【課題】研磨粒子として有用なガラス粒子、ガラスセラミック粒子、セラミック粒子を提供する。
【解決手段】Ａｌ_２Ｏ_３と希土類酸化物とＺｒＯ_２／ＨｆＯ_２を含むセラミック（ガラス、結晶質セラミック、ガラス−セラミックを含む）およびその製造方法に関する。Ａｌ_２Ｏ_３と希土類酸化物とＺｒＯ_２／ＨｆＯ_２を溶融し、ガラスビーズ、ガラス粉末として、熱処理を行いガラスセラミックス粉体として、研磨粒子等に利用が可能である。また該粒子は断熱材、フィラー、または複合材料（セラミック複合材料、金属複合材料、ポリマーマトリクス複合材料など）中の強化材、摩耗を伴う用途での保護コーティング材として利用し得る。 （もっと読む）

【課題】低出力のレーザでレーザ封着が可能な封着材料層付きガラス基板の製造方法を提案する。
【解決手段】ガラス基板１１を用意する工程と、第一の封着材料ペーストを前記ガラス基板１１上に塗布した後、第一の封着材料膜１２を形成する工程と、第二の封着材料ペーストを前記第一の封着材料膜１２上に塗布した後、第二の封着材料膜１３を形成する工程と、得られた積層膜を焼成して、前記ガラス基板１１上に封着材料層１４を形成する工程とを有すると共に、前記第一の封着材料ペーストが第一の封着材料を含み、且つ前記第二の封着材料ペーストが第二の封着材料を含み、前記第二の封着材料中の耐火性フィラーの含有量が、前記第一の封着材料中の耐火性フィラーの含有量より少ないことを特徴とする封着材料層付きガラス基板１の製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明の技術的課題は、低出力のレーザーでレーザー封着が可能な封着材料層付きガラス基板の製造方法を創案することにより、有機ＥＬデバイス等の長期信頼性を高めることである。
【解決手段】本発明の封着材料層付きガラス基板は、封着材料を焼結させた封着材料層を備える封着材料層付きガラス基板において、封着材料が無機粉末と顔料を含み、無機粉末がガラス粉末と耐火性フィラーを含み、無機粉末中の耐火性フィラーの含有量が１０〜３５体積％であり、封着材料層の表面粗さＲａが０．５μｍ未満であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】過度に限定的なガラス組成でなくともビスマスによる赤外発光が得られ、且つ溶融法を利用したガラスの製造時に均質性を確保し易く、しかも耐失透性が良好であり、モールドプレス成形に適した赤外発光ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス全体量を１００モル％とし、酸化物組成として、
（１）Ｐ_２Ｏ_５：４５〜７５モル％、
（２）Ａｌ_２Ｏ_３：３〜２５モル％、
（３）ＲをＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ及びＺｎからなる群から選択される少なくとも１種とし、ＲＯ：５モル％以上３０モル％未満、並びに
（４）Ｂｉ_２Ｏ_３：０．１〜５モル％、
を含有するガラス組成物からなり、励起光の照射により赤外波長域で蛍光発光することを特徴とする赤外発光ガラス。 （もっと読む）

【課題】本発明は、錫リン酸系ガラスの耐水性を改善すると同時に、低酸素雰囲気、特に減圧雰囲気で良好に封着できるとともに、４９０℃以下の低温で封着可能であり、且つ熱的安定性の良好な封着用ガラス組成物および封着材料を得ることを技術課題とする。
【解決手段】本発明の封着用ガラス組成物は、ガラス組成として、下記酸化物換算のモル％表示で、ＳｎＯ ３０〜８０％、Ｐ_２Ｏ_５ １０〜２５％（但し、２５％は含まない）、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜２０％、ＺｎＯ ０〜２０％、ＳｉＯ_２ ０〜１０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜１０％、ＷＯ_３ ０〜２０％、Ｒ_２Ｏ（ＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓを指す） ０〜２０％含有し、且つ低酸素雰囲気、特に減圧雰囲気における封着に用いることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ホウ素含有量の削減により環境問題の緩和や原料原価低減を実現でき、細番手ガラスフィラメントの製造が容易で、易熔性のガラス繊維用組成物の提供を課題とする。
【解決手段】本発明のガラス繊維用組成物は、酸化物ガラス組成物であって、酸化物換算の質量百分率表示でＰ₂Ｏ₅ ０．０１〜３％、ＳｉＯ₂ ５２〜６２％、Ａｌ₂Ｏ₃ １０〜１６％、Ｂ₂Ｏ₃ ４．５〜８％、ＭｇＯ ０〜５％、ＣａＯ １６〜３０％、Ｒ₂Ｏ（Ｒ＝Ｌｉ＋Ｎａ＋Ｋ） ０〜２％の組成を有するものである。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながら、色収差の補正に好ましく用いられる光学ガラスと、これを用いたレンズプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、Ｂ_２Ｏ_３成分、Ｌａ_２Ｏ_３成分及びＦ成分を含有し、１．７０以上の屈折率（ｎ_ｄ）と、３９以上５２未満のアッベ数（ν_ｄ）とを有し、部分分散比（θｇ，Ｆ）がアッベ数（ν_ｄ）との間で（θｇ，Ｆ）≧（−２．０×１０^−３×ν_ｄ＋０．６４９８）の関係を満たす。 （もっと読む）

【課題】高性能なガラス複合シートの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス複合シート２の製造方法は、ガラス粉末と機能材粉末とを混合して混合粉末１を得る工程と、混合粉末１をロールプレス成形することによりガラス複合シート２を得る成形工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬディスプレイ等の信頼性を高めたレーザー封着に好適な封着材料層付きガラス基板を提供する。
【解決手段】封着材料を焼結させた封着材料層を備える封着材料層付きガラス基板において、封着材料が少なくとも無機粉末を含み、無機粉末がガラス粉末と耐火性フィラーを含み、無機粉末中の耐火性フィラーの含有量が１０〜３５体積％であり、封着材料層の表面粗さＲａが０．５μｍ未満であることを特徴とする封着材料層付きガラス基板。 （もっと読む）

【課題】集光型太陽光発電装置用光学素子に用いられるガラスであって、耐候性に優れ、かつ、複雑な形状に容易に加工することが可能なガラス、それを用いた集光型太陽光発電装置用光学素子、および、集光型太陽光発電装置を提供する。
【解決手段】集光型太陽光発電装置用光学素子に用いられるガラスであって、質量％で、ＳｉＯ_２ ３０〜８０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜４０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜２０％、Ｌｉ_２Ｏ ０．１％以上およびＺｒＯ_２ ０．１％以上を含有することを特徴とするガラス。 （もっと読む）

【課題】 耐電圧、耐摩耗性、熱伝導率、および耐スクラッチ性が一層高い絶縁膜や保護層(以下、絶縁膜等という)を形成し得る絶縁膜組成物を提供する。
【解決手段】 ガラスを主成分とする厚膜絶縁ペーストには、アルミナ粉末が含まれているため、定着ヒータの絶縁膜やサーマルプリントヘッドの保護層に好適で、硬度が高く延いては耐摩耗性や耐スクラッチ性が高く、且つ熱伝導率や耐電圧が高い絶縁膜等を得ることができる。アルミナ粉末のアスペクト比が1.2以下と小さいことから充填密度が得られるので絶縁膜の硬度等の改善効果が一層高められる。アルミナ粉末の体積比率が25(％)以上と大きいことから、硬度や熱伝導率等の改善効果が一層高められ、体積比率が60(％)未満に留められていることから、強固な絶縁膜等を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】本発明の技術的課題は、製造コストを高騰させることなく、ガラス板（特に無アルカリ又は低アルカリのガラス板）を強化処理し得る方法を創案することである。
【解決手段】本発明の強化ガラス板の製造方法は、ガラス板を熱処理して、ガラス板の表面領域のＳｉＯ_２の含有量を、ガラス板の表面から深さ１μｍの内部領域に比べて、質量基準で１．０３倍以上に増加させることにより、ガラス板を強化処理することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ベロ法もしくはダンナー法などの慣用の方法によって管引きして、ガラス管を形成でき、これらのガラス管が形状変化（収縮及び屈曲）を受ける傾向と７００℃までの更なる加工温度で互いにくっつく傾向が、理想的にはほとんどないガラス組成物を提供する。
【解決手段】酸化物を基礎とするモル％で、ＳｉＯ₂ ７４〜８１、Ｂ₂Ｏ₃ ８．５〜１４．５、Ａｌ₂Ｏ₃ ０．５〜３．５、Ｎａ₂Ｏ １．５〜３．５、Ｋ₂Ｏ １．０〜２．０、Ｌｉ₂Ｏ ０〜１．０、ＭｇＯ ０．５〜１．５、ＣａＯ ０．５〜１．５、ＢａＯ ０〜０．６、ＴｉＯ₂ ２．０〜３．５、ＺｒＯ₂ ０〜１．０、及び清澄剤として、Ｓｂ₂Ｏ₃ ０〜０．１５、ＣｅＯ₂ ０〜０．５、ＳｎＯ₂ ０〜０．５を含み、かつ０．４＜Ｎａ₂Ｏ／（Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ）≦０．７２のモル比を有する、ホウケイ酸ガラスによって解決される。 （もっと読む）

【課題】従来の要求特性を満たすと共に、エッチングにより複数の強化ガラス片に分断し易い強化ガラスを提供する。
【解決手段】表面に圧縮応力層を有する強化ガラスであって、ガラス組成として、モル％で、ＳｉＯ_２４５〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３３〜１５％、Ｌｉ_２Ｏ０〜１２％、Ｎａ_２Ｏ０．３〜２０％、Ｋ_２Ｏ０〜１０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ１〜１５％を含有し、モル比（Ａｌ_２Ｏ_３＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｐ_２Ｏ_５）／ＳｉＯ_２が０．１〜１、モル比（Ｂ_２Ｏ_３＋Ｎａ_２Ｏ）／ＳｉＯ_２が０．１〜１、モル比Ｐ_２Ｏ_５／ＳｉＯ_２が０〜１、モル比Ａｌ_２Ｏ_３／ＳｉＯ_２が０．０１〜１、モル比Ｎａ_２Ｏ／Ａｌ_２Ｏ_３が０．１〜５であると共に、強化処理後にエッチングにより切断され、表面又は端面はエッチングされてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高い機械的強度を有しつつ、軟化点が低い強化ガラスを創案することにより、特定形状、例えば曲面形状を有する化学強化ガラスおよび化学強化用ガラスを提供する。
【解決手段】表面に圧縮応力層を有する強化ガラスであって、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ４５〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜３０％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ０．１〜３０％含有し、且つβ−ＯＨ値が０．３〜１／ｍｍであり、平板形状以外の形状を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】無欠陥かつ高い平坦性を有する低膨張のチタニアをドープ石英ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】ケイ素源原料ガス及びチタン源原料ガスを混合し、２００〜４００℃で加熱した後、可燃性ガス及び支燃性ガスにより酸化又は火炎加水分解させることを特徴とするチタニアドープ石英ガラスの製造方法。表面に体積３０，０００ｎｍ³以上の凹状欠陥がないＥＵＶリソグラフィ用部材、特にＥＵＶリソグラフィフォトマスク用基板として好適なチタニアドープ石英ガラスを得ることができる。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板やプラスチック基板上に薄膜を低温で大面積で形成できるなどの有用性も期待できる、低い仕事関数を持ちながら導電性を有し、かつ非晶質である酸化物材料を提供する。
【解決手段】Ｃ１２Ａ７系酸化物の組成を有し、電子濃度２×１０¹⁸／ｃｍ³以上２．３×１０²¹／ｃｍ³以下を包接する、Ｃ１２Ａ７系酸化物を溶媒とし電子を溶質とする溶媒和からなる融液であり、金属的な電気伝導性を示す導電性酸化物融液、あるいは非晶質固体物質であり、また半導体的な電気伝導性を示す導電性酸化物ガラス。このガラス材料は、仕事関数が３．０〜４．１ｅＶであり、上記融液を酸素分圧１Ｐａ以下の還元雰囲気中で非晶質の固体が形成される冷却速度で冷却凝固することにより得られる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、誘電加熱により化学強化ガラスを切断する速度を上昇させて、ガラス板の生産効率を向上することを課題とする。
【解決手段】本発明は、下記工程（１）および（２）を含むガラス板の製造方法に関する。
（１）Ａｌ_２Ｏ_３を３モル％以上含有し、Ｌｉ_２ＯおよびＮａ_２Ｏの少なくとも一方を含有し、アルカリ金属の酸化物の総含有量Ｒ_２Ｏに対するＬｉ_２ＯまたはＮａ_２Ｏの含有量のモル比Ｌｉ_２Ｏ／Ｒ_２ＯまたはＮａ_２Ｏ／Ｒ_２Ｏが、０．９以上であるアルミノシリケートガラスを化学強化して化学強化ガラス板を得る工程
（２）工程（１）で得られた化学強化ガラス板の所定領域に交番電界を印加することによって、該所定領域を徐冷点以下の温度で誘電加熱し、化学強化ガラス板の表面上の切断予定線に沿って交番電界を印加する領域を移動させることで、該化学強化ガラス板を切断する工程 （もっと読む）

【課題】ガラス表面を粗面化することなく、十分な表面強度を有して、可視域を超える広い範囲でフラットな透過率特性を有する光拡散ガラス部材を提供する。
【解決手段】ガラス中に結晶相を有し、酸化物換算による重量％表示で、ＳｉＯ_２を３５〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜８．０％、Ｂ_２Ｏ_３を１５〜３５％、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏ、Ｌｉ_２Ｏから選択される成分を全体で３〜１０％、ＣａＯ、Ｙ_２Ｏ_３から選択される成分を全体で６〜２０％、及び、Ｓｂ_２Ｏ_３を０〜１％、を含有して構成され、厚さ２．０ｍｍの部材で評価して、波長４００ｎｍ〜２５００ｎｍについて全光線平均透過率が５〜５０％であり、前記全光線平均透過率に対する透過率偏差の平均値が、４００ｎｍ〜２５００ｎｍの波長領域において４．０％以下である。 （もっと読む）

【課題】透過率の極小領域の近くに極大領域が存在し、その極大領域の透過率が高い光学ガラスフィルタを提供する。
【解決手段】酸化物換算による重量％表示で、ＳｉＯ_２を１２％〜４５％、Ｂ_２Ｏ_３を１０％〜４０％、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜９．０％、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏの任意の組合せを総量で１％〜１０％、ＢａＯ、ＣａＯ、ＭｇＯ、ＳｒＯ、ＺｎＯの任意の組合せを総量で１％〜４０％、Ｙ_２Ｏ_３を０％〜２０％、ＺｒＯ_２を０％〜７．０％、及び、Ｈｏ_２Ｏ_３を１．０％〜２０．０％含有し、波長範囲２７０〜３００ｎｍに透過率の極小点を有し、この極小点より低波長側１０ｎｍの波長範囲内に、極小点の透過率の二倍以上の透過率を有する極大点を有する。 （もっと読む）