｒＯ_２４〜１６質量％、Ｒ_２Ｏ（ただし、ＲはＬｉ、Ｋ、Ｃｓを示す）１０〜２２質量％、Ｒ’Ｏ（ただし、Ｒ’はＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａを示す）３〜１４質量％を主成分として含有してなり、Ｎａ_２Ｏが不添加であることを特徴とする。 （もっと読む）

二重クラッド光ファイバは、シリカ系ガラスのコア、内側クラッドおよび外側クラッドを有してなる。コアは、約５μｍ未満の半径、および第１の屈折率ｎ₁を有し、活性希土類ドーパントは全く含んでいない。内側クラッドは、コアを取り囲み、少なくとも約２５μｍの半径方向厚さ、少なくとも約０．２５の開口数、およびｎ₂＜ｎ₁となるような第２の屈折率ｎ₂を有する。コアの内側クラッドに対する相対屈折率パーセント（Δ％）は、約０．１％より大きい。外側クラッドは、内側クラッドを取り囲み、約１０μｍから約５０μｍの半径方向厚さ、およびｎ₃＜ｎ₂となるような第３の屈折率ｎ₃を有する。内側クラッドの外側クラッドに対する相対屈折率パーセント（％）は、約１．５％より大きい。
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ある態様において、本発明は、高度の結晶化度（５０体積％より大きい）および高い機械的強度（ＭＯＲ＞１５０ＭＰａ）を有するマシナブルガラスセラミックに関する。本発明によれば、ここに記載されたマシナブルガラスセラミックは、質量パーセントで表して、３５〜５５％のＳｉＯ₂、６〜１８％のＡｌ₂Ｏ₃、１２〜２７％のＭｇＯ、３〜１２％のＦ、５〜２５％のＳｒＯ、０〜２０％のＢａＯおよび１〜７％のＫ₂Ｏから実質的になる。本発明のマシナブルガラスセラミックは、２５℃および１ｋＨｚで８未満の比誘電率（典型的に６〜８の範囲にある）；２５℃および１ＭＨｚで０．００２未満の誘電正接；２５〜３００℃の温度範囲において８０〜１２０×１０^-7／℃の範囲にあるＣＴＥ；約０．２５のポアソン比；および０％の気孔率を有する。 （もっと読む）

【課題】プレス成形を行った後において、ガラス成形体の表面の凹凸や曇りを低減することのできるガラス成形体の製造方法、及びガラス成形体の曇り低減方法を提供する。
【解決手段】ガラス成形体の製造方法は、軟化したガラスに対して金型内でプレス成形を行うガラス成形体の製造方法において、Ｓｂ成分を実質的に含有しないガラスを用いるものである。また、ガラス成形体の曇り低減方法は、軟化したガラスに対する金型内でのプレス成形によって作製されるガラス成形体の曇り低減方法であって、プレス成形前のガラスに含まれるＳｂ成分を低減するものである。 （もっと読む）

本発明は、鉛フリー、カドミウムフリー、ビスマスフリーの、高耐久性の低温焼成ガラス及びエナメル組成物に関する。前記組成物は、シリカ、亜鉛、チタン、及びホウ素の酸化物をベースとするガラスフリットを含む。結果として得られる組成物は、自動車用、飲料用、建築用、製薬用、及びその他のガラス基板の装飾もしくは保護に使用することができる。 （もっと読む）

【課題】人体及び環境に対して悪影響をおよぼす砒素成分やアンチモン成分を実質的に使用せずとも、垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途としての物性を備えた結晶化ガラスを提供すること。とりわけ、高速回転化や落下衝撃に耐え得る高強度を有し、各ドライブ部材に合致する熱膨張特性や化学的耐久性をも兼ね備えた、溶融温度が低く、プレス成形等に適した生産性の高い情報記録媒体用ディスク基板用等の結晶化ガラスを提供すること。
【解決手段】酸化物基準において、ＳｉＯ_２成分、Ｌｉ_２Ｏ成分、Ａｌ_２Ｏ_３成分を含有し、結晶相として二ケイ酸リチウムを含有し、Ｓｎ、Ｃｅ、Ｍｎ、Ｗ、Ｔａ、Ｂｉ、Ｎｂ、Ｓ、Ｃｌ、およびＦから選ばれる１種以上の元素を含有することを特徴とする結晶化ガラス。 （もっと読む）

本発明は、細胞低酸素経路を調節するために特定遷移金属イオンの制御放出を与えるように配合されたガラス組成物、並びに薬剤及び生物医学的研究（罹患組織又は損傷組織の修復、回復又は再生に関する）における、これらの低酸素経路調節ガラスの使用に関する。
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本発明は、相互接続された孔隙を有する多孔質ガラス構造の製造方法、結果として得られる多孔質構造、並びに骨の修復及び再生におけるマクロポーラス足場としてのその利用に関する。
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【課題】光学機器の高精細化、コンパクト化に伴い、赤外線カットフィルターに要求される赤外線吸収能力が高くなっている。このような課題に対して厚みを薄くしても赤外線範囲において極めて高い吸収能を有するガラスを提供する。
【解決手段】酸化物基準の質量％で２５〜６５％のＰ_２Ｏ_５成分及びＣｕＯ成分を含有するガラスに、ＣｏＯ成分を含有させた赤外線吸収ガラスを提供する。本発明によるガラスは、従来の赤外線吸収ガラスに比べＰ_２Ｏ_５成分の含有量を少なくできるので耐候性がよく、波長７００ｎｍの光における透過率が７％未満、波長７８０〜１０００ｎｍの光における透過率が１％未満、波長１１００ｎｍの光における透過率が３％未満、波長１２００ｎｍの光における透過率が５％未満という優れた赤外線吸収能力を有する。 （もっと読む）

本発明は、不透明な着色ガラス・セラミック物品、および、標準的な金属加工工具を使用して所望の形状へと容易に形成することができる、不透明な着色ガラス・セラミック物品の製造に関する。これらの物品に使用するガラス・セラミック材料は、雲母結晶を主要相として含む。所望の色は、前駆体ガラスへの着色料系の添加によってもたらされる。特定の実施の形態では、本発明は、黒色のガラス・セラミック物品を対象とし、黒色は、２０重量％の濃度の酸化鉄の添加によってもたらされ、これによって、鉄が豊富な雲母相を有するガラス・セラミック、および／または、鉄が豊富な雲母相と酸化鉄相を有するガラス・セラミックを生じることができる。
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本発明は、特に１次光源としての半導体光源を含む白色または着色光源のための変換材料に関し、この変換材料は、約１ｍｍの厚さｄを有するバルク材料として用いられるとき、３５０ｎｍから８００ｎｍの波長領域において、また１次光源が発光する領域において、８０％を超える内部透過率τ_ｉを有するマトリックスガラスを含み、発光団を含まない焼結マトリックスガラスの透過率およびリミッタンス（ｒｅｍｉｔｔａｎｃｅ）の合計は、３５０ｎｍから８００ｎｍのスペクトル領域において、また１次光源が発光するスペクトル領域において、少なくとも８０％を超える。
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【課題】低屈伏点、高屈折率、高透過率を有する、モールドプレス成形に適した光学ガラスの提供を課題とする。
【解決手段】リン、ビスマス、亜鉛を酸化物換算で、Ｐ_２Ｏ_５：１５〜３０ｍｏｌ％、Ｂｉ_２Ｏ_３：５〜３５ｍｏｌ％、ＺｎＯ：４０〜７５ｍｏｌ％含有し、且つフッ素を、酸素とのモル比で、Ｆ／Ｏ：０．０１〜０．４含有させてある光学ガラスである。更にアルミニウムをＡｌ_２Ｏ_３の形で１０ｍｏｌ％以下含有させ、またリチウム、ナトリウム、カリウムの中から選ばれる少なくとも１つ以上のアルカリ元素ＲをＲ_２Ｏの形で１５ｍｏｌ％以下含有させ、また希土類元素とガリウムとの中からから選ばれる少なくとも１つ以上の元素Ｍを酸化物（Ｍ_２Ｏ_３）換算で５ｍｏｌ％以下含有させることができる。これらの場合、フッ素をＺｎＦ_２、ＡｌＦ_３、ＲＦ、ＭＦ_３として添加させて所定のＦ／Ｏモル比にする。 （もっと読む）

【課題】Ｂｉ_２Ｏ_３を含有する光学ガラスにおいて、極めて大きい部分分散比[θｇ，Ｆ]を維持しつつ、アッベ数[νd]が特徴的な値を有する光学ガラスを提供する。
【解決手段】ＳｉＯ_２成分及び/又はＢ_２Ｏ_３成分を含有し、酸化物基準の質量％でＢｉ_２Ｏ_３成分を４０〜９０％含有し、部分分散比［θｇ，Ｆ］が０．６３以上、アッベ数［νｄ］が２７以下であり、部分分散比［θｇ，Ｆ］＞−０．０１０８×［νｄ］＋０．８５２９を満たすことを特徴とする光学ガラス。酸化物基準の質量％でＢｉ_２Ｏ_３ 成分を６４〜９０％含有する請求項１記載の光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】熱膨張係数の十分大きな結晶化ガラス基板が安定的に得られる製造方法を提供する。
【解決手段】少なくともＳｉＯ_２を主成分として含有するガラス基板に、露光エネルギーを１〜２０Ｊ／ｃｍ^２の間で調節して紫外線露光を行い、次いで熱処理温度を７８０℃〜９００℃の間で調節して熱処理を行う結晶化ガラス基板の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】グラスライニング表面からのアルカリ成分等の溶出を抑制した、低溶出性グラスライニング及びその製造方法、並びに低溶出性グラスライニングから構成されるグラスライニング構造物を提供すること。
【解決手段】本発明の低溶出性グラスライニングは、金属基材と、下引きグラスライニング層と、上引きグラスライニング層と、ポリテトラフルオロエチレン層とから構成されるグラスライニングであって、前記ポリテトラフルオロエチレン層と接する前記上引きグラスライニング層の表面が脱アルカリ処理されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】Ｂ₂Ｏ₃を含有せず、ＬＣＤパネル用のガラス板として用いることができるディスプレイパネル用ガラス板の提供。
【解決手段】実質的にＢ₂Ｏ₃を含有せず、酸化物基準の質量％表示で、ガラス母組成として、ＳｉＯ₂：７３．５〜７８．５、ＭｇＯ：１０．６〜１１．８、Ｎａ₂Ｏ：３．０〜１５．０、Ｋ₂Ｏ：１．０〜１２．０、Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ：６．０〜１５．０からなり、密度が２．４５ｇ／ｃｍ³以下であり、５０〜３５０℃の平均熱膨張係数が７５×１０^-7／℃以下であり、ガラス転移点が６１０℃以上であり、ブリトルネスが６．５μｍ^-1/2以下であり、粘度をηとするときｌｏｇη＝２．５を満たす温度が１６２０℃以下であるディスプレイパネル用ガラス板。 （もっと読む）

【課題】基板寸法が１１００ｍｍ×１２５０ｍｍ以上、特に２０００ｍｍ×２０００ｍｍ以上である場合に、ガラス基板全面に渡って、溶融欠陥検査を適正に行うことにより、溶融欠陥がない大型のガラス基板を得ること。
【解決手段】本発明のガラス基板は、基板寸法が１１００ｍｍ×１２５０ｍｍ以上であり、且つ経路長５０ｍｍにおける波長５００〜８００ｎｍの透過率が８０％以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、ナトリウム成分の溶出が無いグラスライニング製機器を提供することができるグラスライニング用上ぐすり組成物を提供することにある。
【解決手段】本発明のグラスライニング用上ぐすり組成物は、該組成物を構成するフリットがＳｉＯ_２６４〜７４質量％、ＺｒＯ_２４〜１６質量％、Ｒ_２Ｏ（ただし、ＲはＬｉ、Ｋ、Ｃｓを示す）１０〜２２質量％、Ｒ’Ｏ（ただし、Ｒ’はＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａを示す）３〜１４質量％及びＺｎＯ４を超え１０質量％（４を超え８モル）を主成分として含有してなり、Ｎａ_２Ｏが不添加であることを特徴とし、更に、本発明のグラスライニング用上ぐすり組成物には、金属繊維を配合することもできる。 （もっと読む）

本発明は、生物活性ガラス被覆物、特に、Ｔｉ６Ａｌ４Ｖ合金及びクロム・コバルト合金用の生物活性ガラス被覆物に関する。このガラス被覆物の熱膨張係数はその合金の熱膨張係数にマッチされている。こうした被覆物は特に医療用プロステーシスに用いられる。 （もっと読む）

【課題】透明誘電体ガラス組成において、透過率が高く、さらにＰＤＰに代表される電子材料基板の電極周辺に発生する空洞を抑制することができる電子材料基板用の絶縁性被膜材料が望まれている。
【解決手段】透明絶縁性の無鉛低融点ガラスにおいて、質量％で、ＳiＯ_２ ０〜５、Ｂ_２Ｏ_３ ２０〜３５、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜５、ＺｎＯ ３０〜４０、ＢaＯ ２２〜３２、Ｆ ０．１〜４含むことを特徴とする無鉛低融点ガラス。３０℃〜３００℃における熱膨張係数が（７５〜８５）×10^−７／℃、軟化点が５５０℃以上５８０℃以下である特徴も有す。 （もっと読む）