【課題】 シーメンス法またはモノシラン法を利用し、太陽電池用原料に見合った純度を満足する多結晶シリコンを、安価に安定して得ること。
【解決手段】 太陽光発電用多結晶シリコン原料は、高温下、密閉した反応炉中の灼熱したシリコン種棒上に原料シランガスを供給し、熱分解または水素還元して得られる多結晶シリコンであって、導電型がｐ型またはｎ形で、抵抗率が３〜５００Ωｃｍ、ライフタイムが２〜５００μ秒で、太陽光発電用シリコンウェーハの製造に使用される。 （もっと読む）

金属酸化物および金属を記載。この金属酸化物および金属、例えばシリカは、好ましくは除去可能な鋳型を取り除いて金属酸化物または金属材料を獲得することによって得られる。この材料の用途および使用法についてさらに述べる。
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【課題】部品点数の増加を招くことなく基材の交換の容易性を保持しつつ、真空吸着した基材の落下を防止する。
【解決手段】浸漬面５２ａに対向する面に突起部５２ｂを有する基材５２と、突起部５２との係合面に吸引孔８１の一端が開口されている基材受け台５０と、吸引孔８１のガスを排出して突起部５２ｂを基材受け台５０に真空吸着させる真空吸着機構８と、を備え、突起部５２ｂと基材受け台５０のアリ溝５０ａとを係合させた状態で基材受け台５０に基材５２を真空吸着させる。 （もっと読む）

【課題】 ガスバリア付与性、アンチブロッキング性、滑り性、流動性改質性など、幅広い特性を示し、種々の用途に好適に適用される表面被覆粒子を提供する。
【解決手段】 バーミキュライトの酸処理によって得られた非晶質シリカからなる核粒子と、Ｍｇ、Ｃａ及びＺｎからなる群より選択された少なくとも１種の元素成分の酸化物、水酸化物または炭酸塩の被覆層とからなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 冷却体表面に凝固析出して生成される析出板の自壊による破片を適正処理し、析出板の生産に対して悪影響を及ぼすことを防止する。
【解決手段】 溶解炉２４でシリコンを加熱して溶湯２３にし、析出板生成の原板である冷却体２５を、浸漬手段２６によって溶湯中へ浸漬し溶湯中から引上げてシリコンを冷却体の表面に凝固析出させてシート状シリコン２７を製造する。このシート状シリコンの製造に際し、冷却体が溶湯上方位置から離反する方向へ搬送される搬送経路途中に設けられる落下物受容手段２８が、冷却体から離脱して落下するシート状シリコンを受容し、落下物再投入手段２９が、落下物受容手段によって受容されたシート状シリコンを、溶解炉の坩堝３２内へ移動させる。 （もっと読む）

本発明は、反応中心を含有する、０．７０≦ｙ≦０．９５、特には０．７０≦ｙ≦１．８０、もっとも特には１．０≦ｙ≦１．８であるＳｉＯ_ｙフレーク、その製造方法及び化学的に変性したＳｉＯ_ｙフレークの使用に関する。 （もっと読む）

本発明は、ＴｉＯ₂／ＳｉＯ_y（０．０３≦ｙ≦１．９５、特に０．０３≦ｙ≦１．８、とりわけ０．７０≦ｙ≦１．８）又はＴｉＯ₂／金属、特にＴｉＯ₂／Ａｌを焼成することによって得られる層を含む小板形の顔料ならびに塗料、織物、インクジェット印刷、化粧品、コーティング、プラスチック、印刷インク、セラミックスやガラスのためのうわぐすり及びセキュリティ印刷におけるその使用に関する。本発明の顔料は、高い光沢及び非常に均一な厚さによって特徴付けられ、その結果、非常に高い色の純度及び色の濃さが得られる。
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【課題】 本来有する優れた吸着特性や通水性をそこなうことなく、できるだけ大きい平均粒子径、狭い粒子分布範囲及び大きい空隙率すなわち気孔率を有する新規なケイ酸系高活性吸着性材料を提供する。
【解決手段】 長方薄片状又は繊維状の一次粒子が三次元的に絡合して形成され、平均細孔径２〜２０ｎｍ、空隙率０．９２〜０．９９、透過率２．０〜１０．０Ｄａｒｃｙ、全細孔体積が０．３〜４．０ｍｌ／ｇ及び平均粒子径７０〜２００μｍを有するケイ酸系凝集体からなるケイ酸系高活性吸着性材料とする。 （もっと読む）

【課題】 葉状シリカ２次粒子のスラリーを簡便な手法によりその水スラリー中での状態を保持したたまま、乾燥し、シリカ薄片１次粒子及び／又は葉状シリカ２次粒子からなる高度に単分散したシリカ粒子粉末を提供する。
【解決手段】 （ｉ）シリカヒドロゲル等を、アルカリ金属塩の存在下に水熱処理し、その鱗片状シリカ３次凝集体粒子を形成し、（ｉｉ）シリカ３次凝集体粒子を、水系スラリー状態で、解砕・分散化して、シリカ薄片１次粒子及び／又は葉状シリカ２次粒子からなる水系スラリーを形成し、（ｉｉｉ）その水系スラリーに、シリコン系化合物水系エマルションを添加・混合してスラリー状態で処理し、（ｉｖ）これを乾燥させ、（ｖ）乾式解砕することにより高度に単分散した乾燥シリカ粒子粉末を提供する。 （もっと読む）

本発明によれば、線形溶融ゾーンからの成長によって半導体リボンを連続的に製造するための方法が提供される。溶融ゾーンの生成は、前記材料を融解させるだけの十分に強烈な直流電流又は交流電流を好ましくは前記材料の電極を使用してリボンの表面に平行に、且つ、成長の方向に直角に印加することによって達成される。溶融ゾーンは、原料が融解する１つ以上のリザーバからの液体状態の材料の移動によって供給される。前記電極及び前記１つ以上のリザーバは、前記材料によってのみ構成されることが好ましく、それにより異物による汚染が回避される。本発明は、例えば光起電性用途のためのシリコン・リボン製造産業に適用することができる。

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本発明は、一つの底面部材２と四つの側面部材３とを組み合わせた鋳型であって、各側面部材３の側部には側面部材３同士を結合するための凸部５と凹部６を備え、隣接する側面部材の凸部５と凹部６を嵌め合わせる構造を有する。一つの底板２と四つの側板３を組み立てる場合に、これらを固定のためのネジ、ボルトを使用せずに鋳型の組み立て解体作業を行うことができ、鋳型の組み立て解体の作業が飛躍的に簡素化し、作業効率が大幅に向上する。 （もっと読む）

無機酸化物を核とし、その表面に酸化チタンが担持された積層多孔質酸化チタンであって、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）で測定された無機酸化物の構成金属（Ｍ）及びチタン（Ｔｉ）の合計に対するチタン（Ｔｉ）の存在比｛Ｂ＝Ｔｉ_ＸＰＳ／（Ｔｉ_ＸＰＳ＋Ｍ_ＸＰＳ）｝と無機酸化物の構成金属（Ｍ）及びチタン（Ｔｉ）の合計に対するチタン（Ｔｉ）のバルク混合モル比｛Ａ＝Ｔｉ／（Ｔｉ＋Ｍ）｝との比で表されるチタン偏在指数（Ｂ／Ａ）が１．６以上であり、前記酸化チタンが無機酸化物の表面にこの無機酸化物と化学的及び／又は微視的に一体となって担持されている積層多孔質酸化チタン、及びその製造方法、並びにこれを用いた触媒であり、制御された細孔構造を有すると共に高比表面積で機械的強度に優れており、触媒として、あるいは、触媒担体として有用なものである。 （もっと読む）

本発明は乾燥した沈降シリカから製作される熱及び又は音響絶縁板材の製造方法に関し、フィルタプレスにより沈降シリカ粒子を含有する水性分散体を圧縮ろ過して圧縮ろ過ケーキを形成し、次いで得られた圧縮状態の前記ろ過ケーキを乾燥することより乾燥沈降シリカを製造する。本発明はまた乾燥沈降シリカを用いて熱及び／又は音響絶縁材料、例えば耐熱材又は高温耐熱材を製造する方法に関する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、表面化学修飾基を多量に含み、膜乳化に適した細孔を有する多孔質シリカ膜を提供する。
【解決手段】本発明は、SiO₂を主成分とし、０．３〜５０ミクロン、及び５０ナノメートル以下の細孔を有する膜乳化用多孔質シリカ膜である。発明の多孔質シリカ膜は、相分離を利用したゾル―ゲル法によって調製することが好ましい。 （もっと読む）